Vacuum Hot Press Furnace
真空ホットプレス炉マシン加熱真空プレス
商品番号 : KT-VHP
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 使用温度
- 1500℃/2200℃（最大、雰囲気による）
- 使用圧力
- 10-400T (800Tまでカスタマイズ可能)
- 真空圧
- 最大6x10^-3Pa（より高い真空度のオプションもあります。）
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KINTEK は、卓越した研究開発と自社製造により、多様なラボに先進の高温炉ソリューションを提供しています。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉、CVD/PECVD/MPCVDシステムなどの製品ラインアップに加え、独自の実験要件に的確に対応する高度なカスタマイズ能力を備えています。
KINTEK 真空ホットプレス炉のご紹介
KINTEKでは、高度な材料加工が果たす重要な役割を理解しています。当社の真空ホットプレス炉は、正確に制御された真空または大気条件下で材料を加熱・加圧するように綿密に設計された最先端のシステムです。このプロセスは、様々な用途において、優れた材料密度、強化された機械的特性、全体的な性能向上を達成するための鍵となります。金属、セラミック、複合材料のいずれを扱う場合でも、当社の炉はお客様が必要とする信頼性と精度を提供します。
お客様独自の実験または生産ニーズに合わせた炉ソリューションをお探しなら、KINTEKの高度なカスタマイズ能力がお役に立ちます。 お問い合わせ までご連絡ください。
ビジュアルショーケース真空ホットプレス炉を見る
当社の真空ホットプレス炉の堅牢なエンジニアリングと考え抜かれた設計を詳しくご覧ください。以下の画像はその主要部品と全体構造を強調しています。
当社の真空ホットプレス炉は、精度、耐久性、使いやすさを追求して設計されています。主な構造上のハイライトは以下の通りです：
- 堅牢な炉本体： 水冷ジャケットの二重シェル構造。内殻は精巧に研磨されたステンレス鋼製で、クリーンな処理環境を保証します。ハウジングは、防錆処理を施した高品質の炭素鋼またはパッドブラスト仕上げのステンレス鋼で構成され、長寿命を実現します。
- 効率的な加熱システム： グラファイトまたはモリブデンワイヤー発熱体を使用し、1相または3相加熱に設定可能。発熱体の合理的な設計により、炉キャビティ内の均一な温度分布を促進します。
- 高度な制御システム 炉はユーザーフレンドリーな電気制御システムによって運転されます。PLCアナログ制御による温度・圧力管理、または温度・圧力プログラマブルコントローラーによる焼結プロセス全体の自動化も可能です。ウォーターカット、過昇温、過電流などの総合的な警報・保護機能を内蔵しており、安全な運転が可能です。
真空ホットプレス炉を理解する：どのように機能し、何を達成するのか
KINTEK 真空ホットプレス炉は、真空または制御された雰囲気内で材料を同時に加熱・加圧するために綿密に設計された装置一式です。この洗練されたプロセスにより、以下のことが可能になります：
- 精密な環境制御： 正確な環境制御：材料と希望する結果に応じて、発熱体はグラファイトヒーター、モリブデンヒーター、または誘導加熱システムにすることができます。加圧は油圧で行われ、一方向または双方向に適用することができます。
- ミクロレベルでの材料変形： 高温、高圧、制御された環境（真空または大気）のもとで、原料の固体粒子は互いに結合し始めます。これにより粒成長が始まり、ボイド（気孔）や粒界は徐々に減少していきます。
- 高密度化と特性の向上： この工程で材料が移動することにより、材料の総体積が縮小し、密度が大幅に増加する。その結果、特定の望ましい微細構造を持つコンパクトな多結晶焼結体が得られる。この変化により、密度、硬度、その他の重要な機械的、電子的、熱的特性が著しく改善される。
このような大幅な材料変化を可能にすることで、当社の真空ホットプレス炉は、要求の厳しい用途に最適な優れた特性を持つ材料を製造する力を提供します。
主な利点と高度な機能：KINTEK 真空ホットプレス炉を選ぶ理由
