製品 High Temperature Furnaces Tube Furnace マルチゾーン実験室用石英管状炉 管状炉
マルチゾーン実験室用石英管状炉 管状炉

Tube Furnace

マルチゾーン実験室用石英管状炉 管状炉

商品番号 : KT-MTF

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1700℃
温度制御精度
±1℃
加熱ゾーン数
1~10ゾーン
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マルチゾーン管状炉(蓋を開けた状態
KINTEK マルチゾーン管状炉

製品紹介

KINTEK マルチゾーン管状炉は、要求の厳しい高温アプリケーション用に設計された汎用性の高い実験装置です。独立して制御される複数の加熱ゾーンを備えており、試料全体に正確な温度勾配をつけたり、非常に均一な加熱を行うことができます。通常、高純度の石英管またはアルミナ管を使用するこの炉は、高度な材料処理や研究に不可欠です。

この先進的なシステムは、広い動作温度範囲(最高1700℃、1650℃での一定作業)、優れた温度制御精度(±1℃)、効率的な断熱性を提供します。真空または制御された不活性ガス雰囲気下で、焼結、コーティング、熱分解、化学気相成長(CVD)などの重要なプロセスを実行できるように設計されており、熱試験や材料合成の効率と信頼性を高めます。

主な特徴

当社のマルチゾーン管状炉には、お客様のラボの能力を高めるための機能が満載されています:

  • 比類のない温度精度: 各加熱ゾーンを独立して制御して正確な温度分布(均一性±5℃)を実現し、実験ニーズに合わせた温度勾配を作ります。
  • 高温能力: 最高温度1700℃(定常使用温度1650℃)を達成し、幅広い高温アプリケーションに対応します。
  • カスタマイズ可能な加熱ゾーン 1~10の加熱ゾーンがあり、独自の実験要件に合わせて温度プロファイルを高度にカスタマイズできます。
  • 効率的で安全な運転 強制空冷による二重構造の炉シェルは、熱損失を最小限に抑え、表面温度を低く維持してオペレーターの安全を確保し、エネルギー効率を向上させます。
  • ユーザーフレンドリーな制御システム 信頼性の高いデジタルPID制御装置(KT-MTF型)、または直感的なプログラミング、操作、データ監視が可能な先進のタッチスクリーン式PID制御装置(KT-MTF Pro型)のいずれかを選択できます。Proモデルには、マルチプログラムプリセットと停電時の再起動機能があります。
  • 堅牢な真空および雰囲気制御: 高品質のSS304ステンレス製真空フランジとOリングシールを装備し、高真空レベル(0.001Paまで)の達成、または大気制御実験用の陽圧(0.02Mpaまで)の維持が可能。
  • 高純度サンプル環境: 高品位石英またはAl2O3アルミナ炉管を使用し、サンプル汚染を最小限に抑えます。
  • 高度なデータ管理(Proモデル): KT-MTF Proのタッチスクリーン・コントローラーは、プログラムの設定を容易にし、分析のために履歴データを記録し、レシピを保存できるため、再現性とプロセス洞察が向上します。

技術仕様

炉型 KT-MTF KT-MTF Pro
温度コントローラー デジタルPIDコントローラー タッチスクリーンPIDコントローラー
マルチプログラムプリセット いいえ はい
停電時の再起動 いいえ はい
最高温度 1700℃
一定作業温度 1650℃
炉心管材料 高品位石英/ Al2O3アルミナ
炉管の直径 30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 150 / 230 mm (カスタマイズ可能)
加熱ゾーンの長さ 300 / 450 / 600 / 800 mm (カスタマイズ可能)
加熱ゾーン数 1~10ゾーン
真空シール SS304フランジ、Oリング付き
定格真空圧 0.001Pa / 10E-5 torr
定格陽圧 0.02Mpa / 150 torr
チャンバー材質 日本Al2O3アルミナファイバー
発熱体 Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル(または高温用SiC/MoSi2。)
熱電対 K / S / Bタイプ(温度範囲により選択)
温度制御精度 ±1℃
温度均一性 ±5℃(恒温域)
電源 AC110-220V、50/60HZ(カスタマイズ可能)
その他、Al2O3アルミナチューブのサイズ、ヒーティングゾーンの長さは、お客様の仕様に合わせてカスタマイズ可能です。

