真空炉は、航空宇宙、医療、半導体製造など、精密さと純度が要求される産業における高温処理に不可欠です。KINTEKは以下のような多様な真空炉を提供しています：
- モリブデン真空熱処理炉:1400℃までの焼結および結晶成長に最適です。
- 真空ホットプレス炉:加熱と加圧を組み合わせ、優れた材料密度を実現します。
- 高圧ラボ真空管炉:15Mpaの圧力制御で焼結や研究に最適。
- 真空誘導溶解炉:2000℃までの高純度金属加工が可能です。
- 歯科用磁器ジルコニア焼結炉:1℃精度の歯科技工用精密機器。
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真空炉
2200 ℃ 黒鉛真空熱処理炉
商品番号: KT-VG
システム内の効率的な接続と安定した真空のための高性能真空ベローズ
商品番号: KT-VA05
歯科磁器ジルコニア焼結セラミック真空プレス炉
商品番号: KT-DP10
歯科技工所向け真空歯科用磁器焼結炉
商品番号: KT-DV10
高圧実験室用真空管状炉 水晶管状炉
商品番号: KT-PTF
真空ホットプレス炉機 加熱真空プレス管状炉
商品番号: KT-VTP
ラミネーションと加熱のための真空ホットプレス炉機械
商品番号: KT-VLP
真空ホットプレス炉マシン加熱真空プレス
商品番号: KT-VHP
カスタムメイド万能CVD管状炉化学蒸着CVD装置マシン
商品番号: KT-CTF16
化学的気相成長装置のための多加熱帯 CVD の管状炉機械
商品番号: KT-CTF14
真空ステーションCVD装置付きスプリットチャンバーCVD管状炉
商品番号: KT-CTF12
2200 ℃ タングステン真空熱処理焼結炉
商品番号: KT-VT
真空シール連続作業回転式管状炉 回転式管状炉
商品番号: KT-CRTF
モリブデン真空熱処理炉
商品番号: KT-VM
セラミックファイバーライナー付き真空熱処理炉
商品番号: KT-VF
真空熱処理焼結ろう付炉
商品番号: KT-BF
9MPa真空熱処理焼結炉
商品番号: KT-APS
小型真空熱処理・タングステン線焼結炉
商品番号: KT-VTW
真空熱処理焼結炉 モリブデンワイヤー真空焼結炉
商品番号: KT-VMW
600T真空誘導ホットプレス真空熱処理焼結炉
商品番号: KT-VH
真空焼結用圧力式真空熱処理焼結炉
商品番号: KT-VPS
真空誘導溶解炉とアーク溶解炉
商品番号: KT-VI
研究室用真空チルト式回転式管状炉 回転式管状炉
商品番号: KT-RTF
精密高温プロセス用先進真空炉
KINTEK の真空炉は、最新の研究および工業用途の厳しい要求に応えるように設計されています。KINTEKの真空炉は、真空環境を作り出すことで酸化や汚染を排除し、高純度の結果を保証します。加熱エレメントと温度制御システムは、焼結、ろう付け、熱処理などのプロセスに不可欠な均一加熱と精密な温度制御を実現するよう、綿密に設計されています。
主な特長と利点
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高温能力:2200℃グラファイト真空炉やタングステン真空炉など、当社の炉は極端な高温に耐えるよう設計されており、先端材料の研究や生産に理想的です。
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カスタマイズ可能なソリューション:コンパクトな実験用炉から大規模な工業用ユニットまで、KINTEKはお客様のニーズに合わせたソリューションを提供します。例えば、当社の真空ホットプレス炉は、特定の圧力と温度の要件に合わせてカスタマイズすることができます。
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優れた真空度:高度な真空システムにより、当社の炉は6*10-³Paという低圧を実現し、繊細なプロセスでも汚染のない環境を保証します。
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エネルギー効率:セラミックファイバーライニング付き真空炉のような機種は優れた断熱性を提供し、均一な熱分布を維持しながらエネルギー消費を削減します。
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多様なアプリケーション:半導体デバイスの製造から歯科用磁器の焼結まで、当社の炉はその適応性と精度により、幅広い用途をサポートします。
KINTEKを選ぶ理由
- 実証済みの専門技術:研究開発および製造における長年の経験により、信頼性の高い高性能真空炉をお届けします。
- 包括的なサポート:最初のご相談からアフターサービスまで、当社のチームがシームレスな体験をお約束します。
- 革新的なデザイン:継続的な技術革新により、先端材料研究用のスプリットチャンバーCVD管状炉など、最先端のソリューションを提供しています。
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高温処理能力を強化する準備はできましたか？ 今すぐお問い合わせください。 真空炉がお客様の研究や生産にどのように貢献できるか、具体的なニーズをお聞かせください。当社のエキスパートが、お客様のニーズに合わせたご提案とサポートをご提供いたします。
FAQ
真空炉の主な用途は？
真空炉は主に、所望の材料特性を得るための真空焼入れ（焼き戻し、焼きなまし）、母材の融点以下で溶接するための真空ろう付け、金属粉粒を部品に接合するための真空焼結、金属や磁性材料の処理に真空プラス磁気を利用するために使用されます。また、半導体デバイス、光学薄膜、機能性コーティング、ナノマテリアルなどの分野でも広く使用されており、材料調製や機能向上のための重要な技術サポートとなっている。
真空炉の主な特徴は？
真空炉は、主に金属などの材料を超高温で、低汚染かつ高い均一性で加熱します。材料は垂直または水平に装入できます。真空炉には冷却媒体、装入物のサイズ、温度、圧力に応じてバッチ式と連続式があります。真空炉にはホットウォール型とコールドウォール型があり、コールドウォール型は動作温度範囲が広く、加熱・冷却が速く、温度均一性が高いのが特徴です。
真空炉の仕組み
真空炉の作動原理は、チャンバー内の空気やガスを除去して真空状態にし、酸化や汚染を防止することです。発熱体が熱を発生し、温度制御システムが加熱プロセスを調節して、正確で一貫した結果を確保します。真空システムは炉室内を排気して真空状態にし、発熱体が炉室内を加熱し、温度制御システムが加熱速度と保持時間を調整することで、真空条件下での材料の加熱を可能にします。
真空炉を使用する利点は？
真空炉の利点には、小面積での精密な温度制御、炭素、酸素、その他のガスによる製品の低汚染、製品の急速冷却（急冷）、冶金学的再現性を確保するためのコンピューター制御プロセスなどがあります。さらに、真空炉は高純度の処理環境を提供し、雰囲気調整が不要なため処理速度が速く、大気の影響を受けないため処理プロセスの制御性が高い。
真空炉で処理できる材料の種類は?
真空炉は主に焼結、焼鈍、ロウ付けなどの金属加工に使用されます。また、セラミック、複合材料、その他の先端材料、特に半導体デバイス、光学薄膜、ナノ材料など、高純度で精密な温度制御を必要とする用途にも適しています。
ホットウォール式真空炉とコールドウォール式真空炉の違いは何ですか?
ホットウォール型真空炉は真空チャンバー内に発熱体と断熱材があり、コールドウォール型真空炉はこれらの部品がチャンバー外にあります。コールドウォール炉はホットウォール炉に比べ、動作温度範囲が広く、加熱・冷却が速く、温度均一性が高いのが特徴です。
真空炉は特定の用途に合わせてカスタマイズできますか?
真空炉は冷却媒体、装入物サイズ、温度、圧力要求に基づいてカスタマイズできます。バッチ式または連続式に設計でき、焼結、ろう付け、熱処理など特定の用途に合わせることができ、垂直または水平装入のオプションもあります。
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