管状炉は様々な産業において必要不可欠な設備であり、材料合成から熱処理に至るまで、正確な温度制御と多様な用途に対応する構成を提供します。TF-1200、TF-1400、TF-1600、TF-1800のような標準型は異なる温度要求に対応し、発熱体や管寸法は特定の用途に合わせて調整されます。これらの炉は多くの場合、プログラム可能な制御装置、耐久性のある構造、真空または制御雰囲気との互換性を特徴としており、研究および生産環境において不可欠なものとなっています。
主要ポイントの説明
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標準管状炉の機種と仕様
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TF-1200:
- 最高温度1200°C
- セラミック管寸法内径50mm×ホットゾーン200mmまたは内径80mm×ホットゾーン250mm
- 発熱体FeCrAl（鉄-クロム-アルミニウム）
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TF-1400:
- 最高温度1400°C
- 発熱体炭化ケイ素（SiC）
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TF-1600:
- 最高温度1600°C
- 発熱体二珪化モリブデン(MoSi2)
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TF-1800:
- 最高温度1800°C
- 発熱体MoSi2
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TF-1200:
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管状炉の主な特徴
- 温度制御:プログラム可能なシステムは、正確な加熱速度と均一な温度分布を維持します。
- 構造:耐久性の高いステンレス製ハウジングに、耐高温性のセラミックまたは石英チューブを採用。
- 構成:柔軟な加熱プロファイルのためのシングルまたはマルチゾーン設計。
- 雰囲気制御:真空(10^-5 torrまで)または不活性/活性ガス用のオプションには以下が含まれます。 雰囲気レトルト炉 特殊用途向け
- コンパクト設計:ベンチトップ型は省スペースでありながら、工業用レベルの性能を発揮します。
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幅広い産業分野でのアプリケーション
- 化学工学:樹脂、ゴム、染料の合成
- 食品産業:焼成、乾燥、殺菌工程
- 冶金学:製錬、溶解、熱処理。
- 材料科学:材料密度と微細構造を高める真空焼結。
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高度な機能
- ガス混合システム:テーラーメイドの材料特性を実現するために、ガス組成の精密な制御を可能にします。
- データロギング:プロセスパラメーターのモニタリングと記録のためのソフトウェア統合
- PECVDの互換性:電気的および光学的特性を制御した薄膜蒸着に対応するモデルもある。
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選択上の注意
- 温度範囲:安全性と長寿命のために、最高要求温度を超えるモデルを選択する。
- チューブ寸法:内径とホットゾーンの長さをサンプルサイズとスループットのニーズに合わせます。
- 雰囲気要件:反応性材料や酸素に敏感な材料が使用される場合は、ガス/真空ポートを備えた炉を選択してください。
これらの仕様と特徴を理解することで、購入者は特定のニーズに最適な管状炉を選択し、プロセスの効率性と再現性を確保することができます。
総括表
| モデル | 最高温度 (°C) | 加熱エレメント | チューブ寸法（内径×ホットゾーン） |
|---|---|---|---|
| TF-1200 | 1200 | FeCrAl | 50mm×200mmまたは80mm×250mm |
| TF-1400 | 1400 | 炭化ケイ素 (SiC) | カスタマイズ可能 |
| TF-1600 | 1600 | MoSi2 | カスタマイズ可能 |
| TF-1800 | 1800 | MoSi2 | カスタマイズ可能 |
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