横型管状炉は、アニール、材料試験、化学合成のような高温プロセスの実験室や工業環境で広く使用されています。その加熱室は、効率性、安全性、精密な温度制御のために設計されています。共通の特徴として、試料へのアクセスが容易な水平配置、均一な加熱分布、大気圧または真空制御のための堅牢なシール機構があります。高度なシステムでは、遠隔監視と自動化のためのインテリジェント制御も統合され、操作の安全性と生産性が向上します。
キーポイントの説明
-
水平方向とアクセス性
- 特に長いチューブや連続したチューブに対応し、サンプルの設置や取り扱いが容易にできるよう設計されています。
- 炉を分解することなく試料を出し入れできるエンド/トッププラグが装備されています。
- 機種によっては ボトムリフト炉 底部昇降炉は、チャンバーへの垂直アクセスを可能にし、柔軟性を高めます。
-
加熱機構と均一性
- 絶縁材料に埋め込まれた電気抵抗発熱体(カンタルや炭化ケイ素など)を使用。
- 中央のホットゾーンは、アニールなどのプロセスで重要な一貫した温度分布を確保します。
- 熱勾配を避けるための精密な制御により、1000℃を超えることが可能です。
-
シールと雰囲気制御
- ステンレスフランジは、真空または制御された雰囲気(不活性ガスなど)用の気密シールを作成します。
- 内蔵ポンプが酸素を除去して酸化を防ぐので、繊細な化学反応に最適です。
- 安全インターロックが運転中の漏れを防ぎます。
-
チャンバー寸法と容量
- 標準化されたサイズ(例:30 x 20 x 12 cm)で、さまざまなサンプル量(モデルによっては最大7.2リットル)に対応。
- 横型レイアウトは、細長い試料のバッチ処理に対応。
-
高度な制御システム
- プログラマブル・コントローラーは、正確な温度上昇と保持を可能にします。
- 遠隔監視によりヒューマンエラーを減らし、工業規模の自動化をサポートします。
- 過熱保護機能により、熱暴走を防止します。
-
用途と汎用性
- 加熱中にサンプルの観察や回転が必要なプロセスに最適。
- 研究(材料試験など)や生産(連続CVDコーティングなど)に使用。
これらの特徴を総称して、信頼性、安全性、科学的・工業的ワークフローへの適応性を保証します。
要約表
機能 | 説明 |
---|---|
横向き | エンド/トッププラグまたはボトムローディングオプションによる柔軟性で、サンプルアクセスが容易。 |
加熱機構 | 電気抵抗素子により、1000℃+まで均一に加熱。 |
シールと雰囲気 | 真空/不活性ガス制御用気密フランジ、安全インターロックが漏れを防止。 |
チャンバー寸法 | 長尺サンプルのバッチ処理用に標準化されたサイズ(例:30 x 20 x 12 cm)。 |
制御システム | 遠隔監視と過熱保護機能を備えたプログラマブルコントローラ。 |
用途 | アニール、CVD、試料観察/回転を伴う材料試験に最適です。 |
KINTEKの先進的な水平管状炉で、ラボの効率をアップグレードしてください! KINTEKのカスタム設計ソリューションは、高精度加熱、堅牢な雰囲気制御、インテリジェントな自動化により、お客様独自の研究・生産ニーズにお応えします。 お問い合わせ 高温炉システムに関する当社の専門知識が、お客様のワークフローをどのように強化できるかをご相談ください。