マルチゾーン管状炉は、複数の独立制御温度ゾーンにわたる精密加熱用途向けに設計された先進の熱処理システムです。高温能力 (最高1760°C) と卓越した温度均一性、プログラム制御を併せ持つこの炉は、研究、半導体製造、先端材料加工に不可欠です。独自のゾーン構造により、単一の炉室内で異なる温度での同時熱処理が可能で、プロセスの一貫性を向上させながら試料移動の必要性を排除します。堅牢な安全機能と柔軟な電源構成により、熱勾配の制御が重要な産業および研究所の多様な要求をサポートします。
キーポイントの説明
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マルチゾーン温度制御
- 各加熱ゾーンに独立したマスター/スレーブコントローラーを装備
- 異なる温度での同時焼結/処理 (300°C/600°C/900°Cゾーンなど)
- 単一ゾーン炉間の移動エラーを排除
- 半導体ドーパントの拡散やナノ材料の合成に不可欠
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高温性能
- 最高使用温度1760
- 加熱管の長さは通常27インチ(カスタマイズ可能)
- 効率的な抵抗加熱のための炭化ケイ素またはモリブデン発熱体
- 雰囲気レトルト炉 雰囲気レトルト炉 熱能力
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高精度プログラミング
- 複雑な温度プロファイルのためのステッププログラミング
- ゾーン内で±1℃の温度均一性
- 独立センサーによる過熱保護
- プロセス安全のための熱電対ブレークアラーム
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工業用構造
- 220V単相または415V三相電源オプション
- 石英/アルミナプロセス管(オプション)
- ラボ/工場での連続運転用に設計
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多様なアプリケーション
- 材料試験(相転移、クリープ挙動)
- 半導体結晶成長
- 勾配を制御したセラミック焼結
- 段階的加熱を必要とするナノ材料合成
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操作上の利点
- シングルゾーンシステムと比較して30~50%速いスループット
- ゾーン活性化によるエネルギー消費の削減
- 不活性/反応性雰囲気に対応
これらの特徴により、マルチゾーン管状炉は、金属合金の強化から太陽電池材料の最適化まで、熱勾配の制御が材料特性に直接影響を与える汎用ツールとなっています。そのプログラマブルな性質により、研究者は実験室の精度を維持しながら、実際の熱条件をシミュレートすることができます。
総括表
特徴 | 機能説明 |
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マルチゾーン温度コントロール | 各ゾーンに独立したコントローラを搭載し、異なる温度での同時処理が可能。 |
高温性能 | カスタマイズ可能な加熱管長と効率的な発熱体により、最高1760°C。 |
高精度プログラミング | ステッププログラミング、±1℃の均一性、過熱保護などの安全機能。 |
工業用構造 | 柔軟な電源オプションと連続運転能力を備えた堅牢な設計。 |
多様なアプリケーション | 材料試験、半導体成長、セラミック焼結、ナノ材料合成に最適。 |
操作上の利点 | スループットの向上、エネルギー消費量の削減、不活性/反応性雰囲気への対応。 |
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