アプリケーション

KINTEK マルチゾーン管状炉は、以下のような幅広い研究用途や産業用途に不可欠です:

  • 材料の焼結およびアニール
  • 高度なコーティングプロセス (PVD、ALD 前処理など)
  • 熱分解研究
  • 化学蒸着(CVD)と成長
  • クエンチング試験と熱衝撃分析
  • 精密温度測定と校正
  • 金属、セラミックス、複合材料の高温熱処理
  • ナノ材料および半導体材料の開発
  • 粉末冶金プロセス
  • 新素材、石油化学、航空宇宙分野の研究

KINTEK マルチゾーン管状炉の利点

  • プロセス制御の強化: 複雑な熱プロセスや所望の材料特性の達成に不可欠な温度プロファイルの優れた制御を実現します。
  • 高い再現性: 一貫した温度均一性と精密な制御により、信頼性と再現性の高い実験結果が得られます。
  • 多様な研究に対応する汎用性: 真空、不活性ガス、反応性ガス雰囲気下での使用に適応し、幅広い材料科学アプリケーションに対応します。
  • 耐久性と信頼性の高い構造 高品質な断熱材や堅牢な発熱体など、高品質なコンポーネントを採用し、長寿命の性能を実現。
  • 純度の最適化 高純度の炉心管とチャンバー材料は、コンタミネーションを最小限に抑え、繊細な実験や材料開発に不可欠です。
  • ユーザー中心の設計: 直感的なインターフェースと配慮された設計機能により、操作の簡素化、セットアップ時間の短縮、ラボの生産性向上が実現します。

安全性の利点

安心して操作できます。KINTEK の管状炉は、包括的な保護機能を内蔵し、お客様の安全を最優先します:

  • 過電流保護: 過電流保護:過電流が検出された場合、炉は自動的に電源を遮断し、装置とラボを保護します。
  • 過熱アラームとシャットダウン: 設定温度を超えるとアラームが鳴り、加熱を停止して過熱を防止します。
  • 熱電対故障検知: 熱電対が破損または故障した場合、炉は加熱を停止してアラームを作動させ、プロセスの完全性と安全性を確保します。
  • 停電時の再起動(TFM Proモデル): 停電後に電源が回復すると、ファーネスは自動的に加熱プログラムを再開し、貴重な実験時間とサンプルを節約します。

動作原理

マルチゾーン管状炉は、高度に制御された環境下で管状に設置された試料を正確に加熱することにより作動します。ファーネスは複数の加熱ゾーンで構成され、それぞれが独自の発熱体と熱電対を備え、PIDシステムによって独立して制御されます。これにより、チューブの長さに沿った特定の温度勾配や、極めて均一な温度ゾーンの形成が可能になります。サンプルは、真空下(密閉されたフランジに接続された外部真空ポンプで実現)、またはチューブに特定のガスを流して制御された雰囲気下で処理できます。

標準パッケージ

番号 内容 数量
1 マルチゾーン管状炉本体 1
2 高純度アルミナまたは石英管(注文による) 1
3 真空シールフランジ バルブ&ゲージポート付 2セット
4 チューブサーマルブロック/プラグ 2個(ゾーンによってはそれ以上)
5 チューブブロックフック/エクストラクター 1
6 耐熱手袋 1
7 取扱説明書およびソフトウェア(該当する場合) 1

オプション設定とカスタマイズ

お客様の研究ニーズに合わせてファーネスをカスタマイズできます:

  • リアルタイムでの管内ガス検知およびモニタリング (H2、O2、CO2 など)
  • 独立した炉の温度モニタリングとデータロギング記録システム
  • RS485/Ethernet通信ポートによるPCからの遠隔操作、データ出力、統合。
  • マスフローコントローラー(MFC)およびフロート流量計を含む高精度ガス供給制御システム
  • 高度なプログラミング、データロギング、ユーザー管理機能を備えたタッチスクリーン温度コントローラーのアップグレード。
  • ロータリーベーンポンプ、モレキュラーポンプ、ディフュージョンポンプを含む包括的な高真空ポンプステーションのセットアップ。
  • カスタムチューブの直径、長さ、材質
  • 特定の加熱ゾーンの構成と長さ。

高温ソリューションにKINTEKを選ぶ理由

KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、多様な研究室に先進の高温炉ソリューションを提供しています。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空炉、雰囲気炉、CVD/PECVD/MPCVDシステムなどの製品ラインアップに加え、独自の実験要件に的確に対応する高度なカスタマイズ能力を備えています。

カスタマイズされたマルチゾーン管状炉ソリューション

高温処理能力を強化する準備はできていますか?当社の専門家が、お客様の特定の用途に最適なマルチゾーン管状炉を構成するお手伝いをいたします。詳細な仕様、カスタマイズオプションのご相談、個別のお見積もりについては、以下までご連絡ください。 ご連絡ください。 .KINTEKは画期的な結果を達成するためのパートナーです。

FAQ

マルチゾーン管状炉の主な用途は?

