CVD & PECVD Furnace
傾斜回転式プラズマ強化化学蒸着(PECVD)チューブ炉装置
商品番号 : KT-PED
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 加熱温度
- ≤800℃
- 真空度
- ≤5×10-5Pa
- 出力
- 500W—1000W
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プラズマ強化化学蒸着(PECVD)コーティング装置


KINTEKによる先進的なPECVDシステム:精密コーティング、お客様のニーズに合わせて
卓越した研究開発と自社製造を活かし、KINTEKは多様な研究室および産業用途向けに設計された最先端のプラズマ強化化学蒸着(PECVD)システムを提供します。PECVDは、前駆体ガスを活性化するためにプラズマを利用する高度な真空薄膜堆積技術です。これにより、従来の化学蒸着(CVD)よりもはるかに低温で高品質で均一なコーティングを作成することが可能となり、(プラスチックなどの)熱に敏感な基板や多様なコーティング材料(誘電体、半導体、絶縁体を含む)への応用の可能性が広がります。
当社のPECVD装置は、マッフル炉、チューブ炉、回転炉、真空・大気炉、その他のCVD/MPCVDシステムなど、KINTEKの包括的な高温炉ソリューション群の中核をなす製品です。強力な深いカスタマイズ能力を誇り、お客様の独自の実験および生産要件を満たすようにPECVDシステムを精密に設計することをお約束します。
主な特徴
KINTEKのプラズマ強化化学蒸着(PECVD)コーティング装置は、優れた性能と汎用性のために設計されたさまざまな機能を提供します:
- 低温堆積: 熱ダメージを与えることなく、繊細な基板や低融点基板上に高品質な薄膜形成を可能にし、材料適合性を大幅に拡大します。
- 高い堆積速度: 迅速な膜成長を実現し、スループットを最大化、処理時間を短縮、総合的な生産性を向上させます。
- 均一でクラックに強い膜: 基板全体で厚さと特性に優れた一貫性を持つコーティングを生成し、クラッキングなどの欠陥を最小限に抑え、信頼性が高く耐久性のある結果をもたらします。
- 優れた基板密着性: 堆積膜と基板材料の間の強力な結合を保証し、長期的な性能と剥離の防止につながります。
- 多様なコーティング能力: SiO2、SiNx、SiOxNyなど、幅広い材料の堆積をサポートし、多様なアプリケーションのニーズに対応します。
- 複雑な形状への等方性コーティング: 複雑な形状や凹凸を持つ基板を均一にコーティングでき、包括的なカバレッジと最適な性能を保証します。
- ユーザーフレンドリーな設計: メンテナンス要件が低く、設置が容易なように設計されており、ダウンタイムを最小限に抑え、ワークフローへの統合を簡素化します。
技術仕様
| サンプルホルダー | サイズ | 1〜6インチ |
| 回転速度 | 0〜20rpm 調整可能 | |
| 加熱温度 | ≤800℃ | |
| 制御精度 | ±0.5℃ SHIMADEN PIDコントローラー | |
| ガスパージ | 流量計 | マスフローメーターコントローラー(MFC) |
| チャンネル数 | 4チャンネル | |
| 冷却方式 | 循環水冷却 | |
| 真空チャンバー | チャンバーサイズ | Φ500mm X 550mm |
| 観察窓 | バッフル付き全視野ポート | |
| チャンバー材質 | 316ステンレス鋼 | |
| ドアタイプ | 前面開閉式ドア | |
| キャップ材質 | 304ステンレス鋼 | |
| 真空ポンプポート | CF200フランジ | |
| ガス導入ポート | φ6 VCRコネクター | |
| プラズマ電源 | 電源 | DC電源またはRF電源 |
| 結合方式 | 誘導結合またはプレート容量結合 | |
| 出力電力 | 500W〜1000W | |
| バイアス電源 | 500V | |
| 真空ポンプ | 前級ポンプ | 15L/S ベーンポンプ |
| ターボポンプポート | CF150/CF200 620L/S-1600L/S | |
| リリーフポート | KF25 | |
