分割式管状炉は、材料科学や化学処理などの産業における多様な高温処理ニーズに対応するための多様な構成オプションを提供します。主な選択肢には、シングルまたはマルチゾーン加熱、温度範囲 (最高1800°C) に応じた多様な発熱体 (SiC、MoSi2、カンタル)、カスタマイズ可能な管寸法 (直径50-120mm、ホットゾーン300-900mm) などがあります。断熱前庭や段階的断熱層などの熱管理機能は効率を高め、水冷式エンドキャップやプログラム可能なマルチゾーン制御などのオプションは精密な温度調節を実現します。これらの炉は、以下のような制御された雰囲気での処理を必要とする用途で特に威力を発揮します。 化学蒸着炉 .
キーポイントの説明
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暖房ゾーンの構成
- シングルゾーン :均一な温度が要求される個別サンプルの処理に最適
- マルチゾーン :複数サンプルの同時処理や温度勾配の作成が可能（結晶化研究など）
- プログラム可能なゾーン :加熱/冷却サイクル中の複雑な温度プロファイルのための独立した温度制御が可能
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温度範囲と発熱体
- 1200℃モデル :コストパフォーマンスの高いカンタル発熱体を採用
- 1500-1800℃モデル :炭化ケイ素（SiC）または二ケイ化モリブデン（MoSi2）元素を採用
- カスタムオプション :特殊な超高温用途に使用可能
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チューブ寸法とカスタマイズ
- 標準直径 :50mm、80mm、100mm、120mmでさまざまなサンプルサイズに対応
- ホットゾーン長さ :標準300mmまたは600mm（大型加工は900mmまで延長可能）
- 特注材料 :石英管、アルミナ管、特殊合金管など、化学的適合性のニーズに応じて選択可能
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熱管理機能
- 断熱前庭 :サンプルへのアクセスを可能にしながら、チューブ開口部での熱損失を最小限に抑えます。
- 段階的断熱 :熱効率と温度均一性を最適化する多層設計
- 水冷式エンドキャップ :繊細なセットアップにおける外部コンポーネントへの熱伝達を防止
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制御と自動化オプション
- 基本コントローラー :シンプルな温度セットポイントとランプレート用
- 高度なプログラマブル・ロジック :複数のホールドステージによる複雑なサーマルプロファイルが可能
- 雰囲気制御 :制御環境処理用ガス供給システムとの統合
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特殊な構成
- 水平方向 :ローディング/アンローディングが容易なバッチ処理用コモン
- クイック分割設計 :加熱室へのアクセスが容易でメンテナンスが容易
- 真空対応モデル :減圧環境を必要とするアプリケーション向け
シングルゾーンとマルチゾーン構成の選択が、実験スループットや熱プロファイル精度にどのような影響を与えるか、検討されたことはありますか？このような汎用性の高いシステムは進化を続けており、研究者や技術者に高温材料処理のためのますます洗練されたツールを提供しています。
総括表
| 機能 | オプション |
|---|---|
| 暖房ゾーン | シングルゾーン、マルチゾーン、プログラマブルゾーン |
| 温度範囲 | 最高1800℃（SiC/MoSi2エレメント）、1200℃（カンタル） |
| チューブ寸法 | 直径50～120mm、ホットゾーン300～900mm、石英/アルミナ/合金材質 |
| 熱管理 | 断熱前庭、段階的断熱、水冷式エンドキャップ |
| 制御システム | 基本コントローラー、高度なプログラマブル・ロジック、大気制御 |
| 特殊設計 | 水平/垂直方向、クイック分割、真空対応モデル |
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