CVD & PECVD Furnace
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号 : KT-CTF12
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 最高温度
- 1200℃
- 炉心管径
- 60mm
- 加熱速度
- 0～20℃/分
配送:
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詳細&パーツ
紹介
KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、ラボの多様なニーズに対応した先進の高温炉ソリューションを提供しています。高温CVD炉 真空ステーション付きスプリットチャンバーCVD管状炉 は、要求の厳しいCVD（Chemical Vapor Deposition：化学的気相成長）用途向けに綿密に設計された汎用性の高い高性能システムです。
この炉は精密で使いやすいように設計されています。お客様の研究に役立つ主な特徴は以下の通りです：
- 分割式ファーネスチャンバー： 反応試料への容易なアクセスと急速冷却を可能にし、実験効率とスループットを大幅に向上させます。
- 高温能力： 高純度石英管（標準直径60mm、カスタマイズ可能なオプションあり）を使用し、1200℃までの温度を必要とするプロセスに適しています。
- 正確なガス制御： CH4、H2、O2、N2などのソースガスを正確かつ安定的に供給し、一貫したプロセス結果を実現します。
- 統合真空ステーション 堅牢な4L/Sロータリーベーン真空ポンプを搭載し、最大真空圧10Paを達成、様々な真空プロセスに最適な環境を提供します。
KINTEKでは、ユニークな実験要件には柔軟なソリューションが必要であることを理解しています。このシステムは、材料科学、半導体プロセス、先駆的な研究開発に理想的な高度な機能を満載していますが、お客様の特定のニーズに合わせてさらにカスタマイズすることも可能です。当社の専門知識は、マッフル炉、管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉、先進のCVD/PECVD/MPCVDシステムなど、包括的な製品ラインに及んでおり、お客様の業務に最適なソリューションを確実に提供します。
お客様の研究能力を向上させ、CVDプロセスのカスタム構成についてご相談ください。 当社のスペシャリストにご連絡ください。 スプリットチャンバーCVD管状炉をお客様の正確な実験要件にどのように適合させることができるかを検討し、お見積もりをご依頼ください。
アプリケーション
真空ステーション付きスプリットチャンバーCVD管状炉は、材料科学、半導体製造、研究開発の分野におけるさまざまな用途向けに設計された、多用途で高度な装置です。この装置は、温度、ガスフロー、真空レベルを正確に制御する必要があるプロセスで特に有用であり、高品質の材料合成と処理に不可欠なツールです。
- ナノ材料合成：この炉は、ナノワイヤー、ナノ薄膜、その他のナノ構造材料の成長に最適で、これらは高度な電子・光電子デバイスの開発に不可欠です。
- 真空コーティング：金属膜、セラミック膜、複合膜など、光学や電子工学などの用途で材料の特性を向上させるために不可欠な薄膜を、さまざまな基板上に成膜するために広く使用されています。
- 電池材料の加工：この炉は電池材料の乾燥・焼結に適しており、高性能電池の製造に不可欠な工程です。
- 材料の乾燥と焼結：セラミックス、耐火物、特殊材料の高温焼結に使用され、これらの材料の圧密化と緻密化を確実にします。
- 大気および真空熱処理：縦型管状炉の構造により、小型鋼部品の焼入れ、焼きなまし、焼き戻し、および縦型CVDコーティングが可能で、冶金プロセスにおける貴重な資産となっています。
- 研究開発高温実験、雰囲気焼結、還元雰囲気、CVD/CVI実験など、大学、研究機関、工業・鉱業企業で広く使用され、材料科学技術の発展に貢献しています。
特徴
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉は、高度な化学蒸着（CVD）プロセス用に設計された高度な装置です。この炉は成膜の効率と品質を高める最先端技術を統合しており、研究および工業用途に最適です。主な特徴とその利点をご紹介します：
- 高い成膜速度：高周波グロー技術により、このファーネスは成膜速度を大幅に向上させ、最大10Å/Sに達します。この迅速な成膜は、ハイスループットの生産と研究に不可欠であり、時間の節約と生産性の向上につながります。
- 大面積均一性：先進のマルチポイントRF供給技術と特殊なガス経路分布により、この炉は最大8%の膜均一性を保証します。この均一性は、大面積の基板に一貫した高品質のコーティングを形成するために不可欠であり、製造される材料の信頼性を高めます。
- 一貫した成膜：先進の半導体産業コンセプトを取り入れた設計により、基板間の偏差は2%未満です。この高いレベルの一貫性は、電子部品の製造など、精密で再現性の高い結果を必要とするアプリケーションに不可欠です。
- 安定したプロセス制御：装置の高い安定性は、CVDプロセスの継続性と一貫性を保証します。この信頼性は、プロセスの完全性を維持し、運転中の欠陥や故障のリスクを低減するために不可欠です。
- インテリジェント制御システム：Bonage社が特許を取得した統合制御システムには、クローズドループ負帰還機構を使用した高性能温度制御システムが含まれています。このシステムは、高品質の輸入電気部品と組み合わされ、装置の全体的な性能と信頼性を高め、事実上メンテナンスフリーとなっています。
- 多彩なアプリケーション金属膜、セラミック膜、複合膜など、さまざまな種類の膜の成膜に適したこの炉は、連続成長プロセスをサポートし、プラズマ洗浄やエッチングなどの追加機能で容易に拡張できます。この汎用性により、多様な研究・生産ニーズに対応する貴重な資産となります。
原理
真空ステーション付きスプリットチャンバーCVD管状炉は、化学気相成長（CVD）プロセスに使用される高温真空炉です。CVDは、ガスまたは蒸気の化学反応により、材料の薄膜を基板上に堆積させるプロセスです。真空ステーション付きスプリットチャンバーCVD管状炉は、CVDプロセス中に基板へのアクセスを容易にするため、スプリット炉チャンバーを採用しています。真空ステーションは炉室内を真空にし、不純物を除去して成膜品質を向上させます。
