真空炉は、航空宇宙、医療、半導体製造など、精密さと純度が要求される産業における高温処理に不可欠です。KINTEKは以下のような多様な真空炉を提供しています:
- モリブデン真空熱処理炉:1400℃までの焼結および結晶成長に最適です。
- 真空ホットプレス炉:加熱と加圧を組み合わせ、優れた材料密度を実現します。
- 高圧ラボ真空管炉:15Mpaの圧力制御で焼結や研究に最適。
- 真空誘導溶解炉:2000℃までの高純度金属加工が可能です。
- 歯科用磁器ジルコニア焼結炉:1℃精度の歯科技工用精密機器。
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真空炉は、航空宇宙、医療、半導体製造など、精密さと純度が要求される産業における高温処理に不可欠です。KINTEKは以下のような多様な真空炉を提供しています:
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号 : KT-CTF12
システム内の効率的な接続と安定した真空のための高性能真空ベローズ
商品番号 : KT-VA05
KINTEK の真空炉は、最新の研究および工業用途の厳しい要求に応えるように設計されています。KINTEKの真空炉は、真空環境を作り出すことで酸化や汚染を排除し、高純度の結果を保証します。加熱エレメントと温度制御システムは、焼結、ろう付け、熱処理などのプロセスに不可欠な均一加熱と精密な温度制御を実現するよう、綿密に設計されています。
高温能力:2200℃グラファイト真空炉やタングステン真空炉など、当社の炉は極端な高温に耐えるよう設計されており、先端材料の研究や生産に理想的です。
カスタマイズ可能なソリューション:コンパクトな実験用炉から大規模な工業用ユニットまで、KINTEKはお客様のニーズに合わせたソリューションを提供します。例えば、当社の真空ホットプレス炉は、特定の圧力と温度の要件に合わせてカスタマイズすることができます。
優れた真空度:高度な真空システムにより、当社の炉は6*10-³Paという低圧を実現し、繊細なプロセスでも汚染のない環境を保証します。
エネルギー効率:セラミックファイバーライニング付き真空炉のような機種は優れた断熱性を提供し、均一な熱分布を維持しながらエネルギー消費を削減します。
多様なアプリケーション:半導体デバイスの製造から歯科用磁器の焼結まで、当社の炉はその適応性と精度により、幅広い用途をサポートします。
高温処理能力を強化する準備はできましたか? 今すぐお問い合わせください。 真空炉がお客様の研究や生産にどのように貢献できるか、具体的なニーズをお聞かせください。当社のエキスパートが、お客様のニーズに合わせたご提案とサポートをご提供いたします。
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