スプリットチューブ炉

精密な温度制御と試料への容易なアクセスを提供する分割管炉は、高温実験室用途に不可欠です。当社の製品レンジは以下の通りです：

1200℃分割管炉:石英管との互換性とカスタマイズ可能な加熱ゾーンが特徴です。
RTP加熱管状炉:最大100℃/秒の急速加熱が可能で、時間に制約のある実験に最適。
マルチ加熱ゾーン回転式管状炉:傾斜角度の調節と360°回転が可能で、均一な加熱が可能です。
縦型石英管状炉:CVDや結晶成長用途に適しています。
マルチゾーン管状炉:最大10ゾーンの精密温度制御が可能で、先端材料研究に最適です。

これらの炉は化学蒸着、焼結、黒鉛化などの用途向けに設計されており、研究および工業の両分野で信頼性の高い性能を発揮します。

精密高温アプリケーション用の高度な分割管炉

KINTEK の分割式管状炉は、最新の研究室や工業プロセスの厳しいニーズに対応するように設計されています。これらの炉は独自の分割設計を採用しており、加熱室へのアクセスが容易なため、サンプルの出し入れが大幅に簡素化されます。この設計は、複雑な実験セットアップや大きな試料に特に有効で、操作のダウンタイムを短縮し、効率を高めます。

主な特徴と利点

カスタマイズ可能な加熱ゾーン:当社のスプリット管状炉では、1、2、3、または5つの加熱ゾーンを選択でき、加熱長さは200～600mm、直径は40～100mmです。この柔軟性により、お客様のご要望に合わせた正確な温度制御が可能になります。
高温性能:最高温度 1200°Cの炉は、材料試験、熱分解、化学気相成長 (CVD) などの幅広い高温用途に対応できます。
二層強制空冷:この機能により安全な炉内温度を確保し、オーバーヒートを防止して炉の寿命を延ばします。
空圧ダンパーストラット:空圧ストラットを装備したヒンジ設計により、炉の開閉がスムーズで楽になり、ユーザーの利便性と安全性が向上します。
多様な用途:引張試験、セラミックの焼結、薄膜の蒸着など、当社の分割管式炉は必要な信頼性と精度を提供します。

仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱は炉管を通してワークまたは媒体に伝わります。このプロセスにより、安定した均一加熱が保証され、一貫した実験結果を得るために不可欠です。スプリット式なので、チャンバーへの素早いアクセスが可能で、温度の安定性を損なうことなく、複雑なセットアップや大型サンプルの取り扱いが容易になります。

KINTEKを選ぶ理由

KINTEK では、卓越した研究開発と自社製造を組み合わせることで、高品質でカスタマイズ可能な炉ソリューションを提供しています。当社のスプリット管炉は、お客様のニーズを念頭に置いて設計されており、以下のような特長を備えています：

カスタマイズ:加熱ゾーンから管材質に至るまで、お客様独自の実験要件に合わせて炉をカスタマイズできます。
優れた耐久性:過酷な使用にも耐えるよう設計されており、長期にわたる信頼性を保証します。
専門家によるサポート:当社の専門家チームが、セットアップ、メンテナンス、トラブルシューティングをいつでもサポートします。

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FAQ

分割管炉の一般的な用途は?

分割管炉は一般的に、材料試験 (引張試験など)、有機材料の熱分解、薄膜堆積のための化学蒸着 (CVD)、炭素含有材料の黒鉛化、セラミックの焼結などに使用されます。これらの用途では、分割管炉が提供する精密な温度制御と容易な試料ハンドリングが役立ちます。

スプリット管炉の主な特徴は？

分割式管状炉は通常、1、2、3、または 5 加熱ゾーンから選択でき、加熱長さは 200 ～ 600 mm、加熱直径は 40 ～ 100 mm です。安全なケース温度を確保するために二重の強制空冷が装備され、加熱源として最高1200℃に達する加熱コイルが使用されます。炉は円筒管を縦に分割して設計され、多くの場合、ヒンジで結合された2つの半分に分割され、スムーズな動作のために空圧ダンパー支柱が装備されています。

スプリット管炉の仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱を炉管内のワークまたは媒体に伝えます。このプロセスにより安定した均一加熱が保証されるため、様々な工業用途や実験用途に適しています。炉は複数の加熱ゾーンを設定でき、安全な外部温度を維持するための強制空冷などの機能も備えています。

分割型管状炉を使用する利点は何ですか?

スプリット管状炉の主な利点には、試料や機器の搬出入の簡素化、操業停止時間の短縮、効率の向上などが挙げられます。スプリット式は炉室への素早いアクセスを可能にし、頻繁な交換や複雑な実験設定を必要とする用途に特に有益です。さらに、空圧ダンパー支柱や複数の加熱ゾーンなどの機能により、使いやすさと性能がさらに向上します。

スプリット管炉の到達温度は?

スプリット管炉は最高温度1200℃に達することができ、材料合成、CVD、焼結などの高温用途に適しています。炉は加熱コイルを熱源として使用し、運転中の安全な外部温度を維持するための二重層強制空冷を備えています。

管状炉の分割設計が有益な理由は？

管状炉の分割型設計は、炉室への迅速かつ容易なアクセスを可能にする点で有益です。この設計は、多くの場合、空気圧式ダンパー支柱を備えた2つのヒンジ式ハーフを特徴としており、複雑なセットアップや大型試料の取り扱いを簡素化し、運転休止時間を短縮し、特に頻繁な変更や複雑な構成を必要とする用途において全体的な効率を高めます。

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