真空炉システムは、高温用途に合わせた幅広い温度能力、精密な制御、高度な機能を提供します。1000℃から2000℃までのシリーズ・オプションにより、様々な産業ニーズに柔軟に対応します。このシステムには、PLCベースのタッチパネル、データロギング、緊急機能などの高度な制御が含まれており、安全性と効率性を保証します。複数の熱電対や特殊な発熱体などの追加オプションにより、汎用性がさらに高まります。真空炉の設計は低汚染性と高均一性を保証し、金属加工やその他の高温用途に理想的です。
キーポイントの説明
-
シリーズ別温度性能
- 10シリーズ:1000°C (1832°F)
- 13シリーズ:1315°C (2400°F)
- 14.5シリーズ:1415°C (2650°F)
- 16.5シリーズ:1650°C (3000°F)
- 20シリーズ 2000°C (3632°F)
- これらのオプションは、基本的な熱処理から極端な高温プロセスまで、多様な産業要件に対応します。
-
精度と制御
- 温度制御:制御可能温度+/-1℃、公称均一温度+/-5℃。
- 電源:安定した性能を発揮するSCRレギュレーション
- ヒートコントロール:正確な調整のための独立したPIDループ制御によるシングルゾーン。
- オペレーターインターフェース:プログラム可能なランプ、ソーク、ポンプダウンやベントなどの自動機能用PLC付きカラータッチパネル。
-
高度な機能
- データロギング:品質保証のためのプロセスパラメータの追跡
- 安全メカニズム:過熱防止機能、緊急停止機能
- 真空表示:リアルタイムモニター用デジタル表示。
- 標準熱電対:荷重中心熱電対により正確な温度測定が可能。
-
動作圧力範囲
- 真空範囲:2バールまでの高真空(より高い圧力も可能)。
- 最高温度での使用圧力:1torrまでの高真空(必要に応じて拡張可能)。
- クエンチオプション:6バールの急冷が可能。
-
カスタマイズ可能なオプション
- 加熱エレメント:特殊な用途にはグラファイトまたはタングステンを使用。
- 絶縁:モリブデン含有ステンレス鋼製格納容器で耐久性に優れています。
- モニタリングツール:マルチサーベイ熱電対とマルチチャンネルストリップチャートレコーダー。
- 電源バックアップ:プロセス継続のための無停電電源装置(UPS)。
-
設計と機能
- チャンバータイプ:ホットウォール炉とコールドウォール炉があり、コールドウォール炉の方が温度範囲が広く、サイクルが速く、均一性に優れています。
- 装入オプション:垂直または水平ローディングの柔軟性
- ポンプシステム:エアを除去し、低汚染で安定性の高い環境を作ります。
-
用途
- 金属熱処理、ろう付け、焼結、その他精密さと最小限のコンタミを必要とする高温プロセスに最適です。
真空炉システムの詳細については、以下をご覧ください。 真空洗浄炉 .
このシステムは、高温性能と高度な制御および安全機能を兼ね備えており、工業用および実験室用アプリケーションの信頼できる選択肢となっている。
概要表
特徴 | 仕様 |
---|---|
温度範囲 | 10シリーズ1000°C |
制御精度 | +/-1℃の制御性、+/-5℃の均一性 |
安全性とモニタリング | 過熱制御、緊急停止、デジタル真空ディスプレイ、データロギング |
カスタマイズ可能なオプション | グラファイト/タングステン発熱体、マルチゾーン熱電対、UPSバックアップ |
用途 | 金属熱処理、ろう付け、焼結、その他の高温プロセス |
精密真空炉でラボをアップグレード!
KINTEKは卓越した研究開発と自社製造により、お客様のニーズに合わせた高度な高温ソリューションを提供します。カスタマイズ可能なマッフル炉、管状炉、回転炉を含む当社の真空炉は、低コンタミネーション、高速サイクル、比類のない一貫性を保証します。
お問い合わせ
お客様のご要望をお聞かせいただき、当社のシステムがどのようにお客様の工業用または研究用プロセスを最適化できるかをご確認ください!
お探しの製品
真空監視用高ホウケイ酸ビューポート
耐久性に優れた炭化ケイ素発熱体
高性能MoSi2発熱体
高精度真空フィードスルー
ステンレス製真空バルブ