製品 High Temperature Furnaces Tube Furnace 研究用石英管状炉 RTP加熱管状炉
研究用石英管状炉 RTP加熱管状炉

Tube Furnace

研究用石英管状炉 RTP加熱管状炉

商品番号 : KT-RTP

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1100℃
加熱ゾーンの長さ
300~800 mm
温度制御精度
±1℃
ISO & CE icon

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見積り

RTP 急速加熱管状炉: 外観と主要コンポーネント

KINTEKのRTP急速加熱管状炉は、急速な温度変化と精密な制御が要求される用途向けに設計されています。CVDによる大規模グラフェン成長、温度センサーの校正、材料試験、各種熱処理などのプロセスに広く使用されています。この炉は、制御された雰囲気環境または高真空での運転が可能で、理想的な熱処理チャンバーを形成します。

製品イメージと初期詳細

RTPファーネス詳細図

RTPファーネスのコンポーネント RTPファーネス操作詳細

製品特徴図

1.温度制御テーブルの特徴プログラム可能な30の自動制御セグメント、超高温および熱電対破損保護機能付き。

2.2.高品質の炉床材料:輸入多結晶セラミック繊維を採用し、粉末の脱落がなく、断熱性に優れ、反射率が高く、温度場がバランスし、熱膨張/収縮に強く、容量が大きく、多機能の焼結能力を確保します。

3.ハイエンド発熱体高純度発熱体とファイバーハースを採用し、内部を清浄化。

高度な熱処理を可能にする主な機能

当社のRTP急速加熱管状炉は、要求の厳しい研究・生産環境に合わせた卓越した性能を提供します:

  • 比類のない加熱・冷却速度: 最高100℃/秒の加熱速度により、目標の高温を最短時間で達成(例:約1分で1000℃に到達)。また、最高110°C/秒の冷却速度も同様です。急速冷却は、加熱・断熱チャンバーから炉管を効率的にスライドさせることで達成され、このプロセスはオープンエア環境で制御された高速循環空気によってさらに加速されます。
  • 精密な温度管理: 戦略的に配置された温度センサーがサンプルホルダーと直接接触することで、高精度の温度制御と信頼性の高い表示を実現します。システムは、優れた制御精度と安定した加熱性能を実現するPIDプログラマブル温度制御を備え、遠隔および集中制御をサポートします。
  • 多様な雰囲気制御 多様な真空ポンプステーションの設定により、制御雰囲気下または高真空環境下での炉の運転が可能で、お客様のニーズに合わせた理想的な熱処理チャンバーの構築が可能です。
  • ユーザー中心の堅牢設計
    • 便利なスライドレール方式で炉管フランジを保持し、炉の加熱断熱室から炉管を容易に引き出せます。
    • 炉内シェルと炉外シェル間の強制気流を利用した二重炉シェル設計により、炉表面温度を低く維持し、オペレーターの安全性と快適性を高めます。
    • RTP Proモデルには7インチTFTタッチスクリーンコントローラーが装備され、プログラム設定、履歴データ分析、異なるプログラムレシピの保存・選択など、より使いやすいインターフェースを提供します。

KINTEKのRTP炉を選ぶ理由

KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、多様な研究室に先進の高温炉ソリューションを提供しています。RTP急速加熱管状炉は、以下のような特長を備えています:

  • スループットの向上: 業界トップクラスの加熱・冷却速度により、処理時間を劇的に短縮します。
  • 信頼性と再現性の高い結果: 精密な温度制御と高品質の部品により、実験と生産の一貫性を確保します。
  • 作業効率: ユーザーフレンドリーな機能と堅牢な設計により、セットアップ時間とメンテナンスの必要性を最小限に抑えます。
  • ニーズに合わせたカスタマイズ KINTEKは、このRTP炉の包括的な機能だけでなく、独自の実験要件に的確に対応する高度なカスタマイズ能力にも優れています。当社の幅広い製品ラインには、マッフル炉、標準管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉、特殊CVD/PECVD/MPCVDシステムなどがあります。

