MPCVD

915 MHz MPCVD ダイヤモンドマシンマイクロ波プラズマ化学気相蒸着システム原子炉

商品番号 : MP-CVD-101

価格は以下に基づいて変動します仕様とカスタマイズ

出力: 3-75kW 連続調整可能
サンプルステージ直径: ≥200mm以上
動作周波数: 915±15MHz

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KINTEK MPCVDダイヤモンドマシンダイヤモンド合成に革命を起こす

KINTEK MPCVD ダイヤモンドマシンは、マイクロ波プラズマ化学気相成長法 (MPCVD) を活用して、これまでにないスピードと精度で高品質のダイヤモンドを合成します。この先端技術は、従来の方法と比較して、より速い結晶成長、生産能力の向上、ダイヤモンド品質の向上を可能にします。

ビジュアル概要と主要コンポーネント

MPCVDの詳細

KINTEKで優れたダイヤモンド生産を実現

MPCVDダイヤモンドマシンは、お客様のダイヤモンド合成ニーズに大きなメリットを提供します：

結晶成長の加速： 従来の方法の10倍から100倍の成長速度を達成し、生産効率を大幅に向上させます。
生産能力の向上： 一度に大量のダイヤモンドを合成し、生産量を最大化します。
卓越したダイヤモンド品質： 天然ダイヤモンドよりも高い硬度と靭性を持つダイヤモンドを生産し、優れた耐久性と性能を保証します。
多様なカラーオプション： ホワイト、イエロー、ピンク、ブルーなど、さまざまな色のダイヤモンドを製造し、多様な市場の需要や美的嗜好に対応します。
比類のない純度： 天然のタイプIIダイヤモンドよりも高い純度を実現し、卓越した光学特性と高度な用途への適合性を実現します。
ニーズに合わせたカスタマイズ： マルチスタイルのカスタマイズが可能です。特定の市場要件やユニークな実験セットアップに合わせた設計が可能です。

輝きを支える科学先進MPCVD技術

マイクロ波プラズマ化学気相蒸着(MPCVD)は、連続的なマイクロ波源が反応性の高いプラズマを発生させ、維持する高度なプロセスです。このプラズマは、反応する化学物質（通常、メタンと水素）と必須触媒で構成され、ダイヤモンドシード基板上に新しいダイヤモンド層を育成するために使用されます。

KINTEK MPCVDダイヤモンド・マシンは、マイクロ波出力と反応温度を正確に制御することができ、他のCVD法で直面する一般的な問題を効果的に解消します。反応室の設計とプロセスパラメータを最適化することにより、安定したプラズマ放電を実現します。これは、高品質で大きなサイズの単結晶ダイヤモンドを安定して製造するために極めて重要な要素です。

幅広い産業分野での応用

MPCVD装置で製造されるダイヤモンドは、硬度、剛性、熱伝導率、熱膨張率、放射線硬度、化学的不活性など、ユニークな特性を持っています：

宝石産業： 宝石産業: 高品質で大型のダイヤモンド原石を成長させるための主要装置。
先端材料と半導体： 半導体産業用の大型ダイヤモンド基板や、高性能ダイヤモンド切断・穴あけ工具など、さまざまな用途のダイヤモンド膜の製造。
産業用工具： 切削工具やドリルビットなど、極めて高い硬度と耐久性が要求される産業用途向けのダイヤモンド・コーティングの開発。
バイオメディカル分野： 人工関節や歯科インプラントなどの医療用インプラント用の生体適合性と耐久性に優れたダイヤモンド・コーティングの開発。
オプトエレクトロニクス： 高出力レーザー、検出器、その他高熱伝導性と低熱膨張が重要なオプトエレクトロニクスデバイス用のダイヤモンドウィンドウと基板の製造。

