3ゾーン管状炉の主な機能とは？先端材料の精密熱処理

3ゾーン式管状炉は、アニールや化学蒸着(CVD)などの精密な熱処理用途向けに設計された多用途装置です。独立して制御される3つの加熱ゾーンを備え、優れた温度均一性と勾配制御が可能です。このファーネスは最大60mmの試料サイズに対応し、大気圧および大気圧下を含むさまざまな圧力でのガス供給が可能です。主な機能には、フレキシブルなガスハンドリング、最小限のパーティクル発生、Ar、Ar中4%H2、N2などのプロセスガスへの適合性などがあります。これらの特長により、制御された熱環境を必要とする研究用途や産業用途に最適です。

キーポイントの説明

柔軟な熱処理能力
- 3ゾーン管状炉 3ゾーン管状炉は、1000℃以下のアニールおよび化学気相成長（CVD）用に設計されています。
- 独立して制御される3つの加熱ゾーンにより、均一な材料処理に不可欠な正確な温度勾配が可能になります。
- 真空焼結（材料密度の向上）や真空アニール（応力除去および微細構造の均一化）などの用途があります。
サンプルハンドリングとサイズ適合性
- 最大60mm（2インチ）までのサンプルに対応し、小規模から中規模の実験に適しています。
- 縦型デザインはパーティクルの発生を最小限に抑え、ウェーハ/ボートの自動搬送システムは生産性を向上させます。
先進のガス供給システム
- プロセス/パージガス（Ar、4%H2 in Ar、N2など）を大気圧または大気圧以下で導入するためのマニホールドを装備。
- 石英管は化学的不活性と高温安定性を保証します。
温度と雰囲気の制御
- 材料合成において一貫した結果を得るために重要な、ゾーン間の優れた温度分布。
- 真空または制御された雰囲気での処理をサポートし、酸化に敏感な処理を可能にします。
主要コンポーネントと安全機能
- 加熱システム：効率的なエネルギー利用のための電気抵抗素子（SiC、MoSi2など）。
- 冷却：コンタミネーションを防ぐため、加熱後のサンプル移動を安全に行うためのデシケーター。
- 制御PID/PLCシステムが温度プロファイルとプロセスシーケンスを自動化します。

これらの機能により、3ゾーン管状炉は先端材料開発、半導体加工、精密熱処理に重点を置くラボや産業にとって不可欠なものとなっています。モジュラー設計とガスの柔軟性により、再現性を確保しつつ、進化する研究ニーズに対応します。

要約表

機能	暖房
加熱ゾーン	正確な温度勾配を実現する独立制御の3つのゾーン。
サンプルサイズ	60mm（2インチ）までのサンプルに対応。
ガス供給	Ar、4%H2 in Ar、大気圧/亜大気圧のN2をサポート。
温度制御	安定した材料合成のための優れた均一性
用途	アニール、CVD、真空焼結、酸化に敏感な処理。
安全性と自動化	PID/PLCシステム、デシケータ、不活性石英管による信頼性の高い操作。

精密熱処理でラボをアップグレード
KINTEKの3ゾーン管状炉は、比類のない温度制御、ガスの柔軟性、均一加熱を実現し、先端材料研究や半導体アプリケーションに最適です。KINTEKの社内R&Dと徹底したカスタマイズにより、お客様独自の実験ニーズに確実にお応えします。
お問い合わせ当社の高温炉ソリューションがお客様のワークフローをどのように強化できるかをご相談ください。