真空黒鉛化炉の中周波誘導加熱は、精密な制御と均一性を備えた高温用途向けに設計されています。主な仕様は、作業領域サイズ（700x700x1500 mm～1000x1000x2000 mm）、最高温度2850℃、温度均一性±15～±20℃です。炉は50 Paの極限真空下で作動し、0.67 Pa/hの圧力上昇率を維持します。これらの炉は汎用性が高く、中周波誘導加熱と抵抗加熱の両方に対応し、材料科学、半導体研究、積層造形に使用される。堅牢な構造、優れた熱特性、自動運転のための高度な制御システムが特徴です。
キーポイントの説明
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作業エリアのサイズ:
- 標準寸法は700x700x1500mm、800x800x1600mm、1000x1000x2000mm。
- これらのサイズは、さまざまな産業および研究用途に対応し、さまざまなワークサイズへの柔軟性を保証します。
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温度仕様:
- 最高温度：2850℃、黒鉛化や焼結などの高温プロセスに最適。
- 温度均一性：±15～±20℃、ワーク全体に一貫した加熱を保証し、信頼性の高い結果を実現。
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真空性能:
- 極限真空度：50Pa、高温プロセスでの酸化やコンタミネーションの防止に重要。
- 圧力上昇率0.67Pa/h。炉が長時間にわたって安定した真空環境を維持できることを示している。
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加熱方法:
- 中周波誘導加熱と抵抗加熱の両方に対応。
- 中周波誘導加熱は迅速で局所的な加熱に最適で、抵抗加熱は均一な温度分布が得られます。
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材質と構造:
- 振動、熱、腐食に強く、耐久性に優れ、長寿命。
- 熱伝導率が低く、熱融着性に優れ、エネルギー効率と性能が向上します。
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用途:
- 材料科学セラミックス、複合材料、ナノ材料の合成
- 半導体研究アニールと拡散プロセス
- 生物医学工学生体適合性インプラントの焼結。
- 積層造形：3Dプリント部品の後処理。
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制御と自動化:
- 自動加熱、冷却、ドエルタイムプロトコル用のプログラマブルコントローラ（51セグメントPID/PLCシステム）。
- タッチスクリーンインターフェースとオプションのPC統合により、リモートコントロールとデータロギングが可能です。
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安全機能:
- 安全運転を保証する過熱保護と自動シャットダウン機構。
- サイリスタコントローラやSCADAシステムなどの高度な計装オプションにより、正確な監視が可能。
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高温加熱エレメント:
- 高温発熱体 高温発熱体 グラファイトなどの高温発熱体は、過酷な条件下での安定性と効率で知られています。
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多用途性:
- 高純度金属の溶解、鋳造、精錬など、宝飾品、航空宇宙、バルブ製造など多様な産業で使用されています。
これらの仕様により、真空黒鉛化炉の中周波誘導加熱は、精密性、耐久性、高度な制御機能を兼ね備え、高温の産業および研究用途に信頼できる選択肢となっています。
総括表
| 仕様 | 詳細 |
|---|---|
| 作業領域サイズ | 700x700x1500 mm～1000x1000x2000 mm |
| 最高温度 | 2850°C |
| 温度均一性 | ±15〜±20 |
| 極限真空 | 50 Pa |
| 圧力上昇率 | 0.67 Pa/h |
| 加熱方式 | 中周波誘導＆抵抗加熱 |
| 用途 | 材料科学、半導体研究、積層造形 |
| 制御システム | 51セグメントPID/PLC、タッチスクリーン、遠隔監視 |
| 安全機能 | 過熱保護、自動シャットダウン、SCADA統合 |
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