よくある質問 - Kf Iso Cf のための超高真空のフランジの航空プラグのガラスによって焼結させる気密の円のコネクター

生物学研究、材料科学、半導体製造、医療用途における実験室用真空システムの重要な用途を探る。

ラボ用真空ポンプが、精密かつ信頼性の高いろ過、脱気、材料試験用の制御された環境をどのように作り出すかをご覧ください。

CVDがどのように均一なコーティング、高い成膜速度、先端製造やナノテクノロジーにおける材料の多様性を可能にしているかをご覧ください。

PecvdにおけるRfとは？低温薄膜蒸着の鍵

半導体、光学、その他における精密な低温薄膜形成のためのPECVDに、RFがどのように電力を供給しているかをご覧ください。

電気ヒーターがジュール発熱によって電気を熱に変換する仕組み、材料の選択、さまざまな産業での用途についてご紹介します。

システム内の真空圧を効果的に高めるための、ポンピング速度の調整方法とガス導入量の制御方法をご紹介します。

CVD材料：半導体、航空宇宙、医療機器向けの汎用性の高い薄膜コーティングで、耐久性と精度を提供します。

真空熱処理がどのように酸化を防止し、材料の完全性を高め、高純度用途で従来の方法よりも優れているかをご覧ください。

黒鉛炉の欠点とは？考慮すべき主な欠点

高コスト、酸化の危険性、可搬性の制限など、黒鉛炉の欠点を探り、研究室にとって十分な情報を得た上での決断を下す。

MPCVD膜が、高純度でスケーラブルなコーティングにより、エレクトロニクス、光学、医療機器、エネルギー用途をどのように強化するかをご覧ください。

PECVD成膜に最適な圧力範囲（0.1～10Torr）と、成膜の均一性とプラズマ安定性への影響についてご紹介します。

マッフル炉が材料試験、灰化、焼結の用途において、いかに精密で汚染のない加熱を提供するかをご覧ください。

PVDとCVDのコーティング技術を比較し、純度、適合性、コストに基づいて、お客様の用途に最適な方法を決定します。