お客様の熱処理能力を向上させる準備はできていますか? 当社のスペシャリストにご連絡ください。 お客様の具体的な用途についてのご相談、カスタマイズオプションの検討、または個別のお見積もりのご依頼を承ります。お客様に最適な炉をご提案いたします。

用途

RTP 急熱管状炉は高速加熱・冷却用途に設計されています。以下の分野で広く使用されています:

  • グラフェンの成長:RTP炉は、制御された雰囲気中でグラフェン前駆体を高温に加熱し、グラフェンの成長を促進するために使用されます。
  • 温度センサーの校正:RTP炉は温度センサーを正確に制御された温度にさらすことで、温度センサーの校正に使用できます。
  • 材料試験RTP 炉は融点や熱伝導率など、材料の熱特性の試験に使用できます。
  • 熱処理:RTP 炉は材料の強度や硬度などの特性を向上させる熱処理に使用できます。
  • アニール高温に加熱した後、ゆっくりと冷却して応力を緩和し、延性を向上させます。
  • ろう付け:RTP 炉は材料のろう付けにも使用でき、材料を高温に加熱して溶加金属を溶かし、接合します。
  • 焼成:RTP 炉は材料の焼成にも使用でき、高温に加熱して揮発性成分を除去します。
  • セラミックRTP 炉はセラミックの焼成にも使用でき、セラミックを高温に加熱して硬化・強化します。
  • 洗浄RTP 炉は高温に加熱して汚染物質を除去することで、材料の洗浄にも使用できます。
  • 結晶成長:RTP 炉は、材料を高温に加熱した後、ゆっくりと冷却して結晶を形成させることにより、結晶を成長させるために使用できます。
  • 焼成:RTP 炉は材料の焼成にも使用でき、材料を高温に加熱して硬化・強化します。
  • ガラスRTP 炉はガラスの溶融およびアニールにも使用でき、高温に加熱してから徐冷することで応力を緩和し、強度を向上させます。
  • 勾配加工:RTP 炉は温度勾配の形成に使用でき、材料に及ぼす温度の影響を研究するのに利用できます。
  • 熱処理:RTP炉は材料の強度や硬度などの特性を向上させるための熱処理に使用できます。
  • 研究室での研究RTP 炉は材料科学、化学、物理学など様々な実験室研究用途に使用されます。
  • 材料試験RTP 炉は融点や熱伝導率など、材料の熱特性の試験に使用されます。
  • 溶解:RTP 炉は金属やプラスチックなどの材料の溶解に使用できます。
  • 粉末:RTP 炉は粉末の加熱・冷却に使用され、新材料の開発や既存材料の特性変更に利用されます。

技術仕様

炉型式 KT-RTP KT-RTP Pro
温度コントローラー デジタルPIDコントローラー タッチスクリーンPIDコントローラー
マルチプログラムプリセット いいえ はい
停電時の再起動 いいえ はい
最高温度 1100℃
一定作業温度 1000℃
炉心管材料 高品位石英/ Al2O3アルミナ
炉管の直径 50 / 60 / 80 / 100 mm
加熱ゾーンの長さ 300 / 450 / 600 / 800 mm
真空シール SS304フランジと銅製シールリング
定格真空圧 0.001Pa/10E5 torr
チャンバー材質 日本Al2O3アルミナファイバー
発熱体 Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル
温度センサー K型サーマルカップル内蔵
温度制御精度 ±1℃
電源 AC110-220V、50/60Hz
他の炉の管サイズと加熱ゾーンの長さはカスタマイズすることができます。

高度な安全機能

  • Kindle の技術管の炉は現在の保護におよび温度の警急機能上の所有します、炉は検出される流れに一度力を自動的に消します
  • 熱カップルの検出機能で炉を構築し、炉は加熱を停止し、熱カップルが壊れたり、故障が検出されると、アラームが点灯します。
  • RTP Proサポート停電再始動機能、停電後電源が入ると炉は加熱プログラムを再開します。

