ラボ用1200℃マッフル炉

KINTEK KT-12M シリーズ マッフル炉：精密な高温パフォーマンス

KINTEK KT-12M シリーズ マッフル炉は、要求の厳しいラボ環境において卓越した性能を発揮するように設計されています。高純度の日本製多結晶アルミナファイバー断熱材と、埋め込み式のモリブデン添加抵抗加熱ワイヤーコイルを採用し、最大毎分30℃の急速加熱と1200℃の最大動作温度を実現しています。PIDインテリジェントマイクロプロセッサにより精密な温度管理が保証され、高精度（±1℃）と優れた温度均一性（±5℃）を提供します。

高度な制御とデータロギングのために、KT-12M Proモデルは多機能な7インチTFTスマートタッチスクリーンコントローラーを搭載しています。これにより、ユーザーは複数の加熱プログラムを簡単に設定、保存、分析することができ、従来のデジタルコントローラーと比較して操作が大幅に簡素化され、履歴データの分析に役立ちます。

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主な特徴と利点

• 迅速かつ精密な加熱：PIDマイクロプロセッサによる制御で、最大30℃/分の昇温速度で1200℃まで到達し、高い精度と優れた温度均一性を実現します。時間に制約のある実験に最適です。
• 優れた断熱性とエネルギー効率：日本製の高純度多結晶アルミナファイバー断熱材と、強制空冷機能を備えたダブルシェル設計を採用しています。これにより熱損失を最小限に抑え、オペレーターの安全のために炉の表面温度を低く保ち、エネルギー消費を削減します。
• 堅牢で長持ちする構造：モリブデン添加抵抗加熱ワイヤーコイルは、熱放射特性を最適化するように専門的に構成されており、過酷な使用環境下でも長い耐用年数を保証します。
• コンパクトで多用途なデザイン：設置面積が小さいため、機能や性能を損なうことなく、さまざまなラボスペースに適しています。
• 向上したユーザーエクスペリエンス (KT-12M Pro)：7インチTFTスマートタッチスクリーンコントローラーは、直感的なプログラミング、複数の加熱プロファイルの保存、履歴データへの簡単なアクセスを提供し、ワークフローと分析を合理化します。
• 統合された安全インターロック：炉のドアが開いた場合、過昇温が発生した場合、またはセンサーが破損した場合に自動的に電源を遮断し、オペレーターと機器の安全を確保します。
• 汚染のない環境：マッフル設計により、材料を直接の熱源や燃焼副産物から隔離します。これはサンプルの純度を維持するために極めて重要です。

技術仕様

幅広い用途

KINTEKのマッフル炉は、精密な温度制御と燃焼汚染物質からの隔離を提供する、不可欠な高温加熱装置です。これにより、さまざまな産業およびラボ環境での幅広い用途に最適です。

• サンプルの灰化：有機および無機材料の残留成分を測定するために重要です。
• 熱処理：金属や合金の焼きなまし、焼き入れ、焼き戻しを行い、目的の材料特性を得るために不可欠です。
• 材料研究：高温下での材料の挙動の研究や、新材料の合成に使用されます。
• ガラスの溶融と融着：テクニカルセラミックスやエナメルコーティングを含む用途に最適です。
• はんだ付けとろう付け：強固で信頼性の高い接合部を作成するために必要な高温を提供します。
• テクニカルセラミックス：精密な熱処理を必要とするセラミックスの製造と試験に使用されます。
• エナメルコーティング：さまざまな基材に耐久性があり美的なエナメルコーティングを施します。

標準パッケージ

オプション設定とカスタマイズ

特定の実験ニーズに合わせて、炉の機能を強化できます。

• 独立した炉内温度監視および記録システム。
• PCリモートコントロールおよびデータエクスポート用のRS 485通信ポート。
• 不活性ガス入口、排気出口、または観察窓用のポート。
• タッチスクリーン温度コントローラーへのアップグレード（KT-12M標準モデル用）。

ユニークな実験には特定のソリューションが必要であることを私たちは理解しています。これらの標準オプションに加えて、KINTEKは高度なカスタマイズに長けています。特定の炉内サイズ、ポート構成、またはその他の特別な要件については、お問い合わせください。

高度な安全システム

• 過電流および過昇温保護：過電流または過昇温状態が検出されると、炉は自動的に電源を遮断しアラームを作動させ、サンプルと機器の両方を保護します。
• 熱電対故障検出：熱電対の破損や故障を検出する機能が組み込まれています。問題が特定されると加熱が停止しアラームが鳴り、制御不能な加熱を防ぎます。
• 停電復帰 (KT-12M Pro)：停電後の電力復旧時に加熱プログラムを自動的に再開するように設定でき、プロセスの連続性を確保します。

動作原理

KINTEKマッフル炉は間接加熱の原理で動作します。密閉されたセラミックマッフル室の外側に配置された加熱エレメントがマッフルを加熱し、マッフルが内部のコンテンツに均一に熱を放射します。この設計により、精密な温度制御が保証され、加熱エレメントへの直接の露出や燃焼による潜在的な汚染物質からサンプルが保護されます。これは材料の純度と完全性を維持するために不可欠です。

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KINTEKのKT-12Mシリーズ マッフル炉は、ラボが求める信頼性、精度、安全性を提供します。日常的な用途向けの標準モデルから、ユニークな実験課題向けの完全カスタマイズソリューションまで、当社のチームがサポートいたします。

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