Ts-Ir/Mno2では、炉冷よりも急冷空冷が好まれるのはなぜですか？触媒格子ひずみの最適化

急冷空冷が好ましい方法であるのは、高温で形成された原子構造を「固定する」メカニズムとして機能するためです。TS-Ir/MnO2触媒を急激な温度低下にさらすことで、材料が自然な低エネルギー状態に戻るのを防ぎます。これにより、触媒の反応性にとって重要な特定の構造的欠陥が維持されます。

この冷却方法の主な目的はひずみエンジニアリングです。急冷は格子内に内部引張応力を閉じ込め、ゆっくりとした冷却では失われてしまう高活性な物理構造を作り出します。

ひずみ保持のメカニズム

高温では、材料の原子格子は歪みを起こします。この歪みを触媒作用に利用するには、室温で維持する必要があります。

触媒を急速に空気中に移動させると、急激な温度勾配が生じます。これにより、原子が再配列する時間がないうちに、格子が歪んだ状態で効果的に「凍結」されます。

この急冷の主な目的は、二酸化マンガン（MnO2）格子内に内部引張応力を保持することです。

材料が瞬時に冷却されると、格子構造はピンと張られます。この応力は回避すべき欠陥ではなく、触媒が効果的に機能するために必要な機能的特徴です。

炉冷は、材料が炉環境とともに徐々に冷却されるゆっくりとしたプロセスです。

このゆっくりとした冷却段階では、材料は熱力学的平衡を求めます。これにより応力解放が生じ、原子はリラックスした応力のない状態に落ち着きます。これは他の材料では構造安定性にとって望ましいかもしれませんが、この特定の文脈では触媒上の利点を無効にします。

対照的に、急冷空冷は材料がこの緩和段階をバイパスすることを強制します。

格子が応力を解放する時間を奪うことで、引張ひずみ状態が確実に保持されます。この方法は、材料が平衡に達するのを意図的に防ぎます。

保持された引張応力は、触媒の活性サイトに直接影響します。

具体的には、MnO2格子内の応力により、引張ひずみを受けたイリジウム（Ir）サイトが生成されます。これらのひずみを受けたサイトは、リラックスしたイリジウムサイトと比較して触媒活性が大幅に向上します。

材料科学では、安定したリラックスした構造と高活性なひずみを受けた構造の間には、しばしばトレードオフが存在します。

炉冷はより安定した格子を生成しますが、触媒性能は低下します。急冷は熱力学的に不安定な「ひずみを受けた」格子を生成しますが、この不安定性こそが優れた化学反応速度を促進する要因です。構造的リラックスをピーク性能と引き換えにしています。

目的とする触媒特性を確実に達成するために、特定の目標に基づいた次のアプローチを検討してください。

冷却速度を制御することにより、TS-Ir/MnO2触媒の効率を最大化するために原子幾何学を効果的に調整しています。

冷却方法	冷却速度	構造状態	内部応力	触媒活性
急冷空冷	速い	歪んだ/凍結した	高い引張応力	優れている（ピーク性能）
炉冷	遅い	リラックスした/平衡状態	応力解放済み	低い（制御ベースライン）

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Hui Su, Qinghua Liu. Tensile straining of iridium sites in manganese oxides for proton-exchange membrane water electrolysers. DOI: 10.1038/s41467-023-44483-6

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Kintek Furnace ナレッジベース .