Rotary Furnace

スプリット多加熱ゾーン回転式管状炉回転式管状炉

Name: スプリット多加熱ゾーン回転式管状炉 回転式管状炉
Brand: Kintek Furnace
SKU: KT-MRTF
Rating: 4.8 (15 reviews)

商品番号 : KT-MRTF

価格は以下に基づいて変動します仕様とカスタマイズ

最高温度: 1200~1600℃
加熱ゾーン数: 2〜8ゾーン
炉心管径: 30~280 mm

配送:

お問い合わせ配送詳細を確認してくださいオンタイムディスパッチ保証.

説明
レビュー
ダウンロード

見積りカスタム見積もりをリクエスト

メールを送るお問合せ

WhatsApp 見積り

スプリット多加熱ゾーン式回転式管状炉を探る

この先進的な炉は、高温材料処理における精度と多用途性のために設計されています。以下に主な外観と特徴をご紹介します：

分割型多段加熱ゾーン回転式管状炉の詳細 — この傾斜型回転式管状炉はアルミナ管と30セグメントの温度制御装置を備えています。最高1150℃までの各種ガス雰囲気下での試料アニール、拡散、焼結に最適です。また、試料の均一乾燥や脱炭酸にも使用できます。炉本体は30°まで傾斜可能で、炉管は360°回転します。特定の要求に基づき、複数の温度ゾーンを設定できます。

主な操作機能

インテリジェントな50セグメントのプログラム可能な自動温度制御
加熱速度0~20℃/分、温度制御精度±1℃。
炉蓋は上面開閉式で、加熱物をリアルタイムで観察可能。
炉本体の傾斜角度は0°から30°まで調整可能で、搬出入に便利。
炉管速度は調整可能（例：3~7 rpm、反転可能）で、材料が完全に回転し、均一に加熱されることを保証します。
扉開時電源オフ、過昇温警報、漏電防止などの安全機能を備える

ハースとPID制御装置 — 高品質のセラミックファイバーハースとプログラム機能付きインテリジェントPID温度制御装置を搭載。

製品概要と機能

分割マルチ加熱ゾーン回転式管状炉は、精密な高温処理用に綿密に設計された高度なシステムです。2～8個の独立制御加熱ゾーンがあり、それぞれに熱制御装置が装備されています。この構成により優れた温度管理が保証され、実験に必要な均一な熱場と特定の大きな温度勾配の両方を形成することができます。

主な機能として、無段階速度調節による炉管の連続回転、および調節可能な傾斜機構（0〜30度）があります。これらの機能により、最適な材料ハンドリングが容易になり、均一な熱曝露が確保され、プロセス効率が向上します。多用途のために設計されたこの炉は、真空および制御雰囲気下の両環境下で効果的に作動します。このため、様々な材料の脱炭酸、乾燥、高温反応、熱処理、炭化、焼結、熱分解など、多様な用途に極めて適しています。さらに性能を向上させるために、内部リフティングプレート（材料の硬化を防ぎ、均一な加熱を確保）や中間の「ビッグベリー」タイプの炉心管（加熱結果を向上させる）などの設計オプションを組み込むことができます。

研究室での主な利点

究極の精度を実現するマルチ独立加熱ゾーン： 2～8個の独立ゾーンにより、優れたフレキシブルな温度制御を実現。材料全体に均一な熱フィールドを形成したり、温度勾配を大きく制御したりするのに最適です。
耐久性と効率のための優れた加熱と断熱： 高品質の抵抗線発熱体と優れた断熱材の組み合わせにより、長寿命、エネルギー効率の向上、安定した信頼性の高い高温性能を実現します。
精度の高いPIDインテリジェント熱制御： PIDインテリジェント熱制御システムにより、正確な加熱と優れた温度均一性を実現。
使いやすい7インチTFTタッチスクリーンインターフェース： 複雑な加熱スケジュールを簡単にプログラムし、操作パラメータを設定し、直感的な7インチのトゥルーカラータッチスクリーンで過去の温度データを確認し、操作とデータ分析を簡素化します。
安定した、幅広く調整可能な回転システム： 周波数変換モーターで駆動される堅牢な回転システムは、スムーズで安定した低ノイズ運転のための無段階速度調節を提供し、多様な実験要件に適応します。
プロセス制御のためのフレキシブルな電気駆動チルティング： 電気駆動の傾斜機構により、炉の傾斜角度を正確に調整することができます。
高度な真空および制御雰囲気操作： 当社独自の安定したダイナミックな真空シール技術により、高真空とさまざまな制御雰囲気での運転が可能で、研究・加工の幅広いニーズに対応します。