標準パッケージとカスタマイズオプション

標準パッケージ

いいえ 説明 数量
1 1
2 アルミナ管 1
3 真空フランジ 2
4 チューブサーマルブロック 2
5 チューブサーマルブロックフック 1
6 耐熱グローブ 1
7 取扱説明書 1

オプション設定

  • H2、O2 などの管内ガス検知および監視
  • 独立した炉内温度のモニタリングと記録
  • RS 485 通信ポートによる PC の遠隔操作とデータのエクスポート
  • 質量流量計やフロート流量計のような流量制御を供給するインサートガス
  • タッチスクリーン式温度調節器と多彩なオペレーターフレンドリー機能
  • ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプのような高真空ポンプステーションのセットアップ

特定の実験ニーズに合わせてRTP炉をカスタマイズすることも可能です。 お客様のご要望を当社の専門家 KINTEK炉がお客様の研究・生産目標に完全に合致することを保証します。

FAQ

管状炉とは何ですか?

管状炉は、熱源を通して熱を発生させ、その熱を炉管を通してワークまたは媒体に伝える加熱装置です。様々な工業用途に適した安定した均一加熱を実現します。温度制御システムは熱電対やその他のセンサーで炉の温度を監視し、その信号を制御装置にフィードバックして発熱体の出力を調整し、正確な温度制御を維持します。

縦型管状炉とは

縦型管状炉は垂直方向に設計された高温加熱装置で、正確な温度制御、均一な加熱、効率的なエネルギー使用を実現します。その縦型設計は省スペースで、特に縦型設置が有利なプロセスに役立ちます。

回転式管状炉の主な用途は?

回転式管状炉は、均一加熱と連続混合が不可欠な粉末冶金、材料混合、化学反応に広く使用されています。回転式管状炉は特に粒状または粉末状の材料の処理に効果的です。

マルチゾーン管状炉の主な用途は?

マルチゾーン管状炉は、半導体・電池製造、熱電対・鉱物絶縁ケーブル製造、真空ロウ付け・熱処理、真空硬化・焼結、水・廃棄物・土壌試験、航空宇宙セラミック・金属試験、石油・ガス分析、固体酸化物燃料電池、高分子複合材料・グラフェン製造など、様々な商業・研究用途で使用されています。また、金属の熱処理(焼き入れ、焼き戻し、焼きなまし)、溶接の予熱、セラミック/粉末冶金の焼結、コーティング処理、材料研究実験などにも使用されています。

ホットプレス炉の原理は?

ホットプレス焼結炉は、真空環境下で高温と高圧を組み合わせて材料を焼結する。加圧下で溶融・融解するセラミック粉末に特に効果的です。このプロセスでは、制御された温度と圧力を利用して、材料の均一な流動と強固な結合を確保し、多くの場合、酸化を防ぐために真空環境下に置かれます。

分割管炉の一般的な用途は?

分割管炉は一般的に、材料試験 (引張試験など)、有機材料の熱分解、薄膜堆積のための化学蒸着 (CVD)、炭素含有材料の黒鉛化、セラミックの焼結などに使用されます。これらの用途では、分割管炉が提供する精密な温度制御と容易な試料ハンドリングが役立ちます。

回転炉の原理は?

回転炉は軸を中心に回転する円筒形をしており、装入物が端から端まで移動しやすいようにわずかに傾斜しています。この設計により、混合と均一加熱が促進されます。熱は通常、原料の流れと逆流する方向に流れる高温ガスによって供給されます。

歯科用ファーネスは何に使用されますか?

歯科用ファーネスは、主に歯科技工所でジルコニアなどの歯科用セラミックを焼結し、クラウン、ブリッジ、インプラントなどの高品質な歯科修復物を製作するために使用されます。精密な温度制御と一貫した結果を保証し、耐久性と審美性に優れた補綴物を実現します。

管状炉の主な用途は?