マルチゾーン管状炉は、半導体・電池製造、熱電対・鉱物絶縁ケーブル製造、真空ロウ付け・熱処理、真空硬化・焼結、水・廃棄物・土壌試験、航空宇宙セラミック・金属試験、石油・ガス分析、固体酸化物燃料電池、高分子複合材料・グラフェン製造など、様々な商業・研究用途で使用されています。また、金属の熱処理(焼き入れ、焼き戻し、焼きなまし)、溶接の予熱、セラミック/粉末冶金の焼結、コーティング処理、材料研究実験などにも使用されています。

管状炉とは何ですか?

管状炉は、熱源を通して熱を発生させ、その熱を炉管を通してワークまたは媒体に伝える加熱装置です。様々な工業用途に適した安定した均一加熱を実現します。温度制御システムは熱電対やその他のセンサーで炉の温度を監視し、その信号を制御装置にフィードバックして発熱体の出力を調整し、正確な温度制御を維持します。

分割管炉の一般的な用途は?

分割管炉は一般的に、材料試験 (引張試験など)、有機材料の熱分解、薄膜堆積のための化学蒸着 (CVD)、炭素含有材料の黒鉛化、セラミックの焼結などに使用されます。これらの用途では、分割管炉が提供する精密な温度制御と容易な試料ハンドリングが役立ちます。

回転式管状炉の主な用途は?

回転式管状炉は、均一加熱と連続混合が不可欠な粉末冶金、材料混合、化学反応に広く使用されています。回転式管状炉は特に粒状または粉末状の材料の処理に効果的です。

縦型管状炉とは

縦型管状炉は垂直方向に設計された高温加熱装置で、正確な温度制御、均一な加熱、効率的なエネルギー使用を実現します。その縦型設計は省スペースで、特に縦型設置が有利なプロセスに役立ちます。

マルチゾーン管状炉の主な特徴は?

主な特徴は以下の通りです:1) 柔軟なアニーリングおよび化学蒸着機能、2) 最大60mm (2インチ) までの試料の収容、3) ガス供給が容易な内蔵マニホールド、4) 端部が低温で中央部が均一加熱の自然な温度勾配、5) 様々なガスまたは真空条件への適応性、6) 正確な温度プロファイルのための複数の独立制御加熱ゾーン。

管状炉の主な用途は?

管状炉は真空または大気条件下でのガス急冷試験、合成や精製を含む熱処理用途、無機または有機化合物の酸化、拡散、脱炭酸、熱アニールなどに広く使用されています。また、加熱・冷却速度の制御が必要な材料試験、熱処理、化学反応にも使用されます。縦型管状炉は、試料を炉の上部から投入するプロセスに特に適しています。

スプリット管炉の主な特徴は?

分割式管状炉は通常、1、2、3、または 5 加熱ゾーンから選択でき、加熱長さは 200 ~ 600 mm、加熱直径は 40 ~ 100 mm です。安全なケース温度を確保するために二重の強制空冷が装備され、加熱源として最高1200℃に達する加熱コイルが使用されます。炉は円筒管を縦に分割して設計され、多くの場合、ヒンジで結合された2つの半分に分割され、スムーズな動作のために空圧ダンパー支柱が装備されています。

回転式管状炉の主な特徴は?

回転式管状炉は、均一な熱分布と試料の徹底的な混合を保証する回転機構を備えています。連続処理用に設計され、多様な試料量に対応します。通常、炉には複数の加熱ゾーン、回転および傾斜可能な炉管があり、最高温度は1200℃に達します。

竪型管状炉の用途は?