多様な用途

マルチゾーン回転式管状炉は、その適応性と精度の高さにより、様々な産業や研究分野で広く利用されています：

材料加工 多様な材料の焼成、乾燥、熱処理、炭化、焼結、高温熱分解に最適。リチウムイオン電池の正極・負極材料、レアアース材料、化学触媒材料、磁性材料、粉末冶金材料、非鉄金属材料、カオリンなどの非金属鉱物材料の粉末・粒状体などが含まれる。
化学反応： 化学気相成長法（CVD）、物理気相成長法（PVD）、熱分解プロセスなど、気体、液体、固体を含む高温反応に最適。
材料特性評価 熱重量分析(TGA)や示差熱分析(DTA)などの熱分析技術を促進し、材料の熱挙動や特性を調査します。
品質管理： 材料の試験と評価に不可欠で、熱安定性、反応性、その他の重要な性能特性を評価する。
研究開発 材料科学、化学、工学などの分野にわたる新素材、新規プロセス、新技術の調査において、科学者やエンジニアを支援します。

技術仕様

炉型	KT-MRTF12	KT-MRTF14	KT-MRTF16
最高温度	1200℃	1400℃	1600℃
一定作業温度	1100℃	1300℃	1500℃
加熱速度	0-20℃/min	0～10℃/分
炉管材質	石英/金属合金	Al2O3/Si3N4
回転速度	0〜20rpm
傾斜角度	-5～30度
炉心管径	30 / 40 / 60 / 80 / 100 / 120 / 150 / 230 / 280 mm
シングル加熱ゾーン長	300 / 450 / 600 / 800 mm
加熱ゾーン数	2-8 ゾーン
真空シール	Oリング付きSS 304フランジ
チャンバー材質	日本アルミナ繊維
発熱体	Cr2Al2Mo2ワイヤーコイル	SiC	MoSi2
温度センサー	Kタイプ	Sタイプ	Bタイプ
温度コントローラー	デジタルPIDコントローラー/タッチスクリーンPIDコントローラー
温度制御精度	±1℃
電源	AC110-220V、50/60Hz
異なるチューブ材料とサイズと加熱ゾーンの長さはカスタマイズすることができる

先進高温ソリューションのパートナーKINTEK

KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、多様な研究室に先進の高温炉ソリューションを提供しています。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉、CVD/PECVD/MPCVDシステムなどの製品ラインアップに加え、独自の実験要件に的確に対応する高度なカスタマイズ能力を備えています。

このスプリット式マルチ加熱ゾーン回転式管状炉は、当社の品質、技術革新、および特定の顧客ニーズへの対応を示すものです。当社は、お客様の研究目的に完全に合致した独自の回転式管状炉を作成するために、包括的なカスタム設計オプションを提供しています。異なる管材料、特定の寸法、加熱ゾーンの長さの変更、内部リフティングプレートや「ビッグベリー」炉管のような特殊機能など、どのようなご要望にも、当社のチームはこのシステムをお客様の正確な仕様に適合させる準備が整っています。

カスタマイズされた高温炉で研究能力を向上させる準備はできていますか？ 当社のスペシャリストにご連絡ください。分割型マルチ加熱ゾーン回転式管状炉のお見積もりをご依頼ください。

FAQ

回転式管状炉の主な用途は？

回転式管状炉は、均一加熱と連続混合が不可欠な粉末冶金、材料混合、化学反応に広く使用されています。回転式管状炉は特に粒状または粉末状の材料の処理に効果的です。

マルチゾーン管状炉の主な用途は?