管状炉は真空または大気条件下でのガス急冷試験、合成や精製を含む熱処理用途、無機または有機化合物の酸化、拡散、脱炭酸、熱アニールなどに広く使用されています。また、加熱・冷却速度の制御が必要な材料試験、熱処理、化学反応にも使用されます。縦型管状炉は、試料を炉の上部から投入するプロセスに特に適しています。

竪型管状炉の用途は?

縦型管状炉は、加熱・冷却速度の制御を必要とする材料試験、熱処理、化学反応に広く使用されています。また化学工学では合成樹脂、ゴム、塗料、染料の製造に、食品工業では焼成、乾燥、殺菌に、冶金では製錬、溶解、熱処理プロセスに使用されます。

回転式管状炉の主な特徴は?

回転式管状炉は、均一な熱分布と試料の徹底的な混合を保証する回転機構を備えています。連続処理用に設計され、多様な試料量に対応します。通常、炉には複数の加熱ゾーン、回転および傾斜可能な炉管があり、最高温度は1200℃に達します。

マルチゾーン管状炉の主な特徴は?

主な特徴は以下の通りです:1) 柔軟なアニーリングおよび化学蒸着機能、2) 最大60mm (2インチ) までの試料の収容、3) ガス供給が容易な内蔵マニホールド、4) 端部が低温で中央部が均一加熱の自然な温度勾配、5) 様々なガスまたは真空条件への適応性、6) 正確な温度プロファイルのための複数の独立制御加熱ゾーン。

ホットプレス炉の用途は?

ホットプレス炉は、焼結・圧密、粉末冶金、材料研究、半導体製造、セラミック加工、グラフェン合成、複合材料製造、ダイヤモンド合成、研究開発などに使用されます。

スプリット管炉の主な特徴は?

分割式管状炉は通常、1、2、3、または 5 加熱ゾーンから選択でき、加熱長さは 200 ~ 600 mm、加熱直径は 40 ~ 100 mm です。安全なケース温度を確保するために二重の強制空冷が装備され、加熱源として最高1200℃に達する加熱コイルが使用されます。炉は円筒管を縦に分割して設計され、多くの場合、ヒンジで結合された2つの半分に分割され、スムーズな動作のために空圧ダンパー支柱が装備されています。

回転炉を使用する利点は何ですか?

回転炉には、高いエネルギー利用率、多様な原料への柔軟な対応、バッチ炉としての機能、高い生産能力、鉛回収率の向上、環境への配慮、少ない工数で使いやすい操作性などの利点があります。

歯科用ファーネスの主な特徴は?

歯科用ファーネスの主な特徴には、正確な温度範囲と制御、プログラム可能性、コンタミネーションのない加工のための真空技術、効率的な冷却システム、ユーザーフレンドリーなインターフェースなどがあります。自動シャットダウン、緊急停止ボタン、過熱保護などの安全機能も不可欠です。

管状炉を使用する利点は?

管状炉には、成熟した技術、シンプルな炉構造、低い消費電力、高い熱効率、容易な操作と制御、連続生産能力、精密な温度制御、均一な温度分布、異なる雰囲気への適応性などの利点があります。また、製品の歩留まりが高く、製品濃度が高く、分解ガスや排ガスをほとんど回収できる。複数の炉を組み合わせて大規模生産も可能です。

縦型管状炉の利点は?

竪型管状炉は横型炉に比べて設置面積が小さいため、スペースの限られた研究室に最適です。また、効率的で省エネルギーな運転、精密な温度制御、柔軟な使用方法、操作の容易さ、安全性、信頼性、環境基準への適合も実現します。

回転式管状炉の仕組みは?

回転式管状炉は間接焼成の原理で作動し、熱源から回転する管を介して材料に熱が伝わります。均一な加熱を確保するため、複数の制御ゾーンを備えた連続熱システムを採用しています。炉は作業部で粉砕、固体、気体、液体燃料を燃焼させ、試料に向かって流れる加熱ガスを発生させます。耐火物で内張りされ、斜めに取り付けられた回転ドラムがこのプロセスを促進します。

マルチゾーン管状炉の仕組み

マルチゾーン管状炉の機能1) 独立制御された複数の発熱体を通して熱を発生させ、2) この熱を炉管を通してワークピースに均一に伝達し、3) 正確な温度勾配 (CVD 膜成長のようなプロセスの場合) または拡張された恒温ゾーン (複数のゾーンを同じ温度に設定した場合) を形成し、4) 様々な工業プロセスに適した安定した加熱条件を維持します。

ホットプレス炉の特徴は?

