
Atmosphere Furnace
不活性窒素水素雰囲気制御炉
商品番号 : KT-16AH
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 最高温度
- 1600℃
- 発熱体
- モリブデン線
- 温度制御精度
- ±1℃

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水素雰囲気炉を探る:詳細と部品




KINTEKの先進的水素雰囲気炉
KINTEK 水素雰囲気炉は、制御された水素または不活性ガス環境下での材料の精密な焼結またはアニール用に設計された特殊加熱装置で、最高1600℃まで温度調整が可能です。KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、多様な研究所や産業施設に先進的な高温炉ソリューションを提供しています。この炉は当社の品質へのこだわりを体現しており、空冷・水冷システムを統合した堅牢な二重シェル構造、均一加熱のための高純度モリブデンワイヤー発熱体、水素テールガスの自動点火や圧力制御システムを含む高度な安全機構を特徴としています。
光学材料やチタン合金のような高感度材料の処理に最適なこの炉は、還元性または不活性ガス雰囲気下での精密かつ安全で効率的な運転を保証します。マッフル炉、管状炉、回転炉、真空・雰囲気炉、CVD/PECVD/MPCVDシステムを含む当社の広範な製品ラインは、お客様独自の実験・生産要件を的確に満たす強力なカスタマイズ能力によって補完されています。
最適な性能と安全性を実現する主な機能
水素雰囲気炉は、クリティカルな焼結やアニーリングプロセスにおいて正確な環境制御を提供し、操作の安全性を確保するための最先端の機能を備えています。この炉は水素または不活性ガス雰囲気での処理を必要とする材料に特に有益です。
- 高度な冷却機能を備えた堅牢な二重シェル構造: 空冷および水冷システムを備えた二重構造のシェルが特徴です。これにより、0.02MPa(正圧)から-0.1MPa(負圧)までの安定した内圧を維持し、最適な材料処理を実現します。
- 高精度ガス流量制御 窒素用と水素用の大流量計2台(各0~3.5L/min)を装備し、ガス流量をきめ細かく制御。これは、所望の雰囲気組成を維持し、一貫した高品質の結果を得るために不可欠です。
- 包括的な水素安全システム 安全性を最優先するため、炉には水素テールガス自動点火システムが装備されています。点火に失敗した場合、自動的に水素供給を遮断し、窒素バルブを開いて炉内を窒素でパージし、危険な状態を防止します。
- 高純度モリブデンエレメントによる優れた加熱: 発熱体には純度99.99%のモリブデン線を使用し、高品質の焼結およびアニールに不可欠な均一で効率的な加熱を実現します。
- 幅広い温度範囲 周囲温度から1600°Cまで調整可能な使用温度範囲を提供し、研究室での研究および工業用途の両方で、多様な材料およびプロセスに対応します。
産業界における多様な用途
水素雰囲気炉は、特に水素や不活性ガスなど、綿密に制御された環境を必要とするさまざまな高温プロセス用に設計された特殊装置です。酸化やその他の化学反応を防ぐことが重要で、処理材料の完全性と品質を保証する用途に最適です。
- 先端材料の焼結: 特に、酸化を防ぐために特殊な雰囲気が要求される高性能セラミックや金属に最適です。
- アニールプロセス: 材料、特に金属の加熱と冷却を制御し、内部応力を除去し、材料を軟化させ、電気的特性を変化させるために使用される。
- チタン合金の熱処理 チタンとその合金を制御された水素または不活性ガス環境で熱処理し、機械的特性を向上させ、表面汚染を防止するために不可欠です。
- 光学材料の処理 光学的な透明度と性能を維持するために、清浄で制御された雰囲気を必要とする蛍光体やその他の発光物質のような光学材料の焼結やアニーリングに非常に有用です。
- 研究開発: 研究室や研究施設において、制御された雰囲気中での高温反応を伴う実験に広く使用され、新しい材料やプロセスの開発に役立っている。
- 電子部品の製造: 高い性能と信頼性のために精密な温度制御とクリーンな環境を必要とする半導体やその他の電子部品の製造に欠かせない。
動作原理
