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PVDとCVD薄膜成膜の主な違いを、温度、カバレッジ、半導体などへの応用を含めて探ります。
CVDとPVDの薄膜堆積における主要な違い（コンフォーマリティ、温度、材料適合性など）を、ラボのニーズに合わせて学びましょう。
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PVDとCVDの違いを探る：プロセスタイプ、温度、コーティングの均一性、およびラボと産業向けの用途。
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真空チャンバーが酸化を防ぎ、Inconel 718およびBNi-2合金のTLP接合における濡れ性を確保し、欠陥のない接合を形成する方法を学びましょう。
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