管状炉の真空およびガスハンドリングは、正確な雰囲気条件を作り出すために設計された特殊なコンポーネントと制御システムの組み合わせによって可能になります。これらの機能には、圧力制御のための真空ポンプシステム、保護ガスや反応性ガスを導入するためのガス出入口ポート、真空の完全性を維持するための高度なシール機構、高度な温度・雰囲気制御システムなどが含まれます。これらの要素の統合により、酸化のない処理、制御された化学反応、均一な材料処理が可能になり、管状炉は精密な環境制御が重要な研究・工業用途に不可欠なものとなります。
キーポイントの説明
-
真空ポンプシステム
- 炉はシールフランジを介して真空ポンプに接続され、低圧または真空環境を作り出すことができます。
- これにより、アニール、ろう付け、焼結などのプロセスで重要な酸化や不純物の生成を最小限に抑えます。
- 真空レベルは、デジタルディスプレイとプログラム可能なセットポイントによって監視・制御されます。
-
ガスハンドリング機能
- 不活性ガス（アルゴン、窒素など）や反応性ガス（水素、酸素など）の導入が可能です。
- ガスバックフィリングシステムは、真空フェーズ後に常圧に戻し、安全性とプロセスの柔軟性を確保します。
- 用途としては、浸炭、還元反応、特定の気相化学物質の生成などがあります。
-
シーリングとフランジ設計
- 高温シール（Oリング、メタルガスケットなど）はガス漏れを防ぎ、真空の完全性を維持します。
- フランジはしばしば水冷され、長時間の高温操作でもシールを保護します。
- クイックリリース機構は、チューブの出し入れを容易にします。
-
温度および雰囲気制御
- 高度なPIDまたはファジーロジックコントローラーが、加熱ランプ、ソーク、冷却速度を調節します（精度±1℃）。
- マルチゾーン設計 ベンチトップ炉 機種) により、複雑なプロセスでも独立した温度プロファイルが可能です。
- 過熱保護と非常停止により、安全な運転が保証されます。
-
均一加熱と安全性
- ヒーターエレメントがチューブの長さ方向に均等に熱を分配します（±5℃の安定性）。
- インターロックにより、真空度やガス流量が設定値から逸脱した場合の運転を防止。
- データロガーは、品質保証と再現性のためにプロセス変数を追跡します。
これらの機能により、冶金から半導体製造に至るまで、様々な産業界の要求に応えつつ、最適な大気条件下での精密な材料加工が可能になります。
要約表
| 機能 | 機能 | 主な利点 |
|---|---|---|
| 真空ポンプシステム | 低圧・真空環境を実現 | 酸化や不純物を最小限に抑える |
| ガスハンドリングポート | 不活性/反応性ガスの導入 | 制御された化学反応を可能にする |
| 高温シール | 真空の完全性を維持 | プロセスの一貫性と安全性を確保 |
| 高度な温度制御 | 加熱/冷却速度の調整（±1） | 均一な材料処理を実現 |
| 安全インターロック | 逸脱時の操作を防止 | 装置とサンプルの保護 |
KINTEKの精密管状炉でラボの能力をアップグレードしましょう！ カスタマイズ可能な真空およびガスハンドリングシステムを含む当社の先進的な高温ソリューションは、研究および産業用途の厳しい要求を満たすように設計されています。無酸化アニール、制御雰囲気焼結、特殊気相反応など、どのようなニーズにも対応します。 マッフル炉、管状炉、回転炉 は比類のない性能と信頼性を提供します。 お問い合わせ をクリックしてください！
お探しの製品
正確なガス流量制御のための高真空バルブ リアルタイムプロセス監視用観察窓 真空フランジ部品による漏れのないシール 耐久性に優れたSiC発熱体による安定した性能 サファイアサイトウインドウによる高温での視認性
