製品 High Temperature Furnaces Vacuum Furnace モリブデン真空熱処理炉
モリブデン真空熱処理炉

Vacuum Furnace

モリブデン真空熱処理炉

商品番号 : KT-VM

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


最高温度
1400 ℃
加熱速度
0~10℃/分
温度制御精度
±1℃
ISO & CE icon

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見積り

モリブデン真空炉:精密高温処理

モリブデン真空炉は、要求の厳しい工業用途や研究用途向けに設計された特殊な高温熱処理システムです。発熱体として堅牢なモリブデン箔を採用し、コンタミネーションから材料を保護するために制御された真空環境内で作動します。この設計により、卓越した高温安定性、優れた真空性能、効率的な熱伝達、長期耐久性が保証され、材料の純度と正確な雰囲気制御が最も重要なプロセスに最適です。

主な特長と利点

  • 優れた高温安定性: 安定した加熱温度(最高1400 °C)を保証し、最も厳しい運転条件下でも、信頼性と再現性の高い熱処理プロセスを実現します。
  • 卓越した真空の完全性: 高いクリーンな真空レベルを維持し、コンタミネーションを効果的に防止して、処理材料の純度と完全性を保証します。
  • 最適化された熱効率: モリブデン発熱体は、急速な加熱速度とチャンバー全体の優れた熱均一性を促進し、全体的なプロセス効率とスループットを向上させます。
  • 堅牢で耐久性のある構造: 極端な温度や酸化に対して優れた耐性を示す高品質のモリブデン部品で設計されているため、炉の寿命が延び、メンテナンスが最小限に抑えられます。

詳細と部品

真空炉の断熱材モリブデン板

真空炉用断熱材のモリブデン板
真空炉の断熱材モリブデン板
真空炉内断熱材のモリブデン板

熱膨張が小さく、融点が高く、熱伝導率が高い。

技術仕様

炉型 KT-VM
最高温度 1400 ℃
一定作業温度 1300 ℃
チャンバー断熱材 モリブデン遮熱板
発熱体 モリブデンストリップ
加熱速度 0~10℃/分
温度センサー S型サーマルカップル内蔵
温度コントローラー PLC付きタッチスクリーンPIDコントローラー
温度制御精度 ±1℃
温度均一性 ±5℃
電源 AC110-440V、50/60Hz
標準チャンバーサイズ
チャンバーサイズ(mm) 有効容積 (L) チャンバーサイズ(mm) 有効容積(L)
150x150x200 4.5 400x400x500 80
200x200x300 12 500x500x600 125
300x300x400 36 600x600x700 253
特注サイズ・数量も承ります。 お問い合わせください。

多様な用途

モリブデン真空炉は様々なハイテク分野で幅広く使用されています:

  • 金属およびセラミックの真空焼結
  • 複雑な組立品の真空ろう付け
  • サファイア結晶の成長およびアニール
  • 特殊なろう付け作業
  • 高度な熱処理プロセス
  • 精密航空機部品の鋳造
  • 高純度金属および合金の精錬
  • 再溶解用電極の製造
  • 粉末焙焼および焼成
  • セラミック焼結と緻密化
  • 高温材料実験
  • 真空下での重要な材料処理
  • 高温雰囲気焼結(適切な改良を加えたもの)
  • セラミック接着剤の排出と脱バインダー
  • 排ガス処理研究
  • 厳しい雰囲気制御を必要とするアニールおよび焼結プロセス

動作原理

モリブデン真空炉は、モリブデン箔の優れた耐高温性と真空適合性を利用しています。この箔は発熱体と炉内ライナーの両方の役割を果たします。このシステムは、モリブデン箔の抵抗加熱により高温真空環境を作り出すことで作動します。この設計により、処理された材料は外部の汚染物質から効果的に隔離され、クリーンで制御された雰囲気での高温熱処理工程に不可欠な精密な温度制御が可能になります。