マルチゾーン管状炉は、半導体・電池製造、熱電対・鉱物絶縁ケーブル製造、真空ロウ付け・熱処理、真空硬化・焼結、水・廃棄物・土壌試験、航空宇宙セラミック・金属試験、石油・ガス分析、固体酸化物燃料電池、高分子複合材料・グラフェン製造など、様々な商業・研究用途で使用されています。また、金属の熱処理（焼き入れ、焼き戻し、焼きなまし）、溶接の予熱、セラミック／粉末冶金の焼結、コーティング処理、材料研究実験などにも使用されています。

管状炉とは何ですか？

管状炉は、熱源を通して熱を発生させ、その熱を炉管を通してワークまたは媒体に伝える加熱装置です。様々な工業用途に適した安定した均一加熱を実現します。温度制御システムは熱電対やその他のセンサーで炉の温度を監視し、その信号を制御装置にフィードバックして発熱体の出力を調整し、正確な温度制御を維持します。

回転炉の原理は？

回転炉は軸を中心に回転する円筒形をしており、装入物が端から端まで移動しやすいようにわずかに傾斜しています。この設計により、混合と均一加熱が促進されます。熱は通常、原料の流れと逆流する方向に流れる高温ガスによって供給されます。

回転炉は何に使われるのか？

回転炉は、浸炭（金属表面に炭素を加える）、窒化（金属表面に窒素を加える）、焼結、アニール、その他の高度な材料処理を含む様々なプロセスに使用される。また、バイオマスの熱分解、活性炭の再生、半導体研究における精密薄膜蒸着などの用途にも利用されています。

分割管炉の一般的な用途は?

分割管炉は一般的に、材料試験 (引張試験など)、有機材料の熱分解、薄膜堆積のための化学蒸着 (CVD)、炭素含有材料の黒鉛化、セラミックの焼結などに使用されます。これらの用途では、分割管炉が提供する精密な温度制御と容易な試料ハンドリングが役立ちます。

縦型管状炉とは

縦型管状炉は垂直方向に設計された高温加熱装置で、正確な温度制御、均一な加熱、効率的なエネルギー使用を実現します。その縦型設計は省スペースで、特に縦型設置が有利なプロセスに役立ちます。

歯科用ファーネスは何に使用されますか？

歯科用ファーネスは、主に歯科技工所でジルコニアなどの歯科用セラミックを焼結し、クラウン、ブリッジ、インプラントなどの高品質な歯科修復物を製作するために使用されます。精密な温度制御と一貫した結果を保証し、耐久性と審美性に優れた補綴物を実現します。

回転式管状炉の主な特徴は？

回転式管状炉は、均一な熱分布と試料の徹底的な混合を保証する回転機構を備えています。連続処理用に設計され、多様な試料量に対応します。通常、炉には複数の加熱ゾーン、回転および傾斜可能な炉管があり、最高温度は1200℃に達します。

マルチゾーン管状炉の主な特徴は？

主な特徴は以下の通りです：1) 柔軟なアニーリングおよび化学蒸着機能、2) 最大60mm (2インチ) までの試料の収容、3) ガス供給が容易な内蔵マニホールド、4) 端部が低温で中央部が均一加熱の自然な温度勾配、5) 様々なガスまたは真空条件への適応性、6) 正確な温度プロファイルのための複数の独立制御加熱ゾーン。

管状炉の主な用途は?

管状炉は真空または大気条件下でのガス急冷試験、合成や精製を含む熱処理用途、無機または有機化合物の酸化、拡散、脱炭酸、熱アニールなどに広く使用されています。また、加熱・冷却速度の制御が必要な材料試験、熱処理、化学反応にも使用されます。縦型管状炉は、試料を炉の上部から投入するプロセスに特に適しています。

回転炉を使用する利点は何ですか？

回転炉には、高いエネルギー利用率、多様な原料への柔軟な対応、バッチ炉としての機能、高い生産能力、鉛回収率の向上、環境への配慮、少ない工数で使いやすい操作性などの利点があります。

回転炉には主にどのようなタイプがありますか?