技術仕様

マイクロ波システム（オプション電源による）	動作周波数：915±15MHz 出力電力: 連続的に調節可能な 3-75kW 冷却水流量：120/min システム定在波係数: VSWR≤1.5 マイクロウェーブの漏出：
真空システムおよび反作用の部屋	漏出率極限圧力は0.7Pa以下（本装置には輸入ピラニ真空計が付属しています。）キャビティ内の圧力上昇は、12時間の圧力維持後、50Paを超えてはならない。反応室の作業モードTM021またはTM023モードキャビティタイプ：冷却された円筒形キャビティ、75KWまでのパワーを運ぶことができる、高純度、ストーンリングシール。入口の方法：トップスプリンクラーヘッドインレット。観測温度測定窓：均等に水平に配られる 8 つの観察の穴。サンプリングポート：ボトムリフティングサンプリングポート
サンプルホルダー方式	サンプルステージ直径≥200mm、単結晶有効使用面積≥130mm、多結晶有効使用面積≥200mm。基板プラットフォーム水冷サンドイッチ構造、上下垂直。
ガスシステム	フルメタル溶接ガスプレート5-7ガスライン装置のすべての内部空気回路は溶接かVCRのコネクターを使用する。
システム冷却	3ウェイ水冷、温度と流量をリアルタイムで監視。システム冷却水流量120L/分、冷却水圧力
温度測定方法	外部赤外線温度計、温度範囲3001400 M

SL901A 装置主要部品リスト

シリアル番号	モジュール名	備考
1	マイクロ波電源	標準国産マグネトロン：英傑電気/識別電源国産ソリッドステートソース：ワトソン (+30,000) 輸入マグネトロン：MKS/パストラル（+100,000）
2	導波管、3ピン、モード変換器、上部共振器	自作
3	真空反応釜（上部チャンバー、下部チャンバー、コネクター）	自作
4	赤外線温度計、光学変位計、ブラケット	赤外線温度計、光学変位計、フジ・ゴールド・シーメンス＋シュナイダー・ブラケット
5	水冷テーブルモーション部品（シリンダー、ワークなど）
6	セラミック薄膜真空計、ピラニ真空計	インフィコン
7	真空バルブ部品（超高真空ゲートバルブ、精密空圧バルブ※2、電磁真空チャージ差動バルブ）	フジキン＋中科＋ヒマット
8	真空ポンプと接続管継手、ティー、KF25ベローズ*2、アダプター	ポンプフライオーバー16L
9	金属マイクロ波シールリング2、金属真空シールリング1、石英板	石英：上海飛麗華半導体グレード高純度石英
10	循環水部品（ジョイント、ディバーターブロック、フローディテクター）	日本製SMC/CKD
11	空気圧部品（CKDフィルター、エアタックマルチウェイソレノイドバルブ、パイプ継手およびアダプター）
12	ガスコネクター、EPガス管、VCRコネクター、フィルター0.0023μm※1、フィルター10μm※2	フジキン
13	機械ケーシング、ステンレステーブル、自在車輪、脚、ブラケット固定ネジ等	特注加工
14	ガス流量計*6（圧力制御1台含む）	標準はセブンスター、オプションはフジゴールド（+34,000）／アリカット（42,000）
15	ガスプレート加工（5方ガス、フィルター※5、空気弁※5、手動弁※6、配管溶接）	フジゴールド
16	PLC自動制御	シーメンス＋シュナイダー
17	モリブデンテーブル

先端材料のニーズはKINTEKにお任せください

KINTEKは、卓越したR&Dと自社製造により、MPCVDダイヤモンドマシンのような先進的な高温炉ソリューションに特化しています。この先進的なダイヤモンド合成装置を含む当社のシステムが、お客様独自の実験および生産要件を正確に満たすことを保証する、強力なディープカスタマイズ能力を誇りとしています。

ダイヤモンド合成を向上させる準備はできていますか？ KINTEKのMPCVDダイヤモンドマシンは、比類のない精度と効率を提供します。お客様の具体的なご要望をお聞かせいただき、KINTEKの技術がどのようにお客様のオペレーションを向上させることができるか、今すぐお問い合わせください。以下のフォームにご記入いただくかお見積もりやご相談をご希望の方はこちらをクリックしてください！

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FAQ

MPCVD装置の原理は？

MPCVD (Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition) 装置は、マイクロ波発生装置を使って混合ガスをイオン化し、プラズマを生成する。このプラズマは、低圧下の反応チャンバーに収容され、基板は基板ホルダーで固定されます。主なコンポーネントは、マイクロ波発生装置、プラズマチャンバー、ガス供給システム、基板ホルダー、真空システムです。

MPCVD装置を使用する利点は何ですか？

MPCVD装置にはいくつかの利点があります。ホットワイヤー（無極性放電）による汚染がなく、複数のガスを使用でき、反応温度を安定的に制御でき、大面積の安定した放電プラズマが可能で、膜厚、純度、結晶品質を正確に制御できます。さらに、大面積のダイヤモンド膜を生成し、安定した条件を確保し、安定した試料品質を維持し、費用対効果に優れています。