マルチゾーン実験室用石英管状炉 管状炉

製品紹介

KINTEK マルチゾーン管状炉は、要求の厳しい高温アプリケーション用に設計された汎用性の高い実験装置です。独立して制御される複数の加熱ゾーンを備えており、試料全体に正確な温度勾配をつけたり、非常に均一な加熱を行うことができます。通常、高純度の石英管またはアルミナ管を使用するこの炉は、高度な材料処理や研究に不可欠です。

この先進的なシステムは、広い動作温度範囲（最高1700℃、1650℃での一定作業）、優れた温度制御精度（±1℃）、効率的な断熱性を提供します。真空または制御された不活性ガス雰囲気下で、焼結、コーティング、熱分解、化学気相成長（CVD）などの重要なプロセスを実行できるように設計されており、熱試験や材料合成の効率と信頼性を高めます。

主な特徴

当社のマルチゾーン管状炉には、お客様のラボの能力を高めるための機能が満載されています：

• 比類のない温度精度： 各加熱ゾーンを独立して制御して正確な温度分布（均一性±5℃）を実現し、実験ニーズに合わせた温度勾配を作ります。
• 高温能力： 最高温度1700℃（定常使用温度1650℃）を達成し、幅広い高温アプリケーションに対応します。
• カスタマイズ可能な加熱ゾーン 1～10の加熱ゾーンがあり、独自の実験要件に合わせて温度プロファイルを高度にカスタマイズできます。
• 効率的で安全な運転 強制空冷による二重構造の炉シェルは、熱損失を最小限に抑え、表面温度を低く維持してオペレーターの安全を確保し、エネルギー効率を向上させます。
• ユーザーフレンドリーな制御システム 信頼性の高いデジタルPID制御装置（KT-MTF型）、または直感的なプログラミング、操作、データ監視が可能な先進のタッチスクリーン式PID制御装置（KT-MTF Pro型）のいずれかを選択できます。Proモデルには、マルチプログラムプリセットと停電時の再起動機能があります。
• 堅牢な真空および雰囲気制御： 高品質のSS304ステンレス製真空フランジとOリングシールを装備し、高真空レベル（0.001Paまで）の達成、または大気制御実験用の陽圧（0.02Mpaまで）の維持が可能。
• 高純度サンプル環境： 高品位石英またはAl2O3アルミナ炉管を使用し、サンプル汚染を最小限に抑えます。
• 高度なデータ管理（Proモデル）： KT-MTF Proのタッチスクリーン・コントローラーは、プログラムの設定を容易にし、分析のために履歴データを記録し、レシピを保存できるため、再現性とプロセス洞察が向上します。

技術仕様

アプリケーション

KINTEK マルチゾーン管状炉は、以下のような幅広い研究用途や産業用途に不可欠です：

• 材料の焼結およびアニール
• 高度なコーティングプロセス (PVD、ALD 前処理など)
• 熱分解研究
• 化学蒸着（CVD）と成長
• クエンチング試験と熱衝撃分析
• 精密温度測定と校正
• 金属、セラミックス、複合材料の高温熱処理
• ナノ材料および半導体材料の開発
• 粉末冶金プロセス
• 新素材、石油化学、航空宇宙分野の研究

KINTEK マルチゾーン管状炉の利点

• プロセス制御の強化： 複雑な熱プロセスや所望の材料特性の達成に不可欠な温度プロファイルの優れた制御を実現します。
• 高い再現性： 一貫した温度均一性と精密な制御により、信頼性と再現性の高い実験結果が得られます。
• 多様な研究に対応する汎用性： 真空、不活性ガス、反応性ガス雰囲気下での使用に適応し、幅広い材料科学アプリケーションに対応します。
• 耐久性と信頼性の高い構造 高品質な断熱材や堅牢な発熱体など、高品質なコンポーネントを採用し、長寿命の性能を実現。
• 純度の最適化 高純度の炉心管とチャンバー材料は、コンタミネーションを最小限に抑え、繊細な実験や材料開発に不可欠です。
• ユーザー中心の設計： 直感的なインターフェースと配慮された設計機能により、操作の簡素化、セットアップ時間の短縮、ラボの生産性向上が実現します。

安全性の利点

安心して操作できます。KINTEK の管状炉は、包括的な保護機能を内蔵し、お客様の安全を最優先します：

• 過電流保護： 過電流保護：過電流が検出された場合、炉は自動的に電源を遮断し、装置とラボを保護します。
• 過熱アラームとシャットダウン： 設定温度を超えるとアラームが鳴り、加熱を停止して過熱を防止します。
• 熱電対故障検知： 熱電対が破損または故障した場合、炉は加熱を停止してアラームを作動させ、プロセスの完全性と安全性を確保します。
• 停電時の再起動（TFM Proモデル）： 停電後に電源が回復すると、ファーネスは自動的に加熱プログラムを再開し、貴重な実験時間とサンプルを節約します。

動作原理

マルチゾーン管状炉は、高度に制御された環境下で管状に設置された試料を正確に加熱することにより作動します。ファーネスは複数の加熱ゾーンで構成され、それぞれが独自の発熱体と熱電対を備え、PIDシステムによって独立して制御されます。これにより、チューブの長さに沿った特定の温度勾配や、極めて均一な温度ゾーンの形成が可能になります。サンプルは、真空下（密閉されたフランジに接続された外部真空ポンプで実現）、またはチューブに特定のガスを流して制御された雰囲気下で処理できます。

標準パッケージ

オプション設定とカスタマイズ

お客様の研究ニーズに合わせてファーネスをカスタマイズできます：

• リアルタイムでの管内ガス検知およびモニタリング (H2、O2、CO2 など)
• 独立した炉の温度モニタリングとデータロギング記録システム
• RS485/Ethernet通信ポートによるPCからの遠隔操作、データ出力、統合。
• マスフローコントローラー（MFC）およびフロート流量計を含む高精度ガス供給制御システム
• 高度なプログラミング、データロギング、ユーザー管理機能を備えたタッチスクリーン温度コントローラーのアップグレード。
• ロータリーベーンポンプ、モレキュラーポンプ、ディフュージョンポンプを含む包括的な高真空ポンプステーションのセットアップ。
• カスタムチューブの直径、長さ、材質
• 特定の加熱ゾーンの構成と長さ。

高温ソリューションにKINTEKを選ぶ理由

KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、多様な研究室に先進の高温炉ソリューションを提供しています。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空炉、雰囲気炉、CVD/PECVD/MPCVDシステムなどの製品ラインアップに加え、独自の実験要件に的確に対応する高度なカスタマイズ能力を備えています。

カスタマイズされたマルチゾーン管状炉ソリューション

高温処理能力を強化する準備はできていますか？当社の専門家が、お客様の特定の用途に最適なマルチゾーン管状炉を構成するお手伝いをいたします。詳細な仕様、カスタマイズオプションのご相談、個別のお見積もりについては、以下までご連絡ください。 ご連絡ください。 .KINTEKは画期的な結果を達成するためのパートナーです。

業界リーダーからの信頼