高度な安全システム

  • Kindle Techの真空炉は過電流保護および過昇温アラーム機能を装備しており、制限値を超えると自動的に電源が遮断されます。
  • 内蔵の熱電対検知機能はセンサーの完全性を監視し、熱電対の断線や故障が検知されると炉は加熱を停止してアラームを作動させます。
  • 停電復帰機能により、停電後に電源が復帰すると自動的に加熱プログラムを再開します。

オプション構成

以下のようなオプションにより、特定の実験ニーズに対応する炉を強化できます:

  • 独立したファーネス温度モニタリングおよび記録システム
  • RS 485通信ポートによるPCからの遠隔操作とデータ出力
  • 温度制御装置と連動した空気圧式真空バルブによる自動操作
  • 多機能でオペレーターに優しいタッチスクリーン式温度コントローラー
  • 効率的な炉シェルジャケット冷却のための冷水循環冷却装置

高温炉のニーズは KINTEK にお任せください。

KINTEK は卓越した研究開発と自社製造により、多様なラボに先進的な高温炉ソリューションを提供しています。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉(このモリブデン真空炉のような)、CVD/PECVD/MPCVDシステムを含む当社の製品ラインは、ユニークな実験要件を正確に満たす強力なカスタマイズ能力によって補完されています。

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注意事項とメンテナンス

モリブデン箔真空炉は、炉室、モリブデンストリップ、真空計、真空システム、ウォータークーラーなどの主要コンポーネントで構成されています。最適な性能と寿命を確保するために、以下の注意事項とメンテナンスガイドラインを遵守してください:

炉室
  • チャンバー内面に輝度があるか定期的に点検する。
  • 酸化や製品の汚染を防ぐため、炉内の乾燥と清潔を保つ。
  • 断熱スクリーンの熱膨張変形の原因となる急速加熱は避ける。
  • 加熱を開始する前に、リーク率と最終真空度を確認する。
  • 未使用時はチャンバー内を真空に保ち、揮発性物質が存在する場合はチャンバーベーキングを行う。
  • 高温の段階では、加熱速度を遅くする。
モリブデンストリップスヒーター
  • 製品を取り出す際、モリブデンストリップの上に物を落とさないでください。
  • 低融点の鉄含有製品がモリブデン・ストリップに揮発するのを防いでください。ストリップの溶融や経時的な破損につながる可能性があります。
  • 製品を取り出す際は、両手または適切な工具で確実に保持する。
  • 製品中の不純物含有量を厳密に管理する。
ピラニゲージ・イオン化ゲージ
  • ピラニゲージの操作およびメンテナンスの際は、電気機器の安全規定を遵守すること。
  • 炉内が真空の状態でゲージ管を無理に分解しないでください。
  • ゲージを加圧(0.05Pa以上)しないでください。必要に応じてゲージの電源を切ってください。
  • 腐食性ガス雰囲気の導入は避けてください。
  • 真空計の校正は、乾燥空気または窒素で行ってください。
  • 大気圧下でのイオン化ゲージの電源投入は避けてください。
  • 分解時にはシールや接触面をアセトンやアルコールで洗浄し、再組立前には真空グリースを塗布してください。
  • ゼロ点校正、フルスケール校正は、真空計とピラニゲージを合わせるために、初回使用時または一定期間使用後に行ってください。
機械式ポンプ
  • ポンプキャビティの非摩耗と真空への悪影響を防ぐため、ポンプの温度が45度を超えないようにしてください。
  • オイルウィンドウのオイルの色を定期的に監視する。
  • 真空ポンプ始動時に排気口からオイルが飛び散っていないか確認し、オイルレベルを点検する。
  • 運転前および運転中のポンプ温度を測定し、冷却水温を監視してください。
  • オイル交換は3ヶ月毎(型式:HFV-100)に行ってください。
  • 油面が高い場合は、ドレンバルブを開けて標準油面まで下げてください。
ルーツポンプ
  • ポンプキャビティ内を清浄に保つ。
  • ポンプ油の品質を監視する。
  • ポンプが適切に回転するようにしてください。
  • 水分の多い製品、粒子の大きい製品を炉室内に置かないでください。
  • 拡散ポンプオイルが変色または乳化した場合は速やかに交換してください。
  • ポンプに異常が発生した場合は、直ちにメーカーに連絡してください。
ディフュージョンポンプ
  • オイル窓の拡散オイルの交換が必要か確認してください。
  • 始動後のポンプ回転数を監視する。
  • ポンプに十分な冷却水が供給されていることを確認してください。
  • ディフュージョンポンプオイルを適切なモデル(HFV-3)と交換する。
  • ヒーター温度、オイルレベル、ポンプコアの取り付けが正常であることを確認する。
  • ポンプ表面温度を10~35℃、湿度を65%以下に保つ。
ウォータークーラー
  • ウォータークーラーを運転する前に、取扱説明書をよく読んでください。
  • 吸水ポンプと吐水ポンプの回転方向に注意してください。
  • 始動後、炉水の入口圧力が正しく表示されることを確認してください。
  • 効果的な放熱システムを確立してください。
  • 水タンク内の水質を定期的に確認してください。
  • 放熱システムは3~5ヶ月毎に清掃してください。
  • 設定温度の過負荷を避ける。例えば、設定温度が20度の場合、21度以下にならないようにする。設定温度を21度以上に調整する。
  • クーラーの設置場所に適した換気を確保する。
  • 時々サイドカバーを開け、内部の水タンクを希塩酸で洗浄する。