縦型管状炉は、加熱・冷却速度の制御を必要とする材料試験、熱処理、化学反応に広く使用されています。また化学工学では合成樹脂、ゴム、塗料、染料の製造に、食品工業では焼成、乾燥、殺菌に、冶金では製錬、溶解、熱処理プロセスに使用されます。

マルチゾーン管状炉の仕組み

マルチゾーン管状炉の機能1) 独立制御された複数の発熱体を通して熱を発生させ、2) この熱を炉管を通してワークピースに均一に伝達し、3) 正確な温度勾配 (CVD 膜成長のようなプロセスの場合) または拡張された恒温ゾーン (複数のゾーンを同じ温度に設定した場合) を形成し、4) 様々な工業プロセスに適した安定した加熱条件を維持します。

管状炉を使用する利点は?

管状炉には、成熟した技術、シンプルな炉構造、低い消費電力、高い熱効率、容易な操作と制御、連続生産能力、精密な温度制御、均一な温度分布、異なる雰囲気への適応性などの利点があります。また、製品の歩留まりが高く、製品濃度が高く、分解ガスや排ガスをほとんど回収できる。複数の炉を組み合わせて大規模生産も可能です。

スプリット管炉の仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱を炉管内のワークまたは媒体に伝えます。このプロセスにより安定した均一加熱が保証されるため、様々な工業用途や実験用途に適しています。炉は複数の加熱ゾーンを設定でき、安全な外部温度を維持するための強制空冷などの機能も備えています。

回転式管状炉の仕組みは?

回転式管状炉は間接焼成の原理で作動し、熱源から回転する管を介して材料に熱が伝わります。均一な加熱を確保するため、複数の制御ゾーンを備えた連続熱システムを採用しています。炉は作業部で粉砕、固体、気体、液体燃料を燃焼させ、試料に向かって流れる加熱ガスを発生させます。耐火物で内張りされ、斜めに取り付けられた回転ドラムがこのプロセスを促進します。

縦型管状炉の利点は?

竪型管状炉は横型炉に比べて設置面積が小さいため、スペースの限られた研究室に最適です。また、効率的で省エネルギーな運転、精密な温度制御、柔軟な使用方法、操作の容易さ、安全性、信頼性、環境基準への適合も実現します。

マルチゾーン管状炉を使用する利点は何ですか?

利点は以下の通りです:1)シンプルな炉構造による成熟した信頼性の高い技術、2)高い熱効率による低消費電力、3)容易な操作と精密な制御、4)連続生産能力、5)均一加熱ゾーンの拡大または精密な温度勾配の形成能力、6)化学プロセスにおける製品収率の向上、7)プロセスガスの回収能力、8)幅広い原料適用性、9) 炉の組み合わせによる大規模生産への拡張性。

管状炉にはどのようなタイプがありますか?

管状炉には、ラボ用石英管状炉、分割型マルチヒーティングゾーン回転式管状炉、マルチゾーン管状炉、高温管状炉(最高1700℃)、薄膜蒸着用PECVD管状炉、真空管状炉、縦型管状炉など、さまざまなタイプがあります。これらには、急速加熱、傾斜調整、360°回転、カスタマイズ可能な加熱ゾーン、真空対応など、さまざまな用途に適した機能が装備されています。

分割型管状炉を使用する利点は何ですか?

スプリット管状炉の主な利点には、試料や機器の搬出入の簡素化、操業停止時間の短縮、効率の向上などが挙げられます。スプリット式は炉室への素早いアクセスを可能にし、頻繁な交換や複雑な実験設定を必要とする用途に特に有益です。さらに、空圧ダンパー支柱や複数の加熱ゾーンなどの機能により、使いやすさと性能がさらに向上します。

回転式管状炉を使用する利点は何ですか?

回転式管状炉には、回転作用による均一な温度分布、試料の沈降防止、安定した処理など、いくつかの利点があります。熱伝達効率が高まるため、処理時間が短縮され、より均一な結果が得られます。さらに、熱伝達効率に優れた設計で、特定のニーズに合わせて複数の加熱ゾーンをカスタマイズできます。

竪型管状炉の仕組み

縦型管状炉は熱源から熱を発生させ、その熱を炉管を介して被加熱物または媒体に伝えます。このプロセスは安定した均一加熱を保証し、様々な工業用途に適しています。

マルチゾーン管状炉にはどのようなタイプがありますか?

利用可能なタイプには以下のものがあります:1) 分割式多加熱ゾーン回転式管状炉 (傾斜および回転機能付き)、2) ラボ用石英管状炉 (最高温度1700℃、1~10ゾーン)、3) 高速加熱の急速熱処理 (RTP) 炉、4) 化学蒸着用CVD管状炉、5) プラズマ強化プロセス用PECVD炉、6) 真空管状炉、7) 高圧管状炉。これらはゾーン数、温度範囲、真空/大気制御のような特殊機能をカスタマイズできる多様な構成で提供されます。

管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

管状炉には様々な用途に適した温度範囲があります。標準型は通常1200°Cまで、高温型は1400°Cから1700°Cまで達します。特殊な機種では最高 2000°Cに達するものもあります。温度能力は使用される発熱体や炉管の材質 (石英やアルミナなど) によって異なります。

スプリット管炉の到達温度は?

スプリット管炉は最高温度1200℃に達することができ、材料合成、CVD、焼結などの高温用途に適しています。炉は加熱コイルを熱源として使用し、運転中の安全な外部温度を維持するための二重層強制空冷を備えています。

回転式管状炉の最高到達温度は?

回転式管状炉は最高温度 1200°Cに達することができ、脱炭酸、焼結、熱処理などの高温用途に適しています。

どのようなタイプの縦型管状炉がありますか?

縦型管状炉には様々なタイプがあり、単一または複数の加熱ゾーン、急速熱処理 (RTP) 機能、真空ステーション、CVD (Chemical Vapor Deposition) や PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) などの特定のラボニーズに対応するカスタマイズ可能なソリューションなどがあります。

管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?

管状炉は多用途で、空気、不活性ガス (アルゴンや窒素など)、真空、特殊混合ガスなど様々な雰囲気下で作動します。そのため、酸化、還元、アニール、化学蒸着 (CVD) などの幅広いプロセスに適しています。多くの機種には真空対応設計と精密な雰囲気管理のためのガス制御システムが装備されています。

管状炉の分割設計が有益な理由は?

管状炉の分割型設計は、炉室への迅速かつ容易なアクセスを可能にする点で有益です。この設計は、多くの場合、空気圧式ダンパー支柱を備えた2つのヒンジ式ハーフを特徴としており、複雑なセットアップや大型試料の取り扱いを簡素化し、運転休止時間を短縮し、特に頻繁な変更や複雑な構成を必要とする用途において全体的な効率を高めます。

回転式管状炉で処理できる材料の種類は?

回転式管状炉は粒状または粉状の材料の処理に最適です。均一な加熱と連続混合が要求される粉末冶金、材料混合、化学反応などの用途で一般的に使用されます。

横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由

縦型管状炉が横型炉より選択されるのは、主にその省スペース設計と重力アシストプロセスの利点のためです。縦型は熱と材料の均一な分布が可能で、特定の実験や製造工程に最適です。

KINTEK管状炉の特徴は?

KINTEK の管状炉は、精密な温度制御 (最高 100°C/秒の急速加熱が可能な機種もあります)、カスタマイズ可能な加熱ゾーン (1 ゾーンから 10 ゾーンまで)、真空対応設計、および安全認証で際立っています。また、材料合成、CVD、焼結、半導体研究などの高度な用途向けに、回転機構、スプリットチャンバー、プラズマエンハンスド構成などのオプションを備えた汎用性の高いソリューションを提供しています。

縦型管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

竪型管状炉は、機種や構成にもよりますが、通常1800℃までの高温を達成できます。精密加熱用に設計され、様々な用途の特定温度要求に対応するようカスタマイズが可能です。

縦型管状炉はカスタマイズ可能ですか?

縦型管状炉は高度なカスタマイズが可能です。複数の加熱ゾーン、急速加熱機能、真空システム、特殊な雰囲気制御など、様々な研究用途や工業用途の独自のニーズに対応するための機能を装備することができます。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

4.8

out of

5

Incredible precision and durability! The multi-zone control is a game-changer for our lab.

Elara Voss

4.7

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5

Fast delivery and superb quality. This furnace exceeded all our expectations!

Rohan Khatri

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5

Worth every penny! The advanced technology and robust build make it a lab essential.

Anika Sokolov

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Top-notch performance and reliability. Our experiments have never been smoother!

Dante Moretti

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Nikolai Petrov

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5

Quick setup and outstanding results. Highly recommend for any serious laboratory work!

Sienna Okafor

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