当社の真空ホットプレス炉は、卓越した性能、信頼性、効率を実現するように設計されており、お客様の業務に大きな価値を提供します：
- 多様な材料処理： 多様な材料処理:多様な材料(金属粉末、無機非金属材料など)および業界に適した幅広い熱処理プロセスをサポートします。多目的設計のため、単純な真空炉や雰囲気焼結炉としても使用でき、進化する研究や生産ニーズへの適応性を保証します。
- 効率的な高速サイクル 急速冷却のための高圧ガスクエンチ機能など、高速サイクルを促進する設計が可能で、ターンアラウンドタイムの短縮と生産性の向上を実現します。
- エネルギーと資源使用の最適化： エネルギーとプロセスガスの消費を抑えるよう設計されています。熱伝導率の低い高度な断熱材が効果的に熱を遮断し、エネルギー消費を抑え、環境に配慮した費用対効果の高いソリューションです。
-
精密制御と優れた結果：
- 正確な温度と圧力の制御により、一貫した高品質の結果を実現します。温度制御（発熱体と雰囲気に応じて最高2800℃）と圧力は、輸入ブランドのプログラム機器とPLCによって管理され、プリセットプログラムに基づく自動焼結プロセスを可能にします。
- 合理的な発熱体設計（グラファイト、モリブデン、タングステン、誘導加熱から選択可能）により、キャビティ内の均一な温度分布が確保され、均質な材料処理が可能です。
-
堅牢で使いやすい設計
- 耐久性と温度安定性を向上： 二重構造のSUS304ステンレス真空チャンバー構造とジャケット冷水循環冷却方式により、炉表面温度を低く保ち、長寿命を実現します。
- 安定した正確な加圧 ダブルコラム支持構造と安定した油圧プレスシステムにより、プロセス全体を通じて精密な圧力調整（手動または自動制御）とメンテナンスが可能です。
- 簡素化された操作とメンテナンス： 直感的な電気制御システム、人間化された設定（手動/インテリジェント操作オプション）、シンプルなモジュール設計により、設置、操作、メンテナンスが容易です。
- カスタマイズ可能な真空システム： 多様な真空システム構成（2段真空ポンプ、オイル拡散ポンプ、自社設計の高真空バッフルバルブなど）を提供し、さまざまな真空レベル（例えば、6x10まで）を達成します。 -3 Pa）を達成することができます。
-
柔軟な操作能力：
- 真空、不活性雰囲気、還元雰囲気でのホットプレス焼結に対応。
- 垂直上方排出、垂直側方排出、一方向加圧、双方向加圧など、様々な実験セットアップに対応する多様なオプション機能を提供します。
- 安全性と信頼性： 制御システムには、断水、過温、過電流、熱電対自動切替不良などの異常現象に対する音と光による総合的なアラーム機能を搭載。予知保全への配慮は、最小限のダウンタイムと装置寿命の延長に貢献します。
これらの高度な機能で材料処理を最適化し、優れた材料特性を実現する準備はできていますか？ 詳しくはKINTEKまでお問い合わせください！
幅広い産業分野での用途
KINTEK 真空ホットプレス炉は、さまざまな業界で高温プロセスに使用されている汎用性の高い強力なツールです。真空または制御された雰囲気での運転が可能なため、精密な温度制御とクリーンな環境を必要とする用途に特に適しています。主な応用分野は以下の通り：
- 結晶成長： エレクトロニクスや半導体産業で重要な各種結晶の合成と成長に最適。
- 高度熱処理： 金属、合金、セラミックスの熱処理に使用され、硬度、延性、強度などの機械的特性を向上させる。
- 薄膜蒸着サポート： 高密度化された基板やターゲットが必要な電子デバイス、太陽電池、光学コーティングの製造に関連するプロセスに不可欠である。
- 材料科学研究： 先端セラミックス、複合材料、金属間化合物、超合金などの新素材の研究開発に広く使用されている。
- 粉末冶金： 金属粉末の焼結や緻密化、高性能部品の製造に不可欠。
- エレクトロニクス製造： アニール、電子部品の焼結、特殊な電子材料の製造などのプロセスに不可欠。
- 特殊ガラス・セラミックス製造： 特殊なガラスやセラミックスの製造、および制御された熱処理や圧力による特性の変更に役立つ。
- 特殊材料の製造： 航空宇宙、防衛、医療機器など、要求の厳しい分野向けのユニークな特性を持つ材料の製造に携わる。