回転炉の主な種類には、熱分解・脱炭酸用の電気式回転炉、連続処理用の真空密閉式回転管炉、実験室用真空傾斜式回転管炉、分割式多加熱ゾーン回転管炉、傾斜式回転プラズマ化学蒸着(PECVD)管炉などがあります。それぞれのタイプは特定の用途や温度要求に合わせて設計されています。

スプリット管炉の主な特徴は？

分割式管状炉は通常、1、2、3、または 5 加熱ゾーンから選択でき、加熱長さは 200 ～ 600 mm、加熱直径は 40 ～ 100 mm です。安全なケース温度を確保するために二重の強制空冷が装備され、加熱源として最高1200℃に達する加熱コイルが使用されます。炉は円筒管を縦に分割して設計され、多くの場合、ヒンジで結合された2つの半分に分割され、スムーズな動作のために空圧ダンパー支柱が装備されています。

竪型管状炉の用途は？

縦型管状炉は、加熱・冷却速度の制御を必要とする材料試験、熱処理、化学反応に広く使用されています。また化学工学では合成樹脂、ゴム、塗料、染料の製造に、食品工業では焼成、乾燥、殺菌に、冶金では製錬、溶解、熱処理プロセスに使用されます。

歯科用ファーネスの主な特徴は？

歯科用ファーネスの主な特徴には、正確な温度範囲と制御、プログラム可能性、コンタミネーションのない加工のための真空技術、効率的な冷却システム、ユーザーフレンドリーなインターフェースなどがあります。自動シャットダウン、緊急停止ボタン、過熱保護などの安全機能も不可欠です。

回転式管状炉の仕組みは？

回転式管状炉は間接焼成の原理で作動し、熱源から回転する管を介して材料に熱が伝わります。均一な加熱を確保するため、複数の制御ゾーンを備えた連続熱システムを採用しています。炉は作業部で粉砕、固体、気体、液体燃料を燃焼させ、試料に向かって流れる加熱ガスを発生させます。耐火物で内張りされ、斜めに取り付けられた回転ドラムがこのプロセスを促進します。

マルチゾーン管状炉の仕組み

マルチゾーン管状炉の機能1) 独立制御された複数の発熱体を通して熱を発生させ、2) この熱を炉管を通してワークピースに均一に伝達し、3) 正確な温度勾配 (CVD 膜成長のようなプロセスの場合) または拡張された恒温ゾーン (複数のゾーンを同じ温度に設定した場合) を形成し、4) 様々な工業プロセスに適した安定した加熱条件を維持します。

管状炉を使用する利点は？

管状炉には、成熟した技術、シンプルな炉構造、低い消費電力、高い熱効率、容易な操作と制御、連続生産能力、精密な温度制御、均一な温度分布、異なる雰囲気への適応性などの利点があります。また、製品の歩留まりが高く、製品濃度が高く、分解ガスや排ガスをほとんど回収できる。複数の炉を組み合わせて大規模生産も可能です。

回転炉の主な特徴は?

回転炉の主な特徴には、高温能力、マルチゾーン加熱制御、カスタマイズ可能な回転とプロセス制御、雰囲気の多様性、統合された安全・環境制御などがあります。

回転炉の仕組み

回転炉は炉内の材料を回転させ、均一な熱分布を確保します。回転機構は半径方向の温度を一定に保ち、正確な温度制御を可能にします。この設計はエネルギー効率が高く、材料の均一処理を必要とするプロセスに適しています。

スプリット管炉の仕組み

スプリット管炉は加熱コイルを通して熱を発生させ、その熱を炉管内のワークまたは媒体に伝えます。このプロセスにより安定した均一加熱が保証されるため、様々な工業用途や実験用途に適しています。炉は複数の加熱ゾーンを設定でき、安全な外部温度を維持するための強制空冷などの機能も備えています。

縦型管状炉の利点は？

竪型管状炉は横型炉に比べて設置面積が小さいため、スペースの限られた研究室に最適です。また、効率的で省エネルギーな運転、精密な温度制御、柔軟な使用方法、操作の容易さ、安全性、信頼性、環境基準への適合も実現します。

歯科用ファーネスの仕組み

歯科用ファーネスは、真空または制御された雰囲気の中で、制御された高温を歯科用セラミックに加えることで機能します。このプロセスは焼結と呼ばれ、セラミック粒子を結合させて強固で緻密な修復物を形成します。ファーネスの高度な制御により、均一な加熱と冷却が行われ、一貫した結果が得られます。

回転式管状炉を使用する利点は何ですか?

