制御された環境下での精密な材料加工を可能にするKINTEKの先進的な雰囲気炉をご覧ください。カスタマイズ可能なソリューションで、焼結、アニール、研究に最適です。
KINTEKの先進的な真空炉で、精密かつ高純度な高温処理をお試しください。焼結、ろう付け、熱処理など、研究・産業用途に最適です。
精密な高温処理を実現するKINTEKの先進管状炉をご覧ください。当社のカスタマイズ可能なソリューションには、RTP、マルチゾーン、PECVD、真空管状炉などがあり、多様なラボ用途に対応します。
KINTEKの精密焼結・材料接合用先進ホットプレス炉をご覧ください。セラミック、金属、複合材料用の高温高圧ソリューション。ラボのニーズに合わせてカスタマイズ可能です。
精密セラミック修復のための KINTEK の先進的な歯科用ファーネスをご覧ください。高温制御、バキュームテクノロジー、歯科技工所向けのカスタマイズ可能なソリューション。
均一な加熱と連続処理が可能な KINTEK の先進的な回転式管状炉をご覧ください。最高1700°Cまでカスタマイズ可能なソリューションで、脱炭酸、焼結、材料研究に最適です。
KINTEKの高純度金属加工用プレミアム真空誘導炉をご覧ください。高度な2200℃加熱、精密な真空制御、研究および生産ニーズに対応するカスタマイズ可能なソリューション。
KINTEKのマルチゾーン管状炉は、先端材料研究、CVD、半導体用途向けに、カスタマイズ可能な加熱ゾーンを備え、最高1700℃までの精密な温度制御を提供します。
KINTEKの回転炉は、熱分解、脱炭酸、PECVD用途に最高1800℃の精密加熱を実現します。研究室や産業界のニーズに合わせたカスタマイズが可能です。
KINTEK の精密な高温用途向け高級分割管炉をご覧ください。カスタマイズ可能な設計、急速加熱、優れた温度制御により、高度なラボニーズに対応します。
KINTEKの縦型管状炉は、CVD、結晶成長、材料研究のためのカスタマイズ可能なソリューションで、最高1800°Cの精密加熱を提供します。先進的な研究室向けの省スペースの縦型設計。
KINTEKの回転炉は、バイオマス熱分解、材料焼成、薄膜蒸着などの精密高温処理を提供します。ラボ用および生産用のカスタマイズ可能なソリューションです。
KINTEKの精密熱処理、焼結、ろう付け用水平真空炉をご覧ください。金属、セラミック、複合材料に対応し、コンタミのないカスタマイズ可能なソリューションです。
KINTEKの高品質薄膜形成用先進CVD装置をご覧ください。半導体、光学、先端材料研究に最適です。カスタムソリューションも可能です。
KINTEKの精密高温用プレミアムマッフル炉をご覧ください。冶金、セラミック、製薬の研究室に最適です。カスタムソリューションも可能です！
KINTEKの高純度ダイヤモンド成長および薄膜形成用MPCVD装置をご覧ください。カスタマイズ可能なソリューションで、研究および産業用途向けに精密に設計されています。
KINTEKの高度な真空ホットプレスソリューションをご覧ください。2800℃までカスタマイズ可能で、金属、セラミック、複合材料に最適です。今すぐご覧ください！
半導体、太陽電池、ナノテクノロジー分野での精密薄膜形成のためのKINTEKの先進的なPECVD装置をご覧ください。カスタムソリューションもご用意しています。
KINTEKの電気式ロータリーキルンは、脱炭酸、熱分解などに最高1100℃の精密加熱を提供します。エネルギー効率に優れ、ラボや産業用途向けにカスタマイズ可能なソリューションです。今すぐ検索
KINTEKの歯科技工用先進ポーセレン炉をご覧ください：精密焼結、カスタマイズ可能な焼成サイクル、高速9分ジルコニア処理。今すぐセラミック修復を向上させましょう！
KINTEKの高効率熱処理用連続炉をご覧ください。真空ロウ付け、焼結、熱処理に最適な回転式管状炉およびキルン炉は、最高1600℃の精度とカスタマイズ可能なソリューションを提供します。
MoSi2およびSiCオプションを含む、電気炉用の高性能ヒーターエレメントをご覧ください。カスタムソリューションもご利用いただけます。