- 学術・研究機関： 先端材料の研究、開発、小規模生産のために、大学の研究室や研究所では定番となっている。
詳細構造と構成部品
当社の電気炉はグラファイト加熱と抵抗線加熱があり、真空および高温ホットプレス条件下で金属粉末や無機非金属材料などの焼結を得意としています。また、保護雰囲気下での熱間プレス焼結も可能で、特にナノ粉末の緻密化、変形防止、粒度制御を効果的に行うことができます。
| 全体仕様 |
|
|---|---|
| 炉シェル |
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| 炉側面のアクセスと監視 |
|
| 加熱エレメント |
|
| 断熱層 |
|
| 真空システム |
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| 電気制御システム主回路 |
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技術仕様
| 使用温度 | 1500℃/2200℃（最大、雰囲気による） |
|---|---|
| 発熱体 | モリブデン/グラファイト（その他タングステン、インダクション等選択可） |
| 使用圧力 | 10-400T (800Tまでカスタマイズ可能) |
| プレス距離 | 100-200mm（カスタマイズ可能） |
| 真空圧 | 最大6x10 -3 Pa（高真空オプションあり） |
| 有効径範囲 | 90-600mm（カスタマイズ可能） |
| 有効作業部高さ範囲 | 120-600mm（カスタマイズ可能） |
注：仕様は、特定の実験または生産要件に合わせてカスタマイズ可能です。
材料加工を強化する準備はできていますか？
KINTEKの真空ホットプレス炉は、お客様の高度な材料加工ニーズに比類のない精度、効率、汎用性を提供します。卓越した研究開発、自社製造、強力なカスタマイズ能力へのコミットメントにより、当社はお客様が優れた結果を達成し、材料科学の限界を押し広げるお手伝いをすることに専念しています。
実験と生産の最適化に向けて、次のステップを踏み出しましょう。 お問い合わせ 詳細なお見積もりのご依頼や、当社の高度な炉ソリューションがお客様の研究室や施設にどのようなメリットをもたらすかについての詳細は、こちらからお問い合わせください。KINTEKをイノベーションのパートナーとしてお任せください！
FAQ
真空ホットプレスとは何ですか？
真空炉の主な用途は？
ホットプレス炉の原理は？
雰囲気炉の用途は？
CVD装置の原理は？
真空誘導炉とは
横型真空炉の主な用途は？
真空ホットプレスの主なコンポーネントは何ですか？
真空炉の主な特徴は？
ホットプレス炉の用途は？
雰囲気炉の主な特徴は？
CVD装置を使用する利点は何ですか？
真空誘導炉の主な用途は？
横型真空炉の主な特徴は？
真空ホットプレスを使用する利点は何ですか？
真空炉の仕組み
ホットプレス炉の特徴は？
雰囲気炉の仕組み
CVD装置の用途は？
真空誘導炉の仕組み
横型真空炉の仕組み
どのような産業で真空ホットプレス技術が一般的に使用されていますか？
真空炉を使用する利点は？
ホットプレス炉に真空環境が採用される理由は？
雰囲気炉を使用する利点は？
CVD装置の主な特徴は？
真空誘導炉を使用する利点は何ですか？
横型真空炉を使用する利点は何ですか?
真空ホットプレスで加工できる材料の種類は？
真空炉で処理できる材料の種類は?
ホットプレス炉で一般的に処理される材料は何ですか？
雰囲気炉で使用できるガスの種類は？
どのようなタイプのCVD装置がありますか？
真空誘導炉にはどのようなタイプがありますか?
横型真空炉で処理できる材料の種類は?
真空ホットプレスはどのような温度と圧力範囲に対応できますか？
ホットウォール式真空炉とコールドウォール式真空炉の違いは何ですか?
高度な雰囲気炉にはどのような安全機能がありますか？
なぜ真空誘導炉では温度制御が重要なのですか?
横型真空炉の温度範囲は？
真空ホットプレスの一般的な用途は？
真空炉は特定の用途に合わせてカスタマイズできますか?
真空誘導炉で処理できる材料は?
真空環境は材料加工にどのようなメリットをもたらしますか？
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