製品 High Temperature Furnaces CVD & PECVD Furnace スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置
スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置

CVD & PECVD Furnace

スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置

商品番号 : KT-PE12

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1200℃
RFプラズマ出力
5-500W
定格真空圧
10Pa~6x10-4Pa
ISO & CE icon

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見積り

高精度の薄膜形成を実現

KINTEKスライドPECVD管状炉(液体ガス化炉付き)は、多用途で高性能な薄膜蒸着用に設計された最先端のシステムです。500WのRFプラズマソース、迅速な熱サイクルを可能にする革新的なスライド炉、精密なガスフロー制御、および堅牢な真空ステーションを組み合わせています。エレクトロニクス、半導体、光学、先端材料科学のいずれにおいても、このシステムは卓越した結果と信頼性を提供します。KINTEKでは、このような高度なファーネス・ソリューションを提供するために、卓越した研究開発の専門知識と社内製造を活用し、お客様独自の実験要件を的確に満たすための強力なカスタマイズを提供しています。

主な特長と利点

スライドPECVD管状炉と液体ガス化炉PECVD装置は、お客様の研究および生産を向上させる数多くの利点を提供します:

  • 発電量の向上: 革新的なグラファイトボート構造により、太陽電池ウェハーの出力が大幅に向上します。
  • 均一なセル品質: チューブラーPECVDセルの色差を効果的に除去し、一貫した結果を保証します。
  • 多用途RFプラズマソース: 幅広い出力範囲(5~500W)を持つ自動マッチングRFプラズマソースにより、さまざまなアプリケーションで安定した性能を発揮します。
  • 高速サーマルサイクリング ファーネスチャンバースライドシステムにより、高速加熱・冷却を実現し、処理時間を大幅に短縮。補助的な強制空気循環により、冷却速度がさらに加速されます。
  • 自動運転: オプションの自動スライディング動作により、作業効率が向上し、手作業による介入を減らして合理的なワークフローを実現します。
  • 正確な温度管理: PIDプログラマブル温度制御により、正確な温度調節が可能です。リモート制御と集中制御をサポートし、利便性と操作の柔軟性を高めます。
  • 正確なガス制御 高精度のMFCマスフローメータがソースガスを正確に制御し、安定した一貫性のある予混合ガス供給を保証します。
  • 高性能真空システム ステンレス鋼製真空フランジは、様々な真空ポンプステーションの構成に対応し、高真空度と信頼性の高い密閉性を保証します。
  • 使いやすいインターフェース CTFプロ7インチTFTタッチスクリーンコントローラーを装備し、プログラムの設定や操作を簡素化し、過去のデータを簡単に分析できます。

多彩なアプリケーション

液体ガス化炉付きスライドPECVD管状炉PECVD装置は、以下のような幅広い用途に最適です:

  • 化学蒸着 (CVD)
  • プラズマエンハンスト化学蒸着(PECVD)
  • 各種材料の薄膜蒸着
  • 太陽電池の製造と研究
  • 半導体加工
  • ナノテクノロジー研究開発
  • 先端材料科学研究
  • 制御された雰囲気での一般的な研究開発

システム構成

KINTEKでは、多様な実験ニーズにお応えするため、さまざまなCVDシステムセットアップをご用意しています。以下はその一例です:

液体ガス化炉を備えたスライドPECVDシステム:1.真空センサー 2.RFプラズマ 3.炉 4.リリーフバルブ 5.フラッパーバルブ 6.ヒートベルト 7.流量計 8.液体ガス化炉 9.ガスステーション 10.キャビネット
液体ガス化炉付きスライド PECVD システム (キー: 1.真空センサー 2.RFプラズマ 3.炉 4.リリーフバルブ 5.フラッパーバルブ 6.ヒートベルト 7.流量計 8.液体ガス化炉 9.ガスステーション 10.キャビネット)
二重分割管炉構成のスライドPECVDシステム
二重分割管炉付きスライドPECVDシステム
大口径チューブを採用したスプリットPECVDシステム
大口径管付き分割PECVDシステム
4チャンネルマスフローコントローラー 高真空ステーション付きPECVDシステム
高真空ステーション付き4チャンネルMFC PECVDシステム