ホットプレス焼結炉は、加熱・断熱部品を除き、本体を強力に冷却することで、正確な温度制御と構造的な完全性を確保しています。

スプリット管炉の仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱を炉管内のワークまたは媒体に伝えます。このプロセスにより安定した均一加熱が保証されるため、様々な工業用途や実験用途に適しています。炉は複数の加熱ゾーンを設定でき、安全な外部温度を維持するための強制空冷などの機能も備えています。

回転炉の主な特徴は?

回転炉の主な特徴には、高温能力、マルチゾーン加熱制御、カスタマイズ可能な回転とプロセス制御、雰囲気の多様性、統合された安全・環境制御などがあります。

歯科用ファーネスの仕組み

歯科用ファーネスは、真空または制御された雰囲気の中で、制御された高温を歯科用セラミックに加えることで機能します。このプロセスは焼結と呼ばれ、セラミック粒子を結合させて強固で緻密な修復物を形成します。ファーネスの高度な制御により、均一な加熱と冷却が行われ、一貫した結果が得られます。

管状炉にはどのようなタイプがありますか?

管状炉には、ラボ用石英管状炉、分割型マルチヒーティングゾーン回転式管状炉、マルチゾーン管状炉、高温管状炉(最高1700℃)、薄膜蒸着用PECVD管状炉、真空管状炉、縦型管状炉など、さまざまなタイプがあります。これらには、急速加熱、傾斜調整、360°回転、カスタマイズ可能な加熱ゾーン、真空対応など、さまざまな用途に適した機能が装備されています。

竪型管状炉の仕組み

縦型管状炉は熱源から熱を発生させ、その熱を炉管を介して被加熱物または媒体に伝えます。このプロセスは安定した均一加熱を保証し、様々な工業用途に適しています。

回転式管状炉を使用する利点は何ですか?

回転式管状炉には、回転作用による均一な温度分布、試料の沈降防止、安定した処理など、いくつかの利点があります。熱伝達効率が高まるため、処理時間が短縮され、より均一な結果が得られます。さらに、熱伝達効率に優れた設計で、特定のニーズに合わせて複数の加熱ゾーンをカスタマイズできます。

マルチゾーン管状炉を使用する利点は何ですか?

利点は以下の通りです:1)シンプルな炉構造による成熟した信頼性の高い技術、2)高い熱効率による低消費電力、3)容易な操作と精密な制御、4)連続生産能力、5)均一加熱ゾーンの拡大または精密な温度勾配の形成能力、6)化学プロセスにおける製品収率の向上、7)プロセスガスの回収能力、8)幅広い原料適用性、9) 炉の組み合わせによる大規模生産への拡張性。

ホットプレス炉に真空環境が採用される理由は?

ホットプレス焼結炉は、真空環境下で焼結するため、焼結時の酸化を防止し、変形が少なく、強固に接合された高品質の部品が得られます。

分割型管状炉を使用する利点は何ですか?

スプリット管状炉の主な利点には、試料や機器の搬出入の簡素化、操業停止時間の短縮、効率の向上などが挙げられます。スプリット式は炉室への素早いアクセスを可能にし、頻繁な交換や複雑な実験設定を必要とする用途に特に有益です。さらに、空圧ダンパー支柱や複数の加熱ゾーンなどの機能により、使いやすさと性能がさらに向上します。

回転炉の一般的な用途は?

回転式管状炉は、均一加熱と連続混合が不可欠な粉末冶金、材料混合、化学反応に特に有用です。また、粒状や粉状の原料の処理、アルミナや鉄鉱石ペレットの製造、脱炭酸や酸化など、バラ原料の連続処理が必要な用途にも使用されます。

歯科用ファーネスを使用する利点は何ですか?