まとめると、モリブデン箔真空炉は効率的で安定し、耐久性があり、安全な装置である。定期的な真空メンテナンス、安全運転手順、予防保全の実践を真摯に守ることが、長期安定運転と投資効果の最大化に不可欠です。

FAQ

真空炉の主な用途は?

真空炉は主に、所望の材料特性を得るための真空焼入れ(焼き戻し、焼きなまし)、母材の融点以下で溶接するための真空ろう付け、金属粉粒を部品に接合するための真空焼結、金属や磁性材料の処理に真空プラス磁気を利用するために使用されます。また、半導体デバイス、光学薄膜、機能性コーティング、ナノマテリアルなどの分野でも広く使用されており、材料調製や機能向上のための重要な技術サポートとなっている。

雰囲気炉の用途は?

雰囲気炉は、材料加工、金属加工、半導体製造、太陽電池製造、光学材料、セラミックス・ガラス工業、電子材料製造、新エネルギー材料の研究開発などに広く使用されています。

横型真空炉の主な用途は?

水平真空炉は主に以下の用途に使用される:1.アニール:材料を軟化させて延性を向上させる。2.焼結:粒子を結合させて固体構造を形成すること。3.ろう付け:金属フィラーを使用して材料を接合すること。4.熱処理:加熱と冷却を制御して材料の特性を変えること。また、金属や合金の熱処理、電子部品の製造、複合材料やセラミックスの加工、金属やセラミックスの焼結にも使用されます。

真空誘導炉とは

真空誘導炉は、誘導加熱技術を用いて真空環境で金属を溶解する特殊な加熱装置です。不純物を除去し、酸化や汚染を防止して溶融金属の品質を向上させるように設計されています。

真空炉の主な特徴は?

真空炉は、主に金属などの材料を超高温で、低汚染かつ高い均一性で加熱します。材料は垂直または水平に装入できます。真空炉には冷却媒体、装入物のサイズ、温度、圧力に応じてバッチ式と連続式があります。真空炉にはホットウォール型とコールドウォール型があり、コールドウォール型は動作温度範囲が広く、加熱・冷却が速く、温度均一性が高いのが特徴です。

雰囲気炉の主な特徴は?

雰囲気ボックス炉の主な特徴は、不活性ガス(窒素、アルゴンなど)、還元性ガス(水素など)、真空条件などの特定のガス環境を維持し、加熱中の酸化や汚染、不要な化学反応を防止できることです。炉は通常、高温耐性のボックスチャンバー、発熱体、ガス供給システムから構成される。高度な機種では、プログラム可能な温度制御装置、均一な加熱ゾーン、操作の信頼性を確保する安全インターロックが装備されることもあります。

横型真空炉の主な特徴は?