回転式管状炉には、回転作用による均一な温度分布、試料の沈降防止、安定した処理など、いくつかの利点があります。熱伝達効率が高まるため、処理時間が短縮され、より均一な結果が得られます。さらに、熱伝達効率に優れた設計で、特定のニーズに合わせて複数の加熱ゾーンをカスタマイズできます。

マルチゾーン管状炉を使用する利点は何ですか?

利点は以下の通りです：1)シンプルな炉構造による成熟した信頼性の高い技術、2)高い熱効率による低消費電力、3)容易な操作と精密な制御、4)連続生産能力、5)均一加熱ゾーンの拡大または精密な温度勾配の形成能力、6)化学プロセスにおける製品収率の向上、7)プロセスガスの回収能力、8)幅広い原料適用性、9) 炉の組み合わせによる大規模生産への拡張性。

管状炉にはどのようなタイプがありますか?

管状炉には、ラボ用石英管状炉、分割型マルチヒーティングゾーン回転式管状炉、マルチゾーン管状炉、高温管状炉（最高1700℃）、薄膜蒸着用PECVD管状炉、真空管状炉、縦型管状炉など、さまざまなタイプがあります。これらには、急速加熱、傾斜調整、360°回転、カスタマイズ可能な加熱ゾーン、真空対応など、さまざまな用途に適した機能が装備されています。

回転炉の一般的な用途は？

回転式管状炉は、均一加熱と連続混合が不可欠な粉末冶金、材料混合、化学反応に特に有用です。また、粒状や粉状の原料の処理、アルミナや鉄鉱石ペレットの製造、脱炭酸や酸化など、バラ原料の連続処理が必要な用途にも使用されます。

回転炉を使用する利点は何ですか?

回転炉の利点には、均一な熱分布による安定した結果、精密な温度制御、従来の燃焼方式と比較したエネルギー効率、熱処理プロセスのカスタマイズにおける柔軟性などがあります。さらに、回転炉は少量生産ではコスト効率が高く、特定の研究ニーズや産業ニーズに合わせてカスタマイズすることも可能です。

分割型管状炉を使用する利点は何ですか?

スプリット管状炉の主な利点には、試料や機器の搬出入の簡素化、操業停止時間の短縮、効率の向上などが挙げられます。スプリット式は炉室への素早いアクセスを可能にし、頻繁な交換や複雑な実験設定を必要とする用途に特に有益です。さらに、空圧ダンパー支柱や複数の加熱ゾーンなどの機能により、使いやすさと性能がさらに向上します。

竪型管状炉の仕組み

縦型管状炉は熱源から熱を発生させ、その熱を炉管を介して被加熱物または媒体に伝えます。このプロセスは安定した均一加熱を保証し、様々な工業用途に適しています。

歯科用ファーネスを使用する利点は何ですか？

歯科用ファーネスを使用する利点には、正確な温度と加熱の制御、一貫した予測可能な結果、調整や再製作の必要性を減らすことによる時間とコストの節約、様々なタイプの歯科修復物を作成できることなどがあります。これらの機能により、高品質で耐久性に優れ、審美性に優れた歯科補綴物が実現します。

回転式管状炉の最高到達温度は？

回転式管状炉は最高温度 1200°Cに達することができ、脱炭酸、焼結、熱処理などの高温用途に適しています。

マルチゾーン管状炉にはどのようなタイプがありますか?

利用可能なタイプには以下のものがあります：1) 分割式多加熱ゾーン回転式管状炉 (傾斜および回転機能付き)、2) ラボ用石英管状炉 (最高温度1700℃、1～10ゾーン)、3) 高速加熱の急速熱処理 (RTP) 炉、4) 化学蒸着用CVD管状炉、5) プラズマ強化プロセス用PECVD炉、6) 真空管状炉、7) 高圧管状炉。これらはゾーン数、温度範囲、真空/大気制御のような特殊機能をカスタマイズできる多様な構成で提供されます。

管状炉はどのような温度範囲を達成できますか?