歯科用ファーネスを使用する利点には、正確な温度と加熱の制御、一貫した予測可能な結果、調整や再製作の必要性を減らすことによる時間とコストの節約、様々なタイプの歯科修復物を作成できることなどがあります。これらの機能により、高品質で耐久性に優れ、審美性に優れた歯科補綴物が実現します。

管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

管状炉には様々な用途に適した温度範囲があります。標準型は通常1200°Cまで、高温型は1400°Cから1700°Cまで達します。特殊な機種では最高 2000°Cに達するものもあります。温度能力は使用される発熱体や炉管の材質 (石英やアルミナなど) によって異なります。

どのようなタイプの縦型管状炉がありますか?

縦型管状炉には様々なタイプがあり、単一または複数の加熱ゾーン、急速熱処理 (RTP) 機能、真空ステーション、CVD (Chemical Vapor Deposition) や PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) などの特定のラボニーズに対応するカスタマイズ可能なソリューションなどがあります。

回転式管状炉の最高到達温度は?

回転式管状炉は最高温度 1200°Cに達することができ、脱炭酸、焼結、熱処理などの高温用途に適しています。

マルチゾーン管状炉にはどのようなタイプがありますか?

利用可能なタイプには以下のものがあります:1) 分割式多加熱ゾーン回転式管状炉 (傾斜および回転機能付き)、2) ラボ用石英管状炉 (最高温度1700℃、1~10ゾーン)、3) 高速加熱の急速熱処理 (RTP) 炉、4) 化学蒸着用CVD管状炉、5) プラズマ強化プロセス用PECVD炉、6) 真空管状炉、7) 高圧管状炉。これらはゾーン数、温度範囲、真空/大気制御のような特殊機能をカスタマイズできる多様な構成で提供されます。

ホットプレス炉で一般的に処理される材料は何ですか?

ホットプレス炉はセラミック粉末、金属、複合材料、その他焼結や接合に高温高圧条件を必要とする材料に一般的に使用されます。

スプリット管炉の到達温度は?

スプリット管炉は最高温度1200℃に達することができ、材料合成、CVD、焼結などの高温用途に適しています。炉は加熱コイルを熱源として使用し、運転中の安全な外部温度を維持するための二重層強制空冷を備えています。

回転炉はどのように異なる材料を扱うのですか?

回転炉は回転し、わずかに傾斜した設計により、均一な加熱と混合が保証されるため、様々な原料に柔軟に対応できます。そのため、粒状や粉末状の物質を含む様々な原料に適しており、脱炭酸や酸化などの用途で効率的な処理が可能になります。

歯科用ファーネスにはどのような安全機能が必要ですか?

歯科用ファーネスには、過昇温防止機能、自動停止システム、緊急停止ボタン、過熱防止機能などの安全機能が備わっている必要があります。このような機能により、使用者の安全が確保され、運転中の機器の損傷を防ぐことができます。

管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?

管状炉は多用途で、空気、不活性ガス (アルゴンや窒素など)、真空、特殊混合ガスなど様々な雰囲気下で作動します。そのため、酸化、還元、アニール、化学蒸着 (CVD) などの幅広いプロセスに適しています。多くの機種には真空対応設計と精密な雰囲気管理のためのガス制御システムが装備されています。

横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由

縦型管状炉が横型炉より選択されるのは、主にその省スペース設計と重力アシストプロセスの利点のためです。縦型は熱と材料の均一な分布が可能で、特定の実験や製造工程に最適です。

回転式管状炉で処理できる材料の種類は?

回転式管状炉は粒状または粉状の材料の処理に最適です。均一な加熱と連続混合が要求される粉末冶金、材料混合、化学反応などの用途で一般的に使用されます。

管状炉の分割設計が有益な理由は?