利点
- 直感的な試料観察と急速冷却炉室が分割されているため、反応試料を直接観察でき、急速冷却が可能。
- 高温対応最高使用温度は1200℃まで対応し、多様なアプリケーションに対応
- 正確なガス制御: CH4、H2、O2、N2ソースを備えた4チャンネルのMFCマスフローメーターにより、正確で安定したガス供給が保証されます。
- 真空対応4L/Sロータリーベーン真空ポンプを搭載した真空ステーションは、最大10Paの真空圧を実現し、様々な真空プロセスを可能にします。
- 高速加熱・冷却炉室スライド方式により、迅速な加熱・冷却が可能。
- 高度な温度制御優れた精度のPIDプログラマブル温度制御、リモートコントロール、集中制御機能。
- ユーザーフレンドリーなインターフェース7インチTFTタッチスクリーンを搭載したCTF Proコントローラーにより、直感的なプログラム設定とデータ解析が可能。
- 多彩な真空セットアップステンレス製真空フランジは、様々な真空ポンプステーションに対応し、真空環境をカスタマイズできます。
- エネルギー効率水冷システムとガスアフターフロー設計により、エネルギー消費を最小限に抑えます。
- 幅広い適用性CVD、拡散、および真空と大気保護下の他の熱処理に適しています。
安全性
- Kindle Tech管状炉は過電流保護と過温度警報機能を持ち、炉は自動的に電源を切ります。
- 熱カップル検出機能で炉を構築し、炉は加熱を停止し、アラームは一度壊れたか、または障害が検出されたオンになります。
- KT-CTF12 プロ サポート電源異常の再始動機能、炉は力が失敗の後で入っているとき炉の暖房プログラムを再開します
技術仕様
| 炉モデル | KT-CTF12-60 |
|---|---|
| 最高温度 | 1200℃ |
| 一定作業温度 | 1100℃ |
| 炉心管材質 | 高純度石英 |
| 炉管の直径 | 60mm |
| 加熱ゾーン長さ | 1x450mm |
| チャンバー材質 | 日本アルミナ繊維 |
| 発熱体 | Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル |
| 加熱速度 | 0～20℃/分 |
| 熱電対 | Kタイプ |
| 温度コントローラー | デジタル PID コントローラー/タッチ画面 PID のコントローラー |
| 温度調整の正確さ | ±1℃ |
| スライド距離 | 600mm |
| ガス精密制御ユニット | |
| 流量計 | MFCマスフローメーター |
| ガスチャンネル | 4チャンネル |
| 流量 |
MFC1: 0-5SCCM O2
MFC2: 0-20SCMCH4 mfc3: 0- 100sccm h2 mfc4: 0-500sccm n2 |
| 直線性 | ±0.5% F.S. |
| 繰り返し性 | ±0.2% F.S. |
| パイプラインとバルブ | ステンレス鋼 |
| 最高使用圧力 | 0.45MPa |
| 流量計コントローラー | デジタルノブコントローラー/タッチスクリーンコントローラー |
| 標準真空ユニット（オプション） | |
| 真空ポンプ | ロータリーベーン真空ポンプ |
| ポンプ流量 | 4L/S |
| 真空吸引ポート | KF25 |
| 真空計 | ピラニ/抵抗シリコン真空計 |
| 定格真空圧 | 10Pa |
| 高真空ユニット（オプション） | |
| 真空ポンプ | ロータリーベーンポンプ＋分子ポンプ |
| ポンプ流量 | 4L/S+110L/S |
| 真空吸引ポート | KF25 |
| 真空計 | 複合真空計 |
| 定格真空圧 | 6x10-5Pa |
| 上記の仕様とセットアップはカスタマイズすることができます | |
標準パッケージ
| いいえ | 説明 | 数量 |
|---|---|---|
| 1 | 炉 | 1 |
| 2 | 石英管 | 1 |
| 3 | 真空フランジ | 2 |
| 4 | チューブサーマルブロック | 2 |
| 5 | チューブサーマルブロックフック | 1 |
| 6 | 耐熱グローブ | 1 |
| 7 | 精密ガスコントロール | 1 |
| 8 | 真空ユニット | 1 |
| 9 | 操作マニュアル | 1 |
オプション設定
- H2、O2 などの管内ガス検知および監視
- 独立した炉内温度のモニタリングと記録
- RS 485 通信ポートによる PC の遠隔操作とデータのエクスポート
- 質量流量計やフロート流量計のような流量制御を供給するインサートガス
- タッチスクリーン式温度調節器と多彩なオペレーターフレンドリー機能
- ベーン真空ポンプ、分子ポンプ、拡散ポンプのような高真空ポンプステーションのセットアップ
カスタマイズに関するお問い合わせや、KINTEKがお客様の特定の研究ニーズをどのようにサポートできるかについての詳細は、以下をご覧ください。 お問い合わせフォーム または弊社エキスパートチームまでお問い合わせください。
FAQ
管状炉とは何ですか？
マルチゾーン管状炉の主な用途は?
MPCVD装置の原理は？
PECVD装置は何に使用されますか？
真空炉の主な用途は？
縦型管状炉とは
雰囲気炉の用途は？
真空誘導炉とは
CVD装置の原理は？
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マルチゾーン管状炉の主な特徴は？
MPCVD装置を使用する利点は何ですか？
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真空誘導炉の主な用途は？
CVD装置を使用する利点は何ですか？
管状炉を使用する利点は？
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MPCVD装置の主な用途は？
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雰囲気炉の仕組み
真空誘導炉の仕組み
CVD装置の用途は？
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マルチゾーン管状炉を使用する利点は何ですか?
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CVD装置の主な特徴は？
管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?
