70mm管状炉は、そのコンパクトなサイズ、高温能力、精密な制御、さまざまな工業および研究用途への適応性により、多用途に使用できると考えられています。モジュール設計により、温度プロファイル、ガス雰囲気、処理パラメーターのカスタマイズが可能で、材料合成、熱処理、特殊熱処理に適しています。マルチゾーン加熱や回転チューブ機構などの機能により、勾配加熱や均一な材料処理への柔軟性がさらに高まります。
ポイントを解説
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コンパクトサイズで高温対応
- 直径70mmは、ワークスペースの容積とスペース効率のバランスを保ち、ラボや生産ラインへの組み込みを可能にします。
- H18-40HTのような機種は最高1760°Cの温度を達成し、焼結、アニーリング、回転式管状炉などのプロセスに対応します。 回転式管状炉 粉体混合用
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正確な温度制御
- デジタルコントローラーとマルチゾーン加熱(例:3H18-40HT)により、触媒研究や連続的な物質反応に不可欠な勾配温度プロファイル(±1℃の精度)が可能です。
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適応可能なガス雰囲気システム
- 統合されたガス流量計と真空ポンプは、不活性(Ar/N₂)、還元性(H₂)、または酸化性(O₂)環境を可能にし、汚染なしにCVDや金属硬化などのプロセスをサポートします。
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モジュール式コンポーネント
- 交換可能な石英/アルミナチューブ、シール保護用チラー、調整可能な回転数(ロータリーモデルの場合)は、多様な原料(粉体、ワイヤー、基板)に対応します。
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産業横断的アプリケーション
- 半導体(ウェーハアニール)、冶金(合金処理)、学術(ナノ材料合成)で使用され、研究開発および生産スケールの両方で汎用性を示しています。
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カスタマイズオプション
- 滞留時間、チューブの傾斜、パウダーベッドの深さなどのパラメーターは、回転式に見られるようにカスタマイズが可能で、プロセス固有の最適化を保証します。
これらの機能を組み合わせることで、70mm管状炉はユーザーフレンドリーな操作性を維持しながら、複雑な熱要求に対応します。
総括表
特徴 | メリット |
---|---|
コンパクトサイズ | 十分な作業スペースを確保しながら、研究室や生産ラインに簡単に設置できます。 |
高温(1760℃まで) | 焼結、アニール、その他の過酷な熱プロセスに対応。 |
精密制御(±1) | マルチゾーン加熱により、触媒研究のためのグラジエントプロファイルが可能になります。 |
適応可能なガスシステム | CVD、金属硬化などの不活性、還元、酸化性雰囲気 |
モジュール式コンポーネント | 交換可能なチューブ、チラー、回転機構でカスタマイズが可能。 |
産業横断的な使用 | 半導体、冶金、ナノ材料の研究開発/生産に最適。 |
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