動作原理

液体ガス化装置付きスライドPECVD管状炉 PECVD装置は、プロセスチャンバーのカソード(サンプルトレイ)にグロー放電を発生させるために低温プラズマを採用しています。グロー放電(または別の熱源)は、サンプルの温度を所定のレベルまで上昇させます。その後、制御された量のプロセスガスが導入され、化学反応とプラズマ反応が起こり、試料表面に固体膜が形成されます。

内蔵安全機能

  • 過電流および過温度保護: 炉には過電流保護と過温度警報機能が装備されており、制限値を超えると自動的に電源が遮断されます。
  • 熱電対の異常検知: 内蔵の熱電対検知機能により、熱電対の破損や故障を検知すると加熱を停止してアラームを発し、制御不能な加熱を防止します。
  • 停電リスタート機能: PE Proコントローラーは停電時再始動機能に対応しており、停電後に電源が回復すると自動的に加熱プログラムを再開します。

技術仕様

炉型式 KT-PE12-60
最高温度 1200℃
一定作業温度 1100℃
炉心管材質 高純度石英
炉管の直径 60mm
加熱ゾーン長さ 1x450mm
チャンバー材質 日本アルミナ繊維
発熱体 Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル
加熱速度 0~20℃/分
熱電対 Kタイプ
温度コントローラー デジタル PID コントローラー/タッチ画面 PID のコントローラー
温度調整の正確さ ±1℃
スライド距離 600mm
RFプラズマユニット
出力 5 -500W ±1%の安定度で調整可能
RF周波数 13.56 MHz ±0.005%安定性
反射出力 最大350W
マッチング 自動
ノイズ
冷却 空冷
ガス精密制御ユニット
流量計 MFCマスフローメータ
ガスチャンネル 4チャンネル
流量 MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4
mfc3: 0- 100sccm h2
mfc4: 0-500sccm n2
直線性 ±0.5% F.S.
繰り返し性 ±0.2% F.S.
配管およびバルブ ステンレス鋼
最高使用圧力 0.45MPa
流量計コントローラー デジタルノブコントローラー/タッチスクリーンコントローラー
標準真空ユニット(オプション)
真空ポンプ ロータリーベーン真空ポンプ
ポンプ流量 4L/S
真空吸引ポート KF25
真空計 ピラニ/抵抗シリコン真空計
定格真空圧 10Pa
高真空ユニット(オプション)
真空ポンプ ロータリーベーンポンプ+分子ポンプ
ポンプ流量 4L/S+110L/S
真空吸引ポート KF25
真空計 複合真空計
定格真空圧 6x10-4Pa
上記仕様・設定はカスタマイズ可能です。

標準パッケージ内容

番号 内容 数量
1 1
2 石英管 1
3 真空フランジ 2
4 チューブサーマルブロック 2
5 チューブサーマルブロックフック 1
6 耐熱グローブ 1
7 RFプラズマ源 1
8 精密ガス制御 1
9 真空ユニット 1
10 操作マニュアル 1

カスタマイズとオプションセットアップ

KINTEK では、強力なカスタマイズ能力を誇っています。スライドPECVD管状炉は、お客様独自の実験要求に的確にお応えします。利用可能なオプションセットアップには以下が含まれます:

  • 管内ガス検知およびモニタリング(例:H2、O2)
  • 独立した炉内温度モニタリングおよび記録システム
  • PC遠隔操作およびデータエクスポート用のRS 485通信ポート
  • カスタマイズされたガス供給流量制御 (質量流量計またはフロート流量計)
  • 多彩で操作しやすい機能を備えた先進的なタッチスクリーン式温度制御装置
  • 様々な高真空ポンプステーションのセットアップ(ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプなど)

高度な炉のニーズはKINTEKにお任せください。

KINTEKのスライドPECVD管状炉は、適応性と高性能のために設計されています。お客様の研究がユニークであることを理解しています。当社の強力なカスタマイズ能力を活用して、このシステムをお客様の仕様に合わせてカスタマイズしてください。異なる温度範囲、特定のガス構成、高度な制御機能、独自の真空セットアップなど、当社の専門チームがお手伝いします。

研究または生産を向上させる準備はできていますか?当社の専門家と要件を話し合い、個別の見積もりを入手してください。 お問い合わせ お問い合わせフォーム 最適なPECVDソリューションをご提案させていただきます!

FAQ

管状炉とは何ですか?

管状炉は、熱源を通して熱を発生させ、その熱を炉管を通してワークまたは媒体に伝える加熱装置です。様々な工業用途に適した安定した均一加熱を実現します。温度制御システムは熱電対やその他のセンサーで炉の温度を監視し、その信号を制御装置にフィードバックして発熱体の出力を調整し、正確な温度制御を維持します。

マルチゾーン管状炉の主な用途は?

マルチゾーン管状炉は、半導体・電池製造、熱電対・鉱物絶縁ケーブル製造、真空ロウ付け・熱処理、真空硬化・焼結、水・廃棄物・土壌試験、航空宇宙セラミック・金属試験、石油・ガス分析、固体酸化物燃料電池、高分子複合材料・グラフェン製造など、様々な商業・研究用途で使用されています。また、金属の熱処理(焼き入れ、焼き戻し、焼きなまし)、溶接の予熱、セラミック/粉末冶金の焼結、コーティング処理、材料研究実験などにも使用されています。

CVD装置の原理は?

化学気相成長法(CVD)の原理は、膜成分やその他の必要なガスを含む気体または液体の反応物の蒸気を反応室に導入することである。温度上昇、プラズマ作用、光放射などのエネルギーを加えることで、基板表面で化学反応が起こり、新しい固体物質が生成され、薄膜として堆積する。CVD炉の動作原理は、炉室内に前駆体ガスを導入し、高温によってこれらのガスを基板表面付近で反応または分解させることである。目的の材料は固体膜として基板上に堆積し、副生成物や未使用のガスは排気または真空システムを通して排出されます。

分割管炉の一般的な用途は?

分割管炉は一般的に、材料試験 (引張試験など)、有機材料の熱分解、薄膜堆積のための化学蒸着 (CVD)、炭素含有材料の黒鉛化、セラミックの焼結などに使用されます。これらの用途では、分割管炉が提供する精密な温度制御と容易な試料ハンドリングが役立ちます。

縦型管状炉とは

縦型管状炉は垂直方向に設計された高温加熱装置で、正確な温度制御、均一な加熱、効率的なエネルギー使用を実現します。その縦型設計は省スペースで、特に縦型設置が有利なプロセスに役立ちます。

管状炉の主な用途は?

管状炉は真空または大気条件下でのガス急冷試験、合成や精製を含む熱処理用途、無機または有機化合物の酸化、拡散、脱炭酸、熱アニールなどに広く使用されています。また、加熱・冷却速度の制御が必要な材料試験、熱処理、化学反応にも使用されます。縦型管状炉は、試料を炉の上部から投入するプロセスに特に適しています。

マルチゾーン管状炉の主な特徴は?

主な特徴は以下の通りです:1) 柔軟なアニーリングおよび化学蒸着機能、2) 最大60mm (2インチ) までの試料の収容、3) ガス供給が容易な内蔵マニホールド、4) 端部が低温で中央部が均一加熱の自然な温度勾配、5) 様々なガスまたは真空条件への適応性、6) 正確な温度プロファイルのための複数の独立制御加熱ゾーン。

CVD装置を使用する利点は何ですか?

CVDは、高い純度、均一性、適合性を提供するため、複雑な形状のコーティングに適しています。半導体、航空宇宙、生物医学などの産業で使用されています。PVDとは異なり、CVDは直視下での塗布に限定されず、反応中にコーティングが表面に結合するため、優れた密着性が得られます。

スプリット管炉の主な特徴は?

分割式管状炉は通常、1、2、3、または 5 加熱ゾーンから選択でき、加熱長さは 200 ~ 600 mm、加熱直径は 40 ~ 100 mm です。安全なケース温度を確保するために二重の強制空冷が装備され、加熱源として最高1200℃に達する加熱コイルが使用されます。炉は円筒管を縦に分割して設計され、多くの場合、ヒンジで結合された2つの半分に分割され、スムーズな動作のために空圧ダンパー支柱が装備されています。

竪型管状炉の用途は?

縦型管状炉は、加熱・冷却速度の制御を必要とする材料試験、熱処理、化学反応に広く使用されています。また化学工学では合成樹脂、ゴム、塗料、染料の製造に、食品工業では焼成、乾燥、殺菌に、冶金では製錬、溶解、熱処理プロセスに使用されます。

管状炉を使用する利点は?

管状炉には、成熟した技術、シンプルな炉構造、低い消費電力、高い熱効率、容易な操作と制御、連続生産能力、精密な温度制御、均一な温度分布、異なる雰囲気への適応性などの利点があります。また、製品の歩留まりが高く、製品濃度が高く、分解ガスや排ガスをほとんど回収できる。複数の炉を組み合わせて大規模生産も可能です。

マルチゾーン管状炉の仕組み

マルチゾーン管状炉の機能1) 独立制御された複数の発熱体を通して熱を発生させ、2) この熱を炉管を通してワークピースに均一に伝達し、3) 正確な温度勾配 (CVD 膜成長のようなプロセスの場合) または拡張された恒温ゾーン (複数のゾーンを同じ温度に設定した場合) を形成し、4) 様々な工業プロセスに適した安定した加熱条件を維持します。

CVD装置の用途は?

CVDは、半導体デバイスの製造(窒化ケイ素絶縁層など)、光学コーティング、保護コーティング、独自の電気的、熱的、機械的特性を持つグラフェンやカーボンナノチューブのような先端材料など、さまざまな用途で使用されています。また、従来の技術では不可能だったコンフォーマル膜の成膜や基板表面の改質にも使用される。原子層蒸着、集積回路、光起電力デバイス、耐摩耗性コーティング、特殊特性を持つポリマーコーティング、ガス検知用有機金属骨格、水処理用膜コーティングなどの用途がある。

スプリット管炉の仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱を炉管内のワークまたは媒体に伝えます。このプロセスにより安定した均一加熱が保証されるため、様々な工業用途や実験用途に適しています。炉は複数の加熱ゾーンを設定でき、安全な外部温度を維持するための強制空冷などの機能も備えています。

縦型管状炉の利点は?

竪型管状炉は横型炉に比べて設置面積が小さいため、スペースの限られた研究室に最適です。また、効率的で省エネルギーな運転、精密な温度制御、柔軟な使用方法、操作の容易さ、安全性、信頼性、環境基準への適合も実現します。

管状炉にはどのようなタイプがありますか?

管状炉には、ラボ用石英管状炉、分割型マルチヒーティングゾーン回転式管状炉、マルチゾーン管状炉、高温管状炉(最高1700℃)、薄膜蒸着用PECVD管状炉、真空管状炉、縦型管状炉など、さまざまなタイプがあります。これらには、急速加熱、傾斜調整、360°回転、カスタマイズ可能な加熱ゾーン、真空対応など、さまざまな用途に適した機能が装備されています。

マルチゾーン管状炉を使用する利点は何ですか?

利点は以下の通りです:1)シンプルな炉構造による成熟した信頼性の高い技術、2)高い熱効率による低消費電力、3)容易な操作と精密な制御、4)連続生産能力、5)均一加熱ゾーンの拡大または精密な温度勾配の形成能力、6)化学プロセスにおける製品収率の向上、7)プロセスガスの回収能力、8)幅広い原料適用性、9) 炉の組み合わせによる大規模生産への拡張性。

CVD装置の主な特徴は?

CVD炉の主な特徴には、高温能力(通常200℃から1500℃以上)、精密なガス流量制御、雰囲気制御(真空、大気圧、低圧環境)、均一な薄膜成膜のための均一加熱、副生成物や未反応ガスを除去する効率的な排気システムなどがあります。CVDコーティングプロセスの主な特徴として、反応を促進するための高温での塗布があり、通常は真空下で行われる。コーティング前に、部品表面から汚染物質を除去する必要があります。

分割型管状炉を使用する利点は何ですか?

スプリット管状炉の主な利点には、試料や機器の搬出入の簡素化、操業停止時間の短縮、効率の向上などが挙げられます。スプリット式は炉室への素早いアクセスを可能にし、頻繁な交換や複雑な実験設定を必要とする用途に特に有益です。さらに、空圧ダンパー支柱や複数の加熱ゾーンなどの機能により、使いやすさと性能がさらに向上します。

竪型管状炉の仕組み

縦型管状炉は熱源から熱を発生させ、その熱を炉管を介して被加熱物または媒体に伝えます。このプロセスは安定した均一加熱を保証し、様々な工業用途に適しています。

管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

管状炉には様々な用途に適した温度範囲があります。標準型は通常1200°Cまで、高温型は1400°Cから1700°Cまで達します。特殊な機種では最高 2000°Cに達するものもあります。温度能力は使用される発熱体や炉管の材質 (石英やアルミナなど) によって異なります。

マルチゾーン管状炉にはどのようなタイプがありますか?

利用可能なタイプには以下のものがあります:1) 分割式多加熱ゾーン回転式管状炉 (傾斜および回転機能付き)、2) ラボ用石英管状炉 (最高温度1700℃、1~10ゾーン)、3) 高速加熱の急速熱処理 (RTP) 炉、4) 化学蒸着用CVD管状炉、5) プラズマ強化プロセス用PECVD炉、6) 真空管状炉、7) 高圧管状炉。これらはゾーン数、温度範囲、真空/大気制御のような特殊機能をカスタマイズできる多様な構成で提供されます。

どのようなタイプのCVD装置がありますか?

CVD装置には、ラボ用ダイヤモンド成長用の円筒形共振器MPCVD装置システム、化学蒸着用の特注多用途CVD管状炉、液体ガス化装置付きスライドPECVD管状炉、真空ホットプレス炉装置、傾斜回転プラズマエンハンスト化学蒸着(PECVD)管状炉、真空ステーション付きスプリットチャンバーCVD管状炉、高周波プラズマエンハンスト化学蒸着用のRF PECVDシステムなど、いくつかのタイプがあります。それぞれのタイプは特定の用途向けに設計されており、独自の機能を備えています。

スプリット管炉の到達温度は?

スプリット管炉は最高温度1200℃に達することができ、材料合成、CVD、焼結などの高温用途に適しています。炉は加熱コイルを熱源として使用し、運転中の安全な外部温度を維持するための二重層強制空冷を備えています。

どのようなタイプの縦型管状炉がありますか?

縦型管状炉には様々なタイプがあり、単一または複数の加熱ゾーン、急速熱処理 (RTP) 機能、真空ステーション、CVD (Chemical Vapor Deposition) や PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) などの特定のラボニーズに対応するカスタマイズ可能なソリューションなどがあります。

管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?

管状炉は多用途で、空気、不活性ガス (アルゴンや窒素など)、真空、特殊混合ガスなど様々な雰囲気下で作動します。そのため、酸化、還元、アニール、化学蒸着 (CVD) などの幅広いプロセスに適しています。多くの機種には真空対応設計と精密な雰囲気管理のためのガス制御システムが装備されています。

管状炉の分割設計が有益な理由は?

管状炉の分割型設計は、炉室への迅速かつ容易なアクセスを可能にする点で有益です。この設計は、多くの場合、空気圧式ダンパー支柱を備えた2つのヒンジ式ハーフを特徴としており、複雑なセットアップや大型試料の取り扱いを簡素化し、運転休止時間を短縮し、特に頻繁な変更や複雑な構成を必要とする用途において全体的な効率を高めます。

横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由

縦型管状炉が横型炉より選択されるのは、主にその省スペース設計と重力アシストプロセスの利点のためです。縦型は熱と材料の均一な分布が可能で、特定の実験や製造工程に最適です。

KINTEK管状炉の特徴は?

KINTEK の管状炉は、精密な温度制御 (最高 100°C/秒の急速加熱が可能な機種もあります)、カスタマイズ可能な加熱ゾーン (1 ゾーンから 10 ゾーンまで)、真空対応設計、および安全認証で際立っています。また、材料合成、CVD、焼結、半導体研究などの高度な用途向けに、回転機構、スプリットチャンバー、プラズマエンハンスド構成などのオプションを備えた汎用性の高いソリューションを提供しています。

縦型管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

竪型管状炉は、機種や構成にもよりますが、通常1800℃までの高温を達成できます。精密加熱用に設計され、様々な用途の特定温度要求に対応するようカスタマイズが可能です。

縦型管状炉はカスタマイズ可能ですか?

縦型管状炉は高度なカスタマイズが可能です。複数の加熱ゾーン、急速加熱機能、真空システム、特殊な雰囲気制御など、様々な研究用途や工業用途の独自のニーズに対応するための機能を装備することができます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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