管状炉の分割型設計は、炉室への迅速かつ容易なアクセスを可能にする点で有益です。この設計は、多くの場合、空気圧式ダンパー支柱を備えた2つのヒンジ式ハーフを特徴としており、複雑なセットアップや大型試料の取り扱いを簡素化し、運転休止時間を短縮し、特に頻繁な変更や複雑な構成を必要とする用途において全体的な効率を高めます。

どのような歯科用炉がありますか?

歯科用ファーネスには、真空磁器焼結炉、ジルコニア焼結炉、真空プレス炉など様々なタイプがあります。迅速な焼結が可能な機種もあれば、様々な歯科用セラミック材料の高圧処理または多機能処理が可能な機種もあります。

KINTEK管状炉の特徴は?

KINTEK の管状炉は、精密な温度制御 (最高 100°C/秒の急速加熱が可能な機種もあります)、カスタマイズ可能な加熱ゾーン (1 ゾーンから 10 ゾーンまで)、真空対応設計、および安全認証で際立っています。また、材料合成、CVD、焼結、半導体研究などの高度な用途向けに、回転機構、スプリットチャンバー、プラズマエンハンスド構成などのオプションを備えた汎用性の高いソリューションを提供しています。

縦型管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

竪型管状炉は、機種や構成にもよりますが、通常1800℃までの高温を達成できます。精密加熱用に設計され、様々な用途の特定温度要求に対応するようカスタマイズが可能です。

縦型管状炉はカスタマイズ可能ですか?

縦型管状炉は高度なカスタマイズが可能です。複数の加熱ゾーン、急速加熱機能、真空システム、特殊な雰囲気制御など、様々な研究用途や工業用途の独自のニーズに対応するための機能を装備することができます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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カスタムメイド万能CVD管状炉化学蒸着CVD装置マシン

カスタムメイド万能CVD管状炉化学蒸着CVD装置マシン

KINTEKのCVD管状炉は、薄膜蒸着に理想的な1600℃までの精密温度制御を提供します。研究および工業のニーズに合わせてカスタマイズ可能です。

スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置

スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置

KINTEK スライドPECVD管状炉:RFプラズマ、急速熱サイクル、カスタマイズ可能なガス制御による精密薄膜蒸着。半導体や太陽電池に最適。

傾斜ロータリープラズマ化学蒸着 PECVD チューブ炉マシン

傾斜ロータリープラズマ化学蒸着 PECVD チューブ炉マシン

KINTEKのPECVDコーティングマシンは、LED、太陽電池、MEMS用の精密薄膜を低温で実現します。カスタマイズ可能な高性能ソリューション。

電気回転炉小さな回転炉バイオマス熱分解植物回転炉

電気回転炉小さな回転炉バイオマス熱分解植物回転炉

KINTEKの回転式バイオマス熱分解炉は、バイオマスをバイオ炭、バイオオイル、合成ガスに効率よく変換します。研究用にも生産用にもカスタマイズ可能です。今すぐご利用ください!

真空シール連続作業回転式管状炉 回転式管状炉

真空シール連続作業回転式管状炉 回転式管状炉

連続真空処理用精密回転式管状炉。焼成、焼結、熱処理に最適。1600℃までカスタマイズ可能。

真空ホットプレス炉機 加熱真空プレス管状炉

真空ホットプレス炉機 加熱真空プレス管状炉

精密な高温焼結、ホットプレス、材料接合に対応するKINTEKの真空管式ホットプレス炉をご覧ください。ラボのためのカスタマイズ可能なソリューション。

真空誘導溶解炉とアーク溶解炉

真空誘導溶解炉とアーク溶解炉

KINTEKの真空誘導溶解炉で2000℃までの高純度金属を溶解。航空宇宙、合金など、カスタマイズ可能なソリューション。お気軽にお問い合わせください!

ラボ用1200℃マッフル炉

ラボ用1200℃マッフル炉

KINTEK KT-12M マッフル炉:PID制御による高精度1200℃加熱。迅速で均一な加熱が必要なラボに最適。モデルとカスタマイズオプションをご覧ください。