真空黒鉛化炉での抵抗加熱には、最適な性能を確保するための特定のパラメータが必要です。主な仕様には、作業領域サイズ(1300x1300x2000 mm~2000x2000x4000 mm)、最高温度(2600℃)、温度均一性(±10~±20℃)、真空レベル(極限真空度50 Pa)、圧力上昇率(0.67 Pa/h)などがあります。これらの炉は抵抗加熱と誘導加熱の両方に対応し、グラファイトベースやオールメタル設計など、さまざまな加工ニーズに対応する構成となっています。金属熱処理、セラミック焼結、電子部品製造などの用途に汎用性があり、制御された環境、エネルギー効率、精密な温度制御を提供します。
キーポイントの説明
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作業エリアのサイズ
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標準寸法
- 1300x1300x2000 mm
- 1500x1500x3000 mm
- 2000x2000x4000 mm
- 大きなサイズは大量処理に対応し、小さなサイズは実験室での実験や電子部品製造のような精密作業に適しています。
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標準寸法
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温度パラメーター
- 最高温度 2600℃、黒鉛化やセラミック焼結のような高温プロセスに適しています。
- 均一性 10~±20°Cで、ワーク全体に一貫した結果を保証。
- 真空浸炭炉の機種により、抵抗発熱体 (グラファイトやMoSi2など) または誘導加熱により達成されます。 真空浸炭炉 構成
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真空性能
- 究極の真空:50Pa、酸化と汚染を最小限に抑えるために重要。
- 圧力上昇率:0.67Pa/h、長期安定運転のためのリークタイト構造を示す。
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加熱構成
- 黒鉛ベース:カーボンフェルトとグラファイトフォイルを使用し、高い熱効率とコストパフォーマンスを実現。
- オールメタル:超クリーンな環境(例:航空宇宙部品)用のモリブデン/ステンレス鋼構造。
- どちらも、均一冷却のためのガス冷却システムを備えています。
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用途
- 金属の熱処理(焼き入れ、焼きなまし)
- セラミック/ガラス加工(焼結、溶解)。
- 電子機器製造(抵抗器、コンデンサー)。
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制御と安全機能
- プログラマブルPID/PLCコントローラ(51セグメントプロトコル)。
- 過熱保護と自動シャットダウン機構。
- オプションで遠隔監視用のPC統合が可能。
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材料の利点
- 低熱伝導性、高耐食性、長寿命。
- 安定した化学的特性による再現性の高い結果
これらの仕様がお客様の熱処理や焼結の特殊な要求にどのように合致するかを検討されましたか? 炉のサイズ、温度、真空性能のバランスが、半導体製造や先端合金開発のようなニッチな用途への炉の適合性を決定することがよくあります。
総括表
仕様 | 詳細 |
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作業エリアサイズ | 1300x1300x2000 mm~2000x2000x4000 mm |
最高温度 | 2600°C |
温度均一性 | ±10~±20°C |
極限真空 | 50 Pa |
圧力上昇率 | 0.67 Pa/h |
加熱構成 | 黒鉛ベースまたはオールメタル(Mo/ステンレス鋼) |
用途 | 金属熱処理、セラミック焼結、電子部品製造 |
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