主な特徴は以下の通りです:1.材料を超高温で、低汚染かつ高均一に加熱できる。2.材料を垂直または水平に投入できる。3.冷却媒体、負荷サイズ、温度、圧力に基づくバッチまたは連続設計のオプション。4.ホットウォール炉とコールドウォール炉があり、コールドウォール炉の方が動作温度範囲が広く、加熱・冷却が速く、温度均一性が高い。5.温度、圧力、雰囲気を正確に制御し、耐久性、効率性、信頼性のために高品質の材料と高度なシステムを統合。

真空誘導炉の主な用途は?

真空誘導炉は航空宇宙、冶金、材料研究などの産業で、金属や合金の溶解、焼結、熱処理、ろう付けなどのプロセスに広く使用されています。特に高純度金属や先端材料の製造に有用である。

真空炉の仕組み

真空炉の作動原理は、チャンバー内の空気やガスを除去して真空状態にし、酸化や汚染を防止することです。発熱体が熱を発生し、温度制御システムが加熱プロセスを調節して、正確で一貫した結果を確保します。真空システムは炉室内を排気して真空状態にし、発熱体が炉室内を加熱し、温度制御システムが加熱速度と保持時間を調整することで、真空条件下での材料の加熱を可能にします。

雰囲気炉の仕組み

管状炉は熱源を通して熱を発生させ、その熱を炉管を通して被加熱物または媒体に伝えます。このプロセスは様々な工業用途に適した安定した均一加熱を実現します。焼結の原理は、材料を融点以下の高温に加熱して粒子を結合させ、固体構造を形成させます。熱と場合によっては圧力が加えられて材料が圧縮・高密度化され、機械的・物理的特性が向上します。

横型真空炉の仕組み

1.チャンバー内の空気やガスを除去して真空状態にし、酸化や汚染を防ぐ。2.加熱エレメントが熱を発生し、温度制御システムが加熱プロセスを調整することで、正確で安定した結果が得られます。3.真空システムにより炉室内を真空にし、発熱体が炉室内を加熱し、温度制御システムが加熱速度と保持時間を調整することで、真空条件下で材料を加熱することができます。

真空誘導炉の仕組み

炉はチャンバー内を真空にして空気やガスを除去し、酸化を防ぎます。その後、誘導加熱によって金属を溶かします。この真空と誘導加熱の組み合わせにより、高品質な金属加工のためのクリーンで制御された環境が保証されます。

真空炉を使用する利点は?

真空炉の利点には、小面積での精密な温度制御、炭素、酸素、その他のガスによる製品の低汚染、製品の急速冷却(急冷)、冶金学的再現性を確保するためのコンピューター制御プロセスなどがあります。さらに、真空炉は高純度の処理環境を提供し、雰囲気調整が不要なため処理速度が速く、大気の影響を受けないため処理プロセスの制御性が高い。

雰囲気炉を使用する利点は?

雰囲気炉の利点は、雰囲気成分の調整による強力な環境制御能力、真空炉に比べて低コスト、金属やセラミックスなど様々な材料に適した幅広い応用範囲などが挙げられます。また、精密な温度制御、フレキシブルな雰囲気制御、高い加熱効率、省エネルギーと環境保護、安全で信頼性の高い操業、幅広い適用範囲、合理的な構造設計などが挙げられます。

横型真空炉を使用する利点は何ですか?

利点は以下の通りです:1.汚染のない環境:真空により酸素やその他の反応性ガスが除去されるため、酸化や汚染が防止されます。2.高精度:温度制御システムにより、安定した正確な加熱が可能。3.汎用性:幅広い材料とプロセスに適しています。4.効率:真空環境による熱損失とエネルギー消費を最小限に抑えます。さらに、制御可能な温度範囲、1100~1500℃の均一な温度、ガスによる製品汚染の低さ、急冷却、冶金学的再現性のためのコンピューター制御プロセス、高温酸化の防止などの利点があります。また、真空環境は酸化と脱炭を最小限に抑え、より清浄な表面と材料の完全性を実現します。

真空誘導炉を使用する利点は何ですか?