水素雰囲気炉は、漏れのないフランジを備えたセラミック管を利用して、水素雰囲気中で最高1600℃までの熱処理を可能にします。水素ガスを導入する前に、安全のために管内に不活性ガスが充填されます。不活性ガスで加圧されたフラッディング・タンク・システムは、熱処理前に管内に残存する酸素をパージします。ガス排出システムはアフターバーナーに接続され、排出された水素を燃焼させます。発熱性水素雰囲気は表面酸化物を減少させ、ろう付け時のフィラーの濡れ性と流動性を向上させます。
KINTEK水素雰囲気炉の利点
KINTEK の水素雰囲気炉を選択することにより、大きな利点が得られ、お客様の高温処理ニーズに最適な選択となります:
- 酸素排除の強化: 加圧環境と堅牢なシーリングにより、酸素の侵入を確実に防止し、デリケートなプロセスや材料の完全性に不可欠な完全に制御された雰囲気を提供します。
- 還元力の最大化: 分圧雰囲気よりも反応性の高い水素分子を利用できるため、還元力が最大化され、強力な還元環境を必要とするプロセスに不可欠です。
- 混合ガスによる多様性: 不活性ガス(窒素やアルゴンなど)を水素と混合して使用できる柔軟性があり、還元能力を維持しながら、運転コストや投資コストを最適化できる可能性があります。
- 高度な安全性と信頼性: 全自動フローコントローラーとSIL2規格に準拠した安全装置を装備。炉頂部の水素センサーはリークに即座に反応し、不活性ガスに切り替えてシステムを保護します。
- ユーザーフレンドリーな操作 直感的なタッチパネル・インターフェイスにより、操作と制御が簡素化され、様々な技術的専門知識を持つユーザーが炉にアクセスできます。
- 多様なニーズに対応 様々な使用スペースや温度に対応できます。コールドウォール炉は1800 °Cを超える要求にも対応可能で、当社のカスタマイズ能力の高さを示しています。
- 優れたシール効率: 炉扉に装備された高温耐性のシリカゲルシールリングが優れた密閉性を確保し、真空生成やその他様々な雰囲気に対応可能で、炉の汎用性を高めます。
技術仕様
炉型式 | KT-16AH | ||
---|---|---|---|
最高温度 | 1600℃ | ||
定常作業温度 | 1500℃ | ||
真空圧力 | 0.1Mpa | ||
真空バルブ | ニードルバルブ | ||
チャンバー材質 | 日本アルミナ繊維 | ||
発熱体 | モリブデンワイヤー | ||
加熱速度 | 0~20℃/分 | ||
温度センサー | B型サーマルカップル | ||
温度コントローラー | タッチスクリーンPIDコントローラー | ||
温度制御精度 | ±1℃ | ||
温度均一性 | ±5℃ | ||
電源 | AC110-220V、50/60Hz | ||
標準チャンバーサイズ | |||
チャンバーサイズ(mm) | 有効容積 (L) | チャンバーサイズ(mm) | 有効容積(L) |
150x150x200 | 4.5 | 300x300x400 | 36 |
200x200x300 | 12 | 400x400x400 | 64 |
顧客の設計サイズおよび容積は受け入れられる |
標準温度制御 |
|
---|---|
温度制御の任意 |
|
炉の構造 | 二重冷却ファンを備えた二層鋼製ケーシング、表面温度60℃以下 |
炉扉 |
|
保証 |
|
水素炉使用上の注意 |
|
KINTEK で炉のソリューションをカスタマイズする
KINTEK では、ユニークな実験および生産要件には個別のソリューションが必要であることを理解しています。当社の水素雰囲気炉は、チャンバーサイズや温度範囲から特殊な制御システムまで、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズすることができます。当社の専門家チームがお客様の用途を検討し、最適な炉の設計をお手伝いします。
高温プロセスを強化する準備はできていますか?
水素雰囲気炉の詳細、カスタマイズのご相談、またはお見積もりのご依頼については、今すぐお問い合わせください。KINTEKの高度な炉技術に関する専門知識をお客様の研究と生産にお役立てください。
FAQ
雰囲気炉の用途は?
雰囲気炉の主な特徴は?
雰囲気炉の仕組み
雰囲気炉を使用する利点は?
雰囲気炉で使用できるガスの種類は?
高度な雰囲気炉にはどのような安全機能がありますか?
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