| ポンプ速度 | ベーンポンプ:15L/s、ターボポンプ:1200L/s または 1600L/s | |
| 真空度 | ≤5×10-5Pa | |
| 真空センサー | イオン化/抵抗真空計/薄膜真空計 | |
| システム | 電源供給 | AC 220V /380 50Hz |
| 定格電力 | 5kW | |
| 外形寸法 | 900mm X 820mm X 870mm | |
| 重量 | 200kg |
応用分野
KINTEKのプラズマ強化化学蒸着(PECVD)コーティング装置は、幅広い産業と最先端アプリケーションに向けた汎用的なソリューションを提供します:
- LED照明: 効率的で耐久性のある発光ダイオード(LED)に不可欠な高品質な誘電体および半導体薄膜の堆積。
- パワー半導体: パワー半導体デバイスにおける絶縁層、ゲート酸化膜、その他の重要な膜コンポーネントの形成。
- MEMS(微小電気機械システム): センサー、アクチュエーター、その他のマイクロスケールデバイス向けの精密な薄膜の製造。
- 光学コーティング: 反射防止膜、光学フィルター、保護膜、その他の機能性光学部品の堆積。
- 薄膜太陽電池: 光電デバイス向けのアモルファスおよび微結晶シリコン薄膜、その他の半導体材料の製造。
- 表面改質: 耐食性、耐摩耗性、硬度、生体適合性の向上など、材料表面特性の向上。
- ナノテクノロジー: ナノ粒子、ナノワイヤー、超薄膜などの先進的なナノ材料の合成、新規アプリケーション向け。
PECVD技術でKINTEKをパートナーに選ぶ理由
PECVDのニーズにKINTEKを選ぶことは、品質、信頼性、そしてカスタマイズされたソリューションへの投資を意味します:
- 深いカスタマイズ: お客様の正確な仕様に合わせてPECVDシステムを構成することに特化しており、独自のアプリケーションと研究目標に対して最適な性能を保証します。
- 先進的な研究開発と製造: 自社内の専門知識が革新を推進し、最先端のPECVD技術を提供することを可能にしています。
- 高品質な構造: 安定性、耐久性、長い作業寿命のために、ステンレス鋼などの高品質素材を使用した堅牢な設計を備えています。
- 信頼性の高い性能: 一貫した結果を得るために設計されており、当社のPECVD装置は優れた密着性を持つ高品質で均一な薄膜を生成します。
- 包括的なサポート: 簡単な設置から低いメンテナンス要件まで、当社のシステムがユーザーフレンドリーであり、迅速なカスタマーサービスによってサポートされることを保証します。
- 汎用性: 当社の装置は幅広い材料の堆積が可能であり、多様な研究および産業プロセスに適しています。
動作原理
プラズマ強化化学蒸着(PECVD)は、薄膜堆積プロセス中に化学反応を促進・増強するためにプラズマ(電離ガス)を利用するプロセスです。反応を駆動するために高温のみに依存する従来のCVDとは異なり、PECVDは高エネルギー・プラズマを採用します。このプラズマは前駆体ガスにエネルギーを与え、基板温度を大幅に低く抑えた状態で反応性種の形成を導きます。これらの反応性種はその後、基板表面に吸着し、固体薄膜を形成するための化学反応を起こします。この方法により、SiO2、SiNx、SiOxNyなどの様々な高品質薄膜の堆積が可能となり、太陽電池に使用されるアモルファスまたは微結晶シリコン薄膜の作成に特に効果的です。より低い処理温度は基板への熱応力を最小限に抑え、ピンホールを減らし、クラッキングを防止するため、PECVDはより広範な材料とアプリケーションに理想的です。
KINTEKでお客様専用のPECVDソリューションをカスタマイズ
薄膜堆積能力を向上させる準備はできていますか?KINTEKの専門家が、お客様の具体的なプロジェクトのニーズと課題について議論するために待機しています。お客様の実験または生産要件に完全に合わせてプラズマ強化化学蒸着システムを構成するお手伝いをします。当社の深いカスタマイズの専門知識と先進技術を活用して、優れた結果を達成してください。
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FAQ
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