主な利点は以下の通りです:1.酸素や反応性ガスがないため、コンタミのない加工が可能。2.正確な温度制御による安定した結果3.様々な材料やプロセスに対応できる汎用性。4.熱損失を最小限に抑えた高効率5.不純物の除去による製品品質の向上

真空炉で処理できる材料の種類は?

真空炉は主に焼結、焼鈍、ロウ付けなどの金属加工に使用されます。また、セラミック、複合材料、その他の先端材料、特に半導体デバイス、光学薄膜、ナノ材料など、高純度で精密な温度制御を必要とする用途にも適しています。

雰囲気炉で使用できるガスの種類は?

雰囲気炉は、不活性ガス (窒素、アルゴンなど)、還元性ガス (水素など)、真空状態など特定のガス環境を維持し、加熱中の酸化、汚染、不要な化学反応を防止します。

横型真空炉で処理できる材料の種類は?

横型真空炉は金属、合金、電子部品、複合材料、セラミックなど様々な材料の処理に適しています。特に酸化やコンタミのない高温処理が必要な材料に効果的です。

真空誘導炉にはどのようなタイプがありますか?

真空誘導炉にはバッチ式、連続式、ホットウォール式、コールドウォール式など様々な設計があります。また、冷却媒体、装入物サイズ、要求温度、圧力条件に基づき、特定の工業または研究ニーズに合わせてカスタマイズすることも可能です。

ホットウォール式真空炉とコールドウォール式真空炉の違いは何ですか?

ホットウォール型真空炉は真空チャンバー内に発熱体と断熱材があり、コールドウォール型真空炉はこれらの部品がチャンバー外にあります。コールドウォール炉はホットウォール炉に比べ、動作温度範囲が広く、加熱・冷却が速く、温度均一性が高いのが特徴です。

高度な雰囲気炉にはどのような安全機能がありますか?

高度な雰囲気炉には、プログラム可能な温度制御装置、均一な加熱ゾーン、操作の信頼性を確保する安全インターロックなどがあります。プログラム制御式雰囲気炉には、炉温度や酸素含有量などの重要パラメーターを監視する保護システムが装備されています。異常が発生した場合、システムは自動的にシャットダウンまたはアラームを作動させ、炉と炉内の試料を保護します。

横型真空炉の温度範囲は?

横型真空炉は一般的に制御可能な温度範囲を提供し、1100~1500℃の間で均一な温度を達成できます。機種によってはさらに高温の2200℃以上に達するものもあり、設計や用途の要求に応じます。

なぜ真空誘導炉では温度制御が重要なのですか?

正確な温度制御は、均一な加熱を確保し、材料の劣化を防ぎ、溶融、焼結、熱処理などのプロセスで一貫した結果を得るために極めて重要です。これらの炉の高度な制御システムは、プロセス全体を通じて正確な温度を維持します。

真空炉は特定の用途に合わせてカスタマイズできますか?

真空炉は冷却媒体、装入物サイズ、温度、圧力要求に基づいてカスタマイズできます。バッチ式または連続式に設計でき、焼結、ろう付け、熱処理など特定の用途に合わせることができ、垂直または水平装入のオプションもあります。

真空誘導炉で処理できる材料は?

真空誘導炉は金属、合金、セラミック、複合材料を含む幅広い材料を処理することができます。特にチタン、ニッケル基合金、希土類金属など、高純度が要求される材料や酸化に敏感な材料に効果的です。

真空環境は材料加工にどのようなメリットをもたらしますか?

真空環境は酸素やその他の反応性ガスを排除し、材料の酸化や汚染を防ぎます。また、処理雰囲気の制御が向上し、熱損失が減少するため、材料を劣化させることなく高温処理が可能になります。
この製品に関するよくある質問をもっと見る

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