管状炉には様々な用途に適した温度範囲があります。標準型は通常1200°Cまで、高温型は1400°Cから1700°Cまで達します。特殊な機種では最高 2000°Cに達するものもあります。温度能力は使用される発熱体や炉管の材質 (石英やアルミナなど) によって異なります。

回転炉はどのように異なる材料を扱うのですか?

回転炉は回転し、わずかに傾斜した設計により、均一な加熱と混合が保証されるため、様々な原料に柔軟に対応できます。そのため、粒状や粉末状の物質を含む様々な原料に適しており、脱炭酸や酸化などの用途で効率的な処理が可能になります。

回転炉にはどのような安全機能がありますか？

回転炉には過昇温防止装置、緊急遮断装置、明確なアラームシステムなどの重要な安全機能が装備されています。これらの機能により安全運転が保証され、高温プロセス中の事故を防止します。

スプリット管炉の到達温度は?

スプリット管炉は最高温度1200℃に達することができ、材料合成、CVD、焼結などの高温用途に適しています。炉は加熱コイルを熱源として使用し、運転中の安全な外部温度を維持するための二重層強制空冷を備えています。

どのようなタイプの縦型管状炉がありますか？

縦型管状炉には様々なタイプがあり、単一または複数の加熱ゾーン、急速熱処理 (RTP) 機能、真空ステーション、CVD (Chemical Vapor Deposition) や PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) などの特定のラボニーズに対応するカスタマイズ可能なソリューションなどがあります。

歯科用ファーネスにはどのような安全機能が必要ですか？

歯科用ファーネスには、過昇温防止機能、自動停止システム、緊急停止ボタン、過熱防止機能などの安全機能が備わっている必要があります。このような機能により、使用者の安全が確保され、運転中の機器の損傷を防ぐことができます。

回転式管状炉で処理できる材料の種類は?

回転式管状炉は粒状または粉状の材料の処理に最適です。均一な加熱と連続混合が要求される粉末冶金、材料混合、化学反応などの用途で一般的に使用されます。

管状炉は異なる雰囲気下で運転できますか?

管状炉は多用途で、空気、不活性ガス (アルゴンや窒素など)、真空、特殊混合ガスなど様々な雰囲気下で作動します。そのため、酸化、還元、アニール、化学蒸着 (CVD) などの幅広いプロセスに適しています。多くの機種には真空対応設計と精密な雰囲気管理のためのガス制御システムが装備されています。

回転炉は特定の用途に合わせてカスタマイズできますか?

回転炉は特定の用途に合わせてカスタマイズすることができます。様々な加熱ゾーン、傾斜角度の調整、360°回転機能など、多様な構成が可能です。カスタマイズオプションには真空や制御雰囲気設定も含まれ、研究や生産環境のニーズに的確に対応します。

管状炉の分割設計が有益な理由は？

管状炉の分割型設計は、炉室への迅速かつ容易なアクセスを可能にする点で有益です。この設計は、多くの場合、空気圧式ダンパー支柱を備えた2つのヒンジ式ハーフを特徴としており、複雑なセットアップや大型試料の取り扱いを簡素化し、運転休止時間を短縮し、特に頻繁な変更や複雑な構成を必要とする用途において全体的な効率を高めます。

横型管状炉ではなく縦型管状炉を選ぶ理由

縦型管状炉が横型炉より選択されるのは、主にその省スペース設計と重力アシストプロセスの利点のためです。縦型は熱と材料の均一な分布が可能で、特定の実験や製造工程に最適です。

どのような歯科用炉がありますか?

歯科用ファーネスには、真空磁器焼結炉、ジルコニア焼結炉、真空プレス炉など様々なタイプがあります。迅速な焼結が可能な機種もあれば、様々な歯科用セラミック材料の高圧処理または多機能処理が可能な機種もあります。

KINTEK管状炉の特徴は？

KINTEK の管状炉は、精密な温度制御 (最高 100°C/秒の急速加熱が可能な機種もあります)、カスタマイズ可能な加熱ゾーン (1 ゾーンから 10 ゾーンまで)、真空対応設計、および安全認証で際立っています。また、材料合成、CVD、焼結、半導体研究などの高度な用途向けに、回転機構、スプリットチャンバー、プラズマエンハンスド構成などのオプションを備えた汎用性の高いソリューションを提供しています。