マルチゾーン管状炉にはどのようなタイプがありますか?
MPCVD装置は、どのようにエネルギー効率を高めるのですか？
PECVD装置を使用する利点は何ですか？
真空炉で処理できる材料の種類は?
どのようなタイプの縦型管状炉がありますか？
雰囲気炉で使用できるガスの種類は？
真空誘導炉にはどのようなタイプがありますか?
どのようなタイプのCVD装置がありますか？
管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?
なぜMPCVDがダイヤモンド成長に好まれるのか？
PECVD装置で成膜できる材料は？
ホットウォール式真空炉とコールドウォール式真空炉の違いは何ですか?
横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由
高度な雰囲気炉にはどのような安全機能がありますか？
なぜ真空誘導炉では温度制御が重要なのですか?
KINTEK管状炉の特徴は？
なぜPECVDが他の成膜方法よりも好まれるのですか？
真空炉は特定の用途に合わせてカスタマイズできますか?
縦型管状炉はどのような温度範囲を達成できますか？
真空誘導炉で処理できる材料は?
縦型管状炉はカスタマイズ可能ですか?
真空環境は材料加工にどのようなメリットをもたらしますか？
4.9
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Incredible precision and speed! This furnace exceeded my expectations for lab efficiency.
4.8
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5
Top-notch quality and durability. A game-changer for our research team!
4.7
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5
Fast delivery and easy setup. The vacuum station works flawlessly.
4.9
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5
Worth every penny! The split chamber design is a brilliant innovation.
4.8
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5
Perfect for high-temperature applications. Highly recommend for advanced labs.
4.9
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5
Exceptional performance and reliability. Our experiments have never been smoother.
4.7
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5
Love the compact design! Saves space without compromising on power.
4.8
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5
The vacuum seal is impeccable. No leaks, no issues—just perfect results.
4.9
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5
Cutting-edge technology at its finest. A must-have for serious researchers.
4.8
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5
Superb value for money. The build quality is outstanding.
4.7
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5
Quick and efficient service. The furnace arrived in perfect condition.
4.9
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5
The split chamber feature is revolutionary. Makes multitasking a breeze.
4.8
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5
Reliable and consistent performance. Our lab productivity has soared.
4.7
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5
Easy to operate and maintain. A fantastic investment for any lab.
4.9
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5
The temperature control is spot-on. Perfect for delicate experiments.
4.8
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5
Durable and built to last. This machine is a workhorse.
4.9
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5
Innovative design meets superior functionality. Absolutely love it!
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