Tube Furnace

縦型ラボ用石英管状炉管状炉

Name: 縦型ラボ用石英管状炉 管状炉
Brand: Kintek Furnace
SKU: KT-VTF
Rating: 4.82 (12 reviews)

商品番号 : KT-VTF

価格は以下に基づいて変動します仕様とカスタマイズ

最高温度: 1800℃
温度制御精度: ±1℃
炉管材質: 高品位石英/ Al2O3アルミナ

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製品詳細と主要構成

1. 静電溶射炉本体 2. 加熱チャンバー 3.30 セグメントプログラマブル PID 制御 4. 加熱管 — 1. 静電溶射炉本体 2. 加熱室 3.30 セグメントのプログラム可能な PID 制御 4. 加熱管

製品詳細

KINTEKの先進高温ソリューション

KINTEKは、卓越した研究開発と自社製造により、多様なラボに先進の高温炉ソリューションを提供しています。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉、CVD/PECVD/MPCVDシステムなどの製品ラインアップに加え、独自の実験要件に的確に対応する高度なカスタマイズ能力を備えています。

KINTEK の縦型管状炉は、制御された大気条件下で高温の材料処理を行うために精密設計された実験装置です。正確な温度制御と均一な熱分布を確保するため、加熱室内に垂直方向に配置された管（石英またはアルミナ）が特徴です。周囲の発熱体 (MoSi2 や SiC など) からの放射伝熱の原理により、当社の加熱炉は試料に効率的で一貫した加熱を行います。この設計により、急速な加熱と冷却が可能となり、多くの研究および産業作業に理想的です。

KINTEK 竪型管状炉の主な特長と利点

KINTEKの縦型管状炉は、多様性、精密性、安全性を備え、要求の厳しい用途に対応できるよう設計されています：

多様な実験セットアップ： 垂直または傾斜した炉室位置により、流動床加熱、結晶引き上げ成長、急冷など、多様な実験が可能です。
適応性の高い機械的機能： 吊るす、引っ張る、回転させる、離すなど、さまざまな試料操作に対応し、実験の柔軟性を高めます。
広い動作温度範囲： 最高温度1800℃まで対応し、幅広い高温プロセスに対応。
精密温度制御 PIDプログラマブル温度制御により、優れた精度（±1℃）と安定した加熱を実現。VTF Proモデルは、ユーザーフレンドリーなタッチスクリーンコントローラーを装備しており、直感的なプログラム設定、データ分析、レシピ管理が可能です。遠隔操作や集中操作のオプションもあります。
耐久性に優れた構造： 高温コランダム管（耐腐食性、高透過率、1700℃までの耐圧性）とアルミナ多結晶繊維ハース（耐高温性、非変形性、耐クラック性）を採用。
設計による安全性の向上：
- 強制気流による二重炉殻構造により、炉表面温度を低く維持します。
- 総合的な安全機能として、過電流保護と過昇温アラームを装備し、異常を検知すると自動的に電源を遮断します。
- 内蔵の熱電対検知システムは、熱電対が破損または故障した場合に加熱を停止し、アラームを作動させます。
実験の継続性： 停電時再始動機能（VTF Proで利用可能）により、電源が回復すると加熱プログラムが自動的に再開され、実験を安全に保護します。
カスタマイズ お客様の実験要件に合わせたフロック炉のカスタマイズが可能です。カスタマイズのご相談は当社までご連絡ください。

多様なアプリケーション

KINTEK の縦型管状炉は、様々な産業や研究室での幅広い用途、特に精密な温度制御や真空または制御ガス雰囲気下での操作を必要とするプロセスで重要な多用途加熱装置です：

ガス冷却試験 ガス急冷試験: 試料を高温から急冷して、材料の相転移と急冷の効果を研究します。
熱処理： 焼きなまし、焼き戻し、応力除去を行い、強度、硬度、延性などの材料特性を向上させる。
化学蒸着（CVD）： 半導体製造に不可欠な気体環境下での化学反応により、基板上に薄膜を成膜する。
結晶成長： 光学、エレクトロニクス、その他の高度な用途向けに、溶融相または気相から高品質の結晶を成長させる。
材料試験 熱伝導率測定、融点測定、相転移研究を行う。
その他の主要プロセス
- 焼結
- ろう付け
- 焼成
- セラミックス加工
- ガラス加工
- 一般実験室研究
- 粉末加工

