箱型炉は高温用途向けに設計された多目的加熱システムで、最高温度は 1800°Cに達します。精密な温度制御、均一な加熱、長期にわたる信頼性を確保する堅牢な構造を備えています。これらの炉はアニールから焼結に至るまで、工業および研究所の幅広いプロセスに対応し、最適な性能を発揮する高度な制御システムを備えています。エネルギー効率に優れた設計と迅速な昇温能力により、要求の厳しい熱プロセスに最適です。
キーポイントの説明
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温度範囲
- 箱型炉は以下の温度に対応します 1100°Cから1800°C を超える機種もある。
- 上限は炉の設計、発熱体、断熱材によって異なります。
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高度な温度制御
- 搭載 完全にプログラム可能なコントロール 緩やかな加熱のためのランプ・ツー・セットポイント機能を含む
- セルフチューニングPID 最適な温度安定性とプロセスの再現性を保証します。
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均一加熱とプロセスの多様性
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設計
均一な温度分布
のようなプロセスで一貫した結果を得るために重要である：
- アニール
- ろう付け
- 焼結
- 熱処理
- サポート 高密度な負荷構成に対応 パフォーマンスを損なうことなく
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設計
均一な温度分布
のようなプロセスで一貫した結果を得るために重要である：
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エネルギー効率に優れた設計
- ダブルシェル構造 高度な断熱構造により、熱損失を最小限に抑えます。
- モジュール式プレートヒーター 長寿命でワット負荷の制限を回避します。
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さまざまな産業での用途
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用途
セラミックス、冶金、材料試験
などの作業に使用されます：
- 焼成
- 脱バインダー（金属射出成形など）
- 熱サイクル
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用途
セラミックス、冶金、材料試験
などの作業に使用されます：
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安全性と耐久性
- 外部表面温度の低減 作業者の安全性を高めます。
- 頑丈な構造 高温環境での信頼性を確保
箱型炉は工業と研究の両方の厳しい要求を満たすように設計されており、精度、効率、適応性を兼ね備えています。極端な温度で多様なプロセスを処理するその能力は、航空宇宙、自動車、先端材料開発などの分野で不可欠なものとなっています。
総括表
| 特徴 | 詳細 |
|---|---|
| 温度範囲 | 1100℃～1800℃（機種による） |
| 制御システム | ランプ・トゥ・セットポイントとセルフチューニングPIDによるプログラム可能な安定性 |
| 加熱の均一性 | アニール、ろう付け、焼結において安定した結果を保証 |
| エネルギー効率 | 二重シェル構造と高度な断熱材が熱損失を最小限に抑える |
| 用途 | セラミック、冶金、脱バインダー、熱サイクル |
| 安全性と耐久性 | 低い外表面温度、過酷な環境に対応する堅牢な構造 |
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