
CVD & PECVD Furnace
スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置
商品番号 : KT-PE12
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 最高温度
- 1200℃
- RFプラズマ出力
- 5-500W
- 定格真空圧
- 10Pa~6x10-4Pa

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高精度の薄膜形成を実現
KINTEKスライドPECVD管状炉(液体ガス化炉付き)は、多用途で高性能な薄膜蒸着用に設計された最先端のシステムです。500WのRFプラズマソース、迅速な熱サイクルを可能にする革新的なスライド炉、精密なガスフロー制御、および堅牢な真空ステーションを組み合わせています。エレクトロニクス、半導体、光学、先端材料科学のいずれにおいても、このシステムは卓越した結果と信頼性を提供します。KINTEKでは、このような高度なファーネス・ソリューションを提供するために、卓越した研究開発の専門知識と社内製造を活用し、お客様独自の実験要件を的確に満たすための強力なカスタマイズを提供しています。
主な特長と利点
スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置は、お客様の研究および生産を向上させる数多くの利点を提供します:
- 発電量の向上: 革新的なグラファイトボート構造により、太陽電池ウェハーの出力が大幅に向上します。
- 均一なセル品質: チューブラーPECVDセルの色差を効果的に除去し、一貫した結果を保証します。
- 多用途RFプラズマソース: 幅広い出力範囲(5~500W)を持つ自動マッチングRFプラズマソースにより、さまざまなアプリケーションで安定した性能を発揮します。
- 高速サーマルサイクリング ファーネスチャンバースライドシステムにより、高速加熱・冷却を実現し、処理時間を大幅に短縮。補助的な強制空気循環により、冷却速度がさらに加速されます。
- 自動運転: オプションの自動スライディング動作により、作業効率が向上し、手作業による介入を減らして合理的なワークフローを実現します。
- 正確な温度管理: PIDプログラマブル温度制御により、正確な温度調節が可能です。リモート制御と集中制御をサポートし、利便性と操作の柔軟性を高めます。
- 正確なガス制御 高精度のMFCマスフローメータがソースガスを正確に制御し、安定した一貫性のある予混合ガス供給を保証します。
- 高性能真空システム ステンレス鋼製真空フランジは、様々な真空ポンプステーションの構成に対応し、高真空度と信頼性の高い密閉性を保証します。
- 使いやすいインターフェース CTFプロ7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを装備し、プログラムの設定や操作を簡素化し、過去のデータを簡単に分析できます。
多彩なアプリケーション
液体ガス化炉付きスライドPECVD管状炉PECVD装置は、以下のような幅広い用途に最適です:
- 化学蒸着 (CVD)
- プラズマエンハンスト化学蒸着(PECVD)
- 各種材料の薄膜蒸着
- 太陽電池の製造と研究
- 半導体加工
- ナノテクノロジー研究開発
- 先端材料科学研究
- 制御された雰囲気での一般的な研究開発
システム構成
KINTEKでは、多様な実験ニーズにお応えするため、さまざまなCVDシステムセットアップをご用意しています。以下はその一例です:




動作原理
液体ガス化装置付きスライドPECVD管状炉 PECVD装置は、プロセスチャンバーのカソード(サンプルトレイ)にグロー放電を発生させるために低温プラズマを採用しています。グロー放電(または別の熱源)は、サンプルの温度を所定のレベルまで上昇させます。その後、制御された量のプロセスガスが導入され、化学反応とプラズマ反応が起こり、試料表面に固体膜が形成されます。
内蔵安全機能
- 過電流および過温度保護: 炉には過電流保護と過温度警報機能が装備されており、制限値を超えると自動的に電源が遮断されます。
- 熱電対の異常検知: 内蔵の熱電対検知機能により、熱電対の破損や故障を検知すると加熱を停止してアラームを発し、制御不能な加熱を防止します。
- 停電リスタート機能: PE Proコントローラーは停電時再始動機能に対応しており、停電後に電源が回復すると自動的に加熱プログラムを再開します。
技術仕様
炉型式 | KT-PE12-60 |
最高温度 | 1200℃ |
一定作業温度 | 1100℃ |
炉心管材質 | 高純度石英 |
炉管の直径 | 60mm |
加熱ゾーン長さ | 1x450mm |
チャンバー材質 | 日本アルミナ繊維 |
発熱体 | Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル |
加熱速度 | 0~20℃/分 |
熱電対 | Kタイプ |
温度コントローラー | デジタル PID コントローラー/タッチ画面 PID のコントローラー |
温度調整の正確さ | ±1℃ |
スライド距離 | 600mm |
RFプラズマユニット | |
出力 | 5 -500W ±1%の安定度で調整可能 |
RF周波数 | 13.56 MHz ±0.005%安定性 |
反射出力 | 最大350W |
マッチング | 自動 |
ノイズ | |
冷却 | 空冷 |
ガス精密制御ユニット | |
流量計 | MFCマスフローメータ |
ガスチャンネル | 4チャンネル |
流量 |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500sccm n2 |
直線性 | ±0.5% F.S. |
繰り返し性 | ±0.2% F.S. |
配管およびバルブ | ステンレス鋼 |
最高使用圧力 | 0.45MPa |
流量計コントローラー | デジタルノブコントローラー/タッチスクリーンコントローラー |
標準真空ユニット(オプション) | |
真空ポンプ | ロータリーベーン真空ポンプ |
ポンプ流量 | 4L/S |
真空吸引ポート | KF25 |
真空計 | ピラニ/抵抗シリコン真空計 |
定格真空圧 | 10Pa |
高真空ユニット(オプション) | |
真空ポンプ | ロータリーベーンポンプ+分子ポンプ |
ポンプ流量 | 4L/S+110L/S |
真空吸引ポート | KF25 |
真空計 | 複合真空計 |
定格真空圧 | 6x10-4Pa |
上記仕様・設定はカスタマイズ可能です。 |
標準パッケージ内容
番号 | 内容 | 数量 |
1 | 炉 | 1 |
2 | 石英管 | 1 |
3 | 真空フランジ | 2 |
4 | チューブサーマルブロック | 2 |
5 | チューブサーマルブロックフック | 1 |
6 | 耐熱グローブ | 1 |
7 | RFプラズマ源 | 1 |
8 | 精密ガス制御 | 1 |
9 | 真空ユニット | 1 |
10 | 操作マニュアル | 1 |
カスタマイズとオプションセットアップ
KINTEK では、強力なカスタマイズ能力を誇っています。スライドPECVD管状炉は、お客様独自の実験要求に的確にお応えします。利用可能なオプションセットアップには以下が含まれます:
- 管内ガス検知およびモニタリング(例:H2、O2)
- 独立した炉内温度モニタリングおよび記録システム
- PC遠隔操作およびデータエクスポート用のRS 485通信ポート
- カスタマイズされたガス供給流量制御 (質量流量計またはフロート流量計)
- 多彩で操作しやすい機能を備えた先進的なタッチスクリーン式温度制御装置
- 様々な高真空ポンプステーションのセットアップ(ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなど)
高度な炉のニーズはKINTEKにお任せください。
KINTEKのスライドPECVD管状炉は、適応性と高性能のために設計されています。お客様の研究がユニークであることを理解しています。当社の強力なカスタマイズ能力を活用して、このシステムをお客様の仕様に合わせてカスタマイズしてください。異なる温度範囲、特定のガス構成、高度な制御機能、独自の真空セットアップなど、当社の専門チームがお手伝いします。
研究または生産を向上させる準備はできていますか?当社の専門家と要件を話し合い、個別の見積もりを入手してください。 お問い合わせ お問い合わせフォーム 最適なPECVDソリューションをご提案させていただきます!
FAQ
管状炉とは何ですか?
マルチゾーン管状炉の主な用途は?
CVD装置の原理は?
分割管炉の一般的な用途は?
縦型管状炉とは
管状炉の主な用途は?
マルチゾーン管状炉の主な特徴は?
CVD装置を使用する利点は何ですか?
スプリット管炉の主な特徴は?
竪型管状炉の用途は?
管状炉を使用する利点は?
マルチゾーン管状炉の仕組み
CVD装置の用途は?
スプリット管炉の仕組み
縦型管状炉の利点は?
管状炉にはどのようなタイプがありますか?
マルチゾーン管状炉を使用する利点は何ですか?
CVD装置の主な特徴は?
分割型管状炉を使用する利点は何ですか?
竪型管状炉の仕組み
管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?
マルチゾーン管状炉にはどのようなタイプがありますか?
どのようなタイプのCVD装置がありますか?
スプリット管炉の到達温度は?
どのようなタイプの縦型管状炉がありますか?
管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?
管状炉の分割設計が有益な理由は?
横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由
KINTEK管状炉の特徴は?
縦型管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?
縦型管状炉はカスタマイズ可能ですか?
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