技術仕様

当社の縦型管状炉には標準モデルとプロモデルがあり、カスタマイズのためのオプションもあります：

炉型	KT-VTF	KT-VTF PRO
温度コントローラー	デジタルPIDコントローラー	タッチスクリーンPIDコントローラー
マルチプログラムプリセット	いいえ	はい
停電時の再起動	いいえ	はい
最高温度	1800℃
炉心管材料	高品位石英/ Al2O3アルミナ
炉管の直径	50 / 60 / 80 / 100 mm
ヒーティングゾーンの長さ	300 / 450 / 600 / 800 mm
真空シール	SS304フランジ、銅製シールリング
定格真空圧	0.001Pa/10E5 torr
チャンバー材質	日本Al2O3アルミナファイバー
発熱体	Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル/SiC/MoSi2
熱電対	K/S/Bタイプ
温度制御精度	±1℃
電源	AC110-220V,50/60HZ
他の炉管のサイズと加熱ゾーンの長さはカスタマイズすることができます。

標準パッケージとカスタマイズオプション

KINTEK 竪型管状炉には、以下の標準パッケージが用意されています：

標準パッケージ

標準パッケージ	内容	数量
1	炉	1
2	アルミナ管	1
3	真空フランジ	2
4	チューブサーマルブロック	2
5	チューブサーマルブロックフック	1
6	耐熱グローブ	1
7	取扱説明書	1

炉をカスタマイズするオプションセットアップ

特定の実験ニーズに合わせて設計されたオプションセットアップでファーネスの機能を強化してください：

管内ガス検知とモニタリング (H2、O2など)
独立した炉温度のモニタリングと記録
RS485通信ポートによるPCからの遠隔操作とデータ出力
インサートガス供給流量制御 (質量流量計、フロート流量計)
多彩な機能を備えたタッチスクリーン式温度コントローラーへのアップグレード (VTF Proに標準装備)
高真空ポンプステーションのセットアップ（ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプ）。

KINTEKはカスタマイズを得意としています。お客様のご要望がこれらのオプションの枠を超えるものであれば、お客様に合わせたソリューションを開発する準備が整っています。

お客様の高温ニーズにKINTEKがお応えします。

KINTEKの縦型管状炉で研究や工業プロセスを進める準備はできていますか？当社の専門家チームは、堅牢な研究開発および製造能力に裏打ちされた最適な高温ソリューションを提供することに専念しています。

標準モデルからフルカスタマイズシステムまで、お気軽にご相談ください。詳細なご相談、お客様独自の実験要件についてのご相談、お見積もりのご依頼など、お気軽にお問い合わせください。

KINTEKへのお問い合わせまでお問い合わせください。

FAQ

縦型管状炉とは

縦型管状炉は垂直方向に設計された高温加熱装置で、正確な温度制御、均一な加熱、効率的なエネルギー使用を実現します。その縦型設計は省スペースで、特に縦型設置が有利なプロセスに役立ちます。

分割管炉の一般的な用途は?

分割管炉は一般的に、材料試験 (引張試験など)、有機材料の熱分解、薄膜堆積のための化学蒸着 (CVD)、炭素含有材料の黒鉛化、セラミックの焼結などに使用されます。これらの用途では、分割管炉が提供する精密な温度制御と容易な試料ハンドリングが役立ちます。

管状炉とは何ですか？

管状炉は、熱源を通して熱を発生させ、その熱を炉管を通してワークまたは媒体に伝える加熱装置です。様々な工業用途に適した安定した均一加熱を実現します。温度制御システムは熱電対やその他のセンサーで炉の温度を監視し、その信号を制御装置にフィードバックして発熱体の出力を調整し、正確な温度制御を維持します。

竪型管状炉の用途は？

縦型管状炉は、加熱・冷却速度の制御を必要とする材料試験、熱処理、化学反応に広く使用されています。また化学工学では合成樹脂、ゴム、塗料、染料の製造に、食品工業では焼成、乾燥、殺菌に、冶金では製錬、溶解、熱処理プロセスに使用されます。

スプリット管炉の主な特徴は？

分割式管状炉は通常、1、2、3、または 5 加熱ゾーンから選択でき、加熱長さは 200 ～ 600 mm、加熱直径は 40 ～ 100 mm です。安全なケース温度を確保するために二重の強制空冷が装備され、加熱源として最高1200℃に達する加熱コイルが使用されます。炉は円筒管を縦に分割して設計され、多くの場合、ヒンジで結合された2つの半分に分割され、スムーズな動作のために空圧ダンパー支柱が装備されています。

管状炉の主な用途は?

管状炉は真空または大気条件下でのガス急冷試験、合成や精製を含む熱処理用途、無機または有機化合物の酸化、拡散、脱炭酸、熱アニールなどに広く使用されています。また、加熱・冷却速度の制御が必要な材料試験、熱処理、化学反応にも使用されます。縦型管状炉は、試料を炉の上部から投入するプロセスに特に適しています。

縦型管状炉の利点は？

竪型管状炉は横型炉に比べて設置面積が小さいため、スペースの限られた研究室に最適です。また、効率的で省エネルギーな運転、精密な温度制御、柔軟な使用方法、操作の容易さ、安全性、信頼性、環境基準への適合も実現します。

スプリット管炉の仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱を炉管内のワークまたは媒体に伝えます。このプロセスにより安定した均一加熱が保証されるため、様々な工業用途や実験用途に適しています。炉は複数の加熱ゾーンを設定でき、安全な外部温度を維持するための強制空冷などの機能も備えています。

管状炉を使用する利点は？

管状炉には、成熟した技術、シンプルな炉構造、低い消費電力、高い熱効率、容易な操作と制御、連続生産能力、精密な温度制御、均一な温度分布、異なる雰囲気への適応性などの利点があります。また、製品の歩留まりが高く、製品濃度が高く、分解ガスや排ガスをほとんど回収できる。複数の炉を組み合わせて大規模生産も可能です。

竪型管状炉の仕組み

縦型管状炉は熱源から熱を発生させ、その熱を炉管を介して被加熱物または媒体に伝えます。このプロセスは安定した均一加熱を保証し、様々な工業用途に適しています。

分割型管状炉を使用する利点は何ですか?

スプリット管状炉の主な利点には、試料や機器の搬出入の簡素化、操業停止時間の短縮、効率の向上などが挙げられます。スプリット式は炉室への素早いアクセスを可能にし、頻繁な交換や複雑な実験設定を必要とする用途に特に有益です。さらに、空圧ダンパー支柱や複数の加熱ゾーンなどの機能により、使いやすさと性能がさらに向上します。

管状炉にはどのようなタイプがありますか?

管状炉には、ラボ用石英管状炉、分割型マルチヒーティングゾーン回転式管状炉、マルチゾーン管状炉、高温管状炉（最高1700℃）、薄膜蒸着用PECVD管状炉、真空管状炉、縦型管状炉など、さまざまなタイプがあります。これらには、急速加熱、傾斜調整、360°回転、カスタマイズ可能な加熱ゾーン、真空対応など、さまざまな用途に適した機能が装備されています。

どのようなタイプの縦型管状炉がありますか？

縦型管状炉には様々なタイプがあり、単一または複数の加熱ゾーン、急速熱処理 (RTP) 機能、真空ステーション、CVD (Chemical Vapor Deposition) や PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) などの特定のラボニーズに対応するカスタマイズ可能なソリューションなどがあります。

スプリット管炉の到達温度は?

スプリット管炉は最高温度1200℃に達することができ、材料合成、CVD、焼結などの高温用途に適しています。炉は加熱コイルを熱源として使用し、運転中の安全な外部温度を維持するための二重層強制空冷を備えています。

管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

管状炉には様々な用途に適した温度範囲があります。標準型は通常1200°Cまで、高温型は1400°Cから1700°Cまで達します。特殊な機種では最高 2000°Cに達するものもあります。温度能力は使用される発熱体や炉管の材質 (石英やアルミナなど) によって異なります。

横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由

縦型管状炉が横型炉より選択されるのは、主にその省スペース設計と重力アシストプロセスの利点のためです。縦型は熱と材料の均一な分布が可能で、特定の実験や製造工程に最適です。

管状炉の分割設計が有益な理由は？

管状炉の分割型設計は、炉室への迅速かつ容易なアクセスを可能にする点で有益です。この設計は、多くの場合、空気圧式ダンパー支柱を備えた2つのヒンジ式ハーフを特徴としており、複雑なセットアップや大型試料の取り扱いを簡素化し、運転休止時間を短縮し、特に頻繁な変更や複雑な構成を必要とする用途において全体的な効率を高めます。

管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?

管状炉は多用途で、空気、不活性ガス (アルゴンや窒素など)、真空、特殊混合ガスなど様々な雰囲気下で作動します。そのため、酸化、還元、アニール、化学蒸着 (CVD) などの幅広いプロセスに適しています。多くの機種には真空対応設計と精密な雰囲気管理のためのガス制御システムが装備されています。

縦型管状炉はどのような温度範囲を達成できますか？

竪型管状炉は、機種や構成にもよりますが、通常1800℃までの高温を達成できます。精密加熱用に設計され、様々な用途の特定温度要求に対応するようカスタマイズが可能です。

KINTEK管状炉の特徴は？

KINTEK の管状炉は、精密な温度制御 (最高 100°C/秒の急速加熱が可能な機種もあります)、カスタマイズ可能な加熱ゾーン (1 ゾーンから 10 ゾーンまで)、真空対応設計、および安全認証で際立っています。また、材料合成、CVD、焼結、半導体研究などの高度な用途向けに、回転機構、スプリットチャンバー、プラズマエンハンスド構成などのオプションを備えた汎用性